制造流程简介课程

课课课课 程程程程 名名名名 称称称称:製造流程簡介製造流程簡介製造流程簡介製造流程簡介制制制制 作作作作 单单单单 位位位位:製造處製造處製造處製造處制制制制 作作作作 者者者者:石俊杰石俊杰石俊杰石俊杰/陳祥陳祥陳祥陳祥/姚箭姚箭姚箭姚箭核核核核 准准准准:石智中石智中石智中石智中核核核核 准准准准 日日日日 期期期期:2001/9/26:2001/9/26:2001/9/26:2001/9/26版版版版 序序序序:A:A:A:A 苏州金像电子有限公司苏州金像电子有限公司2001-09-2611 1MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PCBPCB制造流程简介制造流程简介(PA0)(PA0)PA0PA0PA0PA0介绍介绍介绍介绍(发料至发料至发料至发料至DESMEARDESMEARDESMEARDESMEAR前前前前)PA1(PA1(内层课内层课):):裁板裁板;内层前处理内层前处理;压膜压膜;曝光曝光;DES;DES连线连线PA9(PA9(内层检验课内层检验课):CCD):CCD冲孔冲孔;AOI;AOI检验检验;VRS;VRS确认确认PA2(PA2(压板课压板课):):棕化棕化;铆钉铆钉;叠板叠板;压合压合;后处理后处理PA3(PA3(钻孔课钻孔课):):上上PIN;PIN;钻孔钻孔;下下PINPIN2 2MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA1(PA1(内层课内层课)介绍介绍流程介绍流程介绍流程介绍流程介绍:目的目的目的目的:利用利用影像转移原理影像转移原理制作内层线路制作内层线路DESDES为显影为显影;蚀刻蚀刻;去膜连线简称去膜连线简称前处理压膜曝光DES裁板3 3MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA1(PA1(内层课内层课)介绍介绍裁板裁板裁板裁板(BOARD CUT):(BOARD CUT):(BOARD CUT):(BOARD CUT):目的目的目的目的:依制前设计所规划要求依制前设计所规划要求,将基板材料裁切成工作所需尺寸将基板材料裁切成工作所需尺寸主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:基板基板;锯片锯片基板由铜皮和绝缘层压合而成基板由铜皮和绝缘层压合而成,依要求有不同板厚规格依要求有不同板厚规格,依依铜厚可分为铜厚可分为H/H;1oz/1oz;2oz/2ozH/H;1oz/1oz;2oz/2oz等种类等种类注意事项注意事项注意事项注意事项:避免避免板边巴里板边巴里影响品质影响品质,裁切后进行磨边裁切后进行磨边,圆角处理圆角处理考虑涨缩影响考虑涨缩影响,裁切板送下制程前进行烘烤裁切板送下制程前进行烘烤裁切须注意机械方向一致的原则裁切须注意机械方向一致的原则4 4MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA1(PA1(内层课内层课)介绍介绍前处理前处理前处理前处理(PRETREAT):(PRETREAT):(PRETREAT):(PRETREAT):目的目的目的目的:去除銅面上的污染物，去除銅面上的污染物，增增加銅面粗糙度加銅面粗糙度,以利於後續以利於後續的壓膜制程的壓膜制程主要原物料：主要原物料：主要原物料：主要原物料：刷輪刷輪铜箔铜箔绝缘层绝缘层前处理后前处理后铜面状况铜面状况示意图示意图5 5MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA1(PA1(内层课内层课)介绍介绍压膜压膜压膜压膜(LAMINATION):(LAMINATION):(LAMINATION):(LAMINATION):目的目的目的目的:将经处理之基板铜面透过将经处理之基板铜面透过热压热压方式贴上抗蚀干膜方式贴上抗蚀干膜主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:干膜干膜(Dry Film)(Dry Film)溶劑顯像型溶劑顯像型 半水溶液顯像型半水溶液顯像型 鹼水溶液顯像型鹼水溶液顯像型 水溶性乾膜主要是由於其組成水溶性乾膜主要是由於其組成中含有機酸根，會與強中含有機酸根，會與強碱碱反應反應使成為有機酸的鹽類，可被水使成為有機酸的鹽類，可被水溶掉。溶掉。干膜干膜压膜前压膜前压膜后压膜后6 6MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA1(PA1(内层课内层课)介绍介绍曝光曝光曝光曝光(EXPOSURE):(EXPOSURE):(EXPOSURE):(EXPOSURE):目的目的目的目的:经光源作用将经光源作用将原始底片原始底片上的图像转上的图像转移到感光底板上移到感光底板上主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:底片底片内层所用底片为内层所用底片为负片负片,即白色透光部即白色透光部分发生光聚合反应分发生光聚合反应,黑色部分则因黑色部分则因不透光不透光,不发生反应不发生反应,外层所用底片外层所用底片刚好与内层相反刚好与内层相反,底片为正片底片为正片UV光光曝光前曝光前曝光后曝光后7 7MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA1(PA1(内层课内层课)介绍介绍显影显影显影显影(DEVELOPING):(DEVELOPING):(DEVELOPING):(DEVELOPING):目的目的目的目的:用碱液作用将未发生化学反用碱液作用将未发生化学反应之干膜部分冲掉应之干膜部分冲掉主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:NaNa2 2COCO3 3使用将未发生聚合反应之干使用将未发生聚合反应之干膜冲掉膜冲掉,而发生聚合反应之而发生聚合反应之干膜则保留在板面上作为蚀干膜则保留在板面上作为蚀刻时之抗蚀保护层刻时之抗蚀保护层显影后显影后显影前显影前8 8MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA1(PA1(内层课内层课)介绍介绍蚀刻蚀刻蚀刻蚀刻(ETCHING):(ETCHING):(ETCHING):(ETCHING):目的目的目的目的:利用药液将显影后露出的利用药液将显影后露出的铜蚀掉铜蚀掉,形成内层线路图形成内层线路图形形主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:蚀刻药液蚀刻药液(CuCl(CuCl2 2)蚀刻后蚀刻后蚀刻前蚀刻前9 9MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA1(PA1(内层课内层课)介绍介绍去膜去膜去膜去膜(STRIP):(STRIP):(STRIP):(STRIP):目的目的目的目的:利用强碱将保护铜面之抗利用强碱将保护铜面之抗蚀层剥掉蚀层剥掉,露出线路图形露出线路图形主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:NaOHNaOH去膜后去膜后去膜前去膜前1010MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA9(PA9(内层检验课内层检验课)介绍介绍流程介绍流程介绍流程介绍流程介绍:目的目的目的目的:对内层生产板进行检查对内层生产板进行检查,挑出异常板并进行处理挑出异常板并进行处理收集品质资讯收集品质资讯,及时反馈处理及时反馈处理,避免重大异常发生避免重大异常发生CCD冲孔AOI检验VRS确认1111MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA9(PA9(内层检验课内层检验课)介绍介绍CCDCCDCCDCCD冲孔冲孔冲孔冲孔:目的目的目的目的:利用利用CCDCCD对位冲出检验作业之定位孔及铆钉孔对位冲出检验作业之定位孔及铆钉孔主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:冲头冲头注意事项注意事项注意事项注意事项:CCDCCD冲孔精度直接影响铆合对准度冲孔精度直接影响铆合对准度,故机台精度定期确认非故机台精度定期确认非常重要常重要1212MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA9(PA9(内层检验课内层检验课)介绍介绍AOIAOIAOIAOI检验检验检验检验:全称为全称为Automatic Optical InspectionAutomatic Optical Inspection，自动光学检测自动光学检测目的：目的：目的：目的：通过光学反射原理将图像回馈至设备处理，与设定的逻辑通过光学反射原理将图像回馈至设备处理，与设定的逻辑判断原则或资料图形相比较，找出缺点位置判断原则或资料图形相比较，找出缺点位置注意事項：注意事項：注意事項：注意事項：由于由于AOIAOI所用的测试方式为逻辑比较，一定会存在一些误所用的测试方式为逻辑比较，一定会存在一些误判的缺点，故需通过人工加以确认判的缺点，故需通过人工加以确认1313MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA9(PA9(内层检验课内层检验课)介绍介绍VRSVRSVRSVRS确认确认确认确认:全称为全称为Verify Repair StationVerify Repair Station，确认系统确认系统目的：目的：目的：目的：通过与通过与AOIAOI连线，将每片板子的测试资料传给连线，将每片板子的测试资料传给V.R.SV.R.S，并由并由人工对人工对AOIAOI的测试缺点进行确认的测试缺点进行确认注意事項：注意事項：注意事項：注意事項：VRSVRS的确认人员不光要对测试缺点进行确认，另外就是对的确认人员不光要对测试缺点进行确认，另外就是对一些可以直接修补的确认缺点进行修补一些可以直接修补的确认缺点进行修补1414MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA2(PA2(压板课压板课)介绍介绍流程介绍流程介绍流程介绍流程介绍:目的：目的：目的：目的：将铜箔（将铜箔（Copper)Copper)、胶片（胶片（PrepregPrepreg)与氧化处理后的内层与氧化处理后的内层线路板压合成多层板线路板压合成多层板棕化铆合叠板压合后处理1515MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA2(PA2(压板课压板课)介绍介绍棕化棕化棕化棕化:目的目的目的目的:(1)(1)粗化铜面粗化铜面,增加与树脂接触表面积增加与树脂接触表面积(2)(2)增加铜面对流动树脂之湿润性增加铜面对流动树脂之湿润性(3)(3)使铜面钝化使铜面钝化,避免发生不良反应避免发生不良反应 主要愿物料主要愿物料主要愿物料主要愿物料:棕花药液棕花药液注意事项注意事项注意事项注意事项:棕化膜很薄棕化膜很薄,极易发生擦花问题极易发生擦花问题,操作时需注意操作手势操作时需注意操作手势1616MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA2(PA2(压板课压板课)介绍介绍铆合铆合铆合铆合:(:(:(:(铆合铆合铆合铆合;预叠预叠预叠预叠)目的目的目的目的:(:(四层板不需铆钉四层板不需铆钉)利用铆钉将多张内层板钉在一起利用铆钉将多张内层板钉在一起,以避免后续加工时产生层间滑移以避免后续加工时产生层间滑移主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:铆钉铆钉;P/P;P/PP/P(PREPREG):P/P(PREPREG):由树脂和玻璃纤维由树脂和玻璃纤维布组成布组成,据玻璃布种类可分为据玻璃布种类可分为1060;1080;2116;76281060;1080;2116;7628等几种等几种树脂据交联状况可分为树脂据交联状况可分为:A A阶阶(完全未固化完全未固化);B);B阶阶(半固化半固化);C);C阶阶(完全固化完全固化)三类三类,生产中使用的生产中使用的全为全为B B阶状态的阶状态的P/PP/P2L3L 4L 5L2L3L 4L 5L铆钉1717MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA2(PA2(压板课压板课)介绍介绍叠板叠板叠板叠板:目的目的目的目的:将预叠合好之板叠成待压将预叠合好之板叠成待压多层板形式多层板形式主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:铜皮铜皮电镀铜皮电镀铜皮;按厚度可分为按厚度可分为1/3OZ(1/3OZ(代号代号T)T)1/2OZ(1/2OZ(代号代号H)H)1OZ(1OZ(代号代号1)1)RCC(RCC(覆树脂铜皮覆树脂铜皮)等等Layer 1Layer 2Layer 3Layer 4Layer 5Layer 61818MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA2(PA2(压板课压板课)介绍介绍压合压合压合压合:目的目的目的目的:通过热压方式将叠合板压成多层板通过热压方式将叠合板压成多层板主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:牛皮纸牛皮纸;钢板钢板钢板压力牛皮纸承载盘热板可叠很多层可叠很多层1919MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA2(PA2(压板课压板课)介绍介绍后处理后处理后处理后处理:目的目的目的目的:经割剖经割剖;打靶打靶;捞边捞边;磨边等工序对压合之多层板进行初步外磨边等工序对压合之多层板进行初步外形处理以便后工序生产品质控制要求及提供后工序加工之形处理以便后工序生产品质控制要求及提供后工序加工之工具孔工具孔主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:钻头钻头;铣刀铣刀2020MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA3(PA3(钻孔课钻孔课)介绍介绍流程介绍流程介绍流程介绍流程介绍:目的目的目的目的:在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔上PIN钻孔下PIN棕化2121MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA3(PA3(钻孔课钻孔课)介绍介绍上上上上PIN:PIN:PIN:PIN:目的目的目的目的:对于非单片钻之板对于非单片钻之板,预先按预先按STACKSTACK之要求钉在一起之要求钉在一起,便于钻便于钻孔孔,依板厚和工艺要求每个依板厚和工艺要求每个STACKSTACK可两片钻可两片钻,三片钻或多片三片钻或多片钻钻主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:PINPIN针针注意事项注意事项注意事项注意事项:上上PINPIN时需开防呆检查时需开防呆检查,避免因前制程混料造成钻孔报废避免因前制程混料造成钻孔报废2222MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA3(PA3(钻孔课钻孔课)介绍介绍钻孔钻孔钻孔钻孔:目的目的目的目的:在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔主要原物料主要原物料主要原物料主要原物料:钻头钻头;盖板盖板;垫板垫板钻头钻头:碳化钨碳化钨,钴及有机黏着剂组合而成钴及有机黏着剂组合而成盖板盖板:主要为铝片主要为铝片,在制程中起钻头定位在制程中起钻头定位;散热散热;减少毛头减少毛头;防压力脚压伤作用防压力脚压伤作用垫板垫板:主要为复合板主要为复合板,在制程中起保护钻机台面在制程中起保护钻机台面;防出口性防出口性毛头毛头;降低钻针温度及清洁钻针沟槽胶渣作用降低钻针温度及清洁钻针沟槽胶渣作用2323MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA3(PA3(钻孔课钻孔课)介绍介绍钻孔铝盖板垫板钻头2424MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PA3(PA3(钻孔课钻孔课)介绍介绍下下下下PINPINPINPIN:目的目的目的目的:将钻好孔之板上的将钻好孔之板上的PINPIN针下掉针下掉,将板子分出将板子分出MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PCB製 造 流 程 簡 介-P B 0PB0PB0介紹介紹(鑽孔後至綠漆前鑽孔後至綠漆前)PB1(電鍍一課):水平PTH連線;一次銅線;PB2(外層課):前處理壓膜連線;自動手動曝光;顯影 PB3(電鍍二課):二次銅電鍍;外層蝕刻 PB9(外層檢驗課)：A.Q.I/VRS/阻抗測試/銅厚量測/電性測試2626MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司P B 1(電 鍍 一 課)介 紹 流程介紹流程介紹鑽孔去毛頭(Deburr)去膠渣(Desmear)化學銅(PTH)一次銅Panel plating 目的目的:使孔璧上的非導體部分之樹脂及玻璃纤維進行金屬化 方便進行後面之電鍍銅制程,完成足夠導電及焊接之金屬孔璧2727MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB1(電 鍍 一 課)介 紹 去毛頭去毛頭(Deburr):毛頭形成原因:鑽孔後孔邊緣的未切斷的銅絲及未切斷 的玻璃布 Deburr之目的:去除孔邊緣的巴厘,防止鍍孔不良 重要的原物料：刷輪2828MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB1(電 鍍 一 課)介 紹 去膠渣去膠渣(Desmear):smear形成原因:鑽孔時造成的高溫超過玻璃化轉移溫度 (Tg值),而形成融熔狀,產生膠渣 Desmear之目的:裸露出各層需互連的銅環，另膨松劑可 改善孔壁結構，增強電鍍銅附著力。重要的原物料：KMnO4(除膠劑)2929MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB1(電 鍍 一 課)介 紹 化學銅化學銅(PTH)化學銅之目的:通過化學沉積的方式時表面沉積上厚度為20-40 micro inch的化學銅。重要原物料：活化鈀，鍍銅液PTH3030MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB1(電 鍍 一 課)介 紹 一次銅一次銅 一次銅之目的:鍍上200-500 micro inch的厚度的銅以保護僅有20-40 micro inch厚度的化學銅不被後制程破壞造成孔破。重要原物料:銅球一次銅3131MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司P B 2(外 層 課)介紹 流程介紹流程介紹:前處理壓膜曝光顯影 目的目的:經過鑽孔及通孔電鍍後,內外層已經連通,本制程製作外 層線路,以達電性的完整3232MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司P B 2(外 層 課)介紹 前前處理處理:目的:去除銅面上的污染物，增加銅面粗糙度,以利於後續 的壓膜制程 重要原物料：刷輪3333MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司P B 2(外 層 課)介紹 壓膜壓膜(Lamination):製程目的:通過熱壓法使幹膜緊密附著在銅面上.重要原物料：乾膜(Dry film)溶劑顯像型 半水溶液顯像型 鹼水溶液顯像型 水溶性乾膜主要是由於其組成中含有機酸根，會與強鹼 反應使成為有機酸的鹽類，可被水溶掉。3434MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司P B 2(外 層 課)介紹 曝光曝光(Exposure):製程目的:通過 image transfer技術在幹膜上曝出客戶所需的線路 重要的原物料：底片 外層所用底片与内層相反，為負片，底片黑色為綫路白色為底板(白底黑綫)白色的部分紫外光透射過去，乾膜發生聚合反應，不能被顯影液洗掉乾膜底片UV光3535MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司P B 2(外 層 課)介紹 顯影顯影(Developing):製程目的:把尚未發生聚合反應的區域用顯像液將之沖洗掉,已感光部分則因已發生聚合反應而洗不掉而留在銅面上成為蝕刻或電鍍之阻劑膜.重要原物料：弱堿(Na2CO3)一次銅乾膜3636MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司P B 3(電 鍍 二 課)介 紹 流程介紹流程介紹:二次鍍銅剥膜線路蝕刻剥錫 目的目的:將銅厚度鍍至客戶所需求的厚度 完成客戶所需求的線路外形鍍錫3737MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB3(電 鍍 二 課)介 紹 二次二次鍍鍍銅銅:目的:將顯影后的裸露銅面的厚度加後,以達到客戶所要求的銅厚 重要原物料：銅球乾膜二次銅3838MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB3(電 鍍 二 課)介 紹 鍍錫鍍錫:目的:在鍍完二次銅的表面鍍上一層錫保護，做為蝕刻時的保護劑 重要原物料：錫球乾膜二次銅保護錫層3939MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB3(電 鍍 二 課)介 紹剥膜剥膜:目的:將抗電鍍用途之幹膜以藥水剥除 重要原物料：剝膜液(KOH)線路蝕刻線路蝕刻:目的:將非導體部分的銅蝕掉 重要原物料：蝕刻液(氨水)二次銅保護錫層二次銅保護錫層底板4040MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB3(電 鍍 二 課)介 紹剥錫剥錫:目的:將導體部分的起保護作用之錫剥除 重要原物料:HNO3+H2O2兩液型剥錫液二次銅底板4141MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB9(外層檢驗課)介 紹流程介紹流程介紹:流程説明：虛綫框代表該制程將根據客戶或厰内需要決定是 否走該流程，阻抗量測及綫寬量測本課程暫不介紹 制程目的：通過檢驗的方式，將一些不良品挑出，降低製造成本 收集品質資訊，及時反饋，避免大量的異常產生4242MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB9(外層檢驗課)介 紹A.O.I:全稱爲Automatic Optical Inspection，自動光學檢測 目的：通過光學原理將圖像回饋至設備處理，与設定的邏輯 判斷原則或資料圖形相比較，找去缺點位置。需注意的事項：由於AOI說用的測試方式為邏輯比較，一定 會存在一些誤判的缺點，故需通過人工加以確認4343MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB9(外層檢驗課)介 紹V.R.S:全稱爲Verify Repair Station，確認系統 目的：通過与A.O.I連綫，將每片板子的測試資料傳給V.R.S，並由人工對A.O.I的測試缺點進行確認。需注意的事項：V.R.S的確認人員不光要對測試缺點進行確 認，另外有一個很重要的function就是對一些可以直接修補 的缺點進行修補4444MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB9(外層檢驗課)介 紹O/SO/S電性測試電性測試:目的：通過固定制具，在板子上建立電性回 路，加電壓測試后与設計的回路資料比對，確定板子的電性狀況。所用的工具：固定模具4545MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB9(外層檢驗課)介 紹找找O/S:目的：在O/S測試完成后，對缺點板將打出票據，並標示 缺點的點數位置代碼，由找O/S人員通過電腦找出該位 置，並通過蜂鳴器量測該點，以確定是否為真缺點 所需的工具：設計提供的找點資料，電腦4646MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PB9(外層檢驗課)介 紹MRX銅厚量測銅厚量測:目的：通過檢驗的方式確定板子在經過二次銅后，其銅 厚是否能滿足客戶的要求 需注意的事項：銅厚的要求是每個客戶在給規格書時都 會給出的，故該站別是所有產品都必須經過的，另外，量 測的數量一般是通過抽樣計劃得出4747MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PCB制造流程简介PC0PC0PC0介绍（防焊介绍（防焊-成型）成型）:PC1(Solder Mask PC1(Solder Mask 防焊课）防焊课）PC2(Surface Treatment Process PC2(Surface Treatment Process 加工课）加工课）PC3(Routing PC3(Routing 成型课）成型课）PC9(Final Inspection&Testing PC9(Final Inspection&Testing 终检课）终检课）4848MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC1(防焊课）流程简介防焊防焊防焊防焊(Solder Mask)Solder Mask)Solder Mask)Solder Mask)目的：目的：A.A.防焊：防焊：防止波焊时造成的短路，并节省焊锡防止波焊时造成的短路，并节省焊锡 之用量之用量 B.B.护板：防止线路被湿气、各种电解质及外来护板：防止线路被湿气、各种电解质及外来 的机械力所伤害的机械力所伤害 C.C.绝缘：由于板子愈来愈小，线路间距愈来愈绝缘：由于板子愈来愈小，线路间距愈来愈 窄，所以对防焊漆绝缘性质的窄，所以对防焊漆绝缘性质的要求也要求也 越來越高越來越高4949MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC 1(防 焊 课）流 程 简 介 原理：影像转移原理：影像转移主要原物料：油墨主要原物料：油墨油墨之分类主要有：油墨之分类主要有：IRIR烘烤型烘烤型UVUV硬化型硬化型5050MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司Sold mask Flow Chart预烘烤印刷前处理曝光显影烘烤S/M5151MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC1(防焊课）流程简介前处理前处理前处理前处理 目的：去除表面氧化物，增加板面粗糙度，加强板目的：去除表面氧化物，增加板面粗糙度，加强板面油墨附着力。面油墨附着力。主要原物料：主要原物料：SPSSPS5252MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC 1(防焊课）流程简介印刷印刷印刷印刷 目的：利用丝网上图案，将防焊油墨准确的目的：利用丝网上图案，将防焊油墨准确的 印写在板子上。印写在板子上。主要原物料：油墨主要原物料：油墨 常用的印刷方式：常用的印刷方式：A A 印刷型（印刷型（Screen Printing)Screen Printing)B B 淋幕型淋幕型(Curtain Coating)Curtain Coating)C C 喷涂型喷涂型(Spray Coating)Spray Coating)D D 滚涂型滚涂型(Roller Coating)Roller Coating)5353MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC1(防焊课）流程简介 制程主要控制点制程主要控制点 油墨厚度：一般为油墨厚度：一般为1-21-2mil,mil,独立线拐角处独立线拐角处0.3mil/min.0.3mil/min.预烤预烤预烤预烤 目的目的:赶走油墨内的溶剂，使油墨部分硬化，不致在进赶走油墨内的溶剂，使油墨部分硬化，不致在进行曝光时粘底片。行曝光时粘底片。5454MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC1(防焊课）流程简介 制程要点制程要点 温度与时间的设定，须参照供应商提供的条件双面印与单温度与时间的设定，须参照供应商提供的条件双面印与单面印的预烤条件是不一样的。面印的预烤条件是不一样的。烤箱的选择须注意通风及过滤系统以防异物沾粘。烤箱的选择须注意通风及过滤系统以防异物沾粘。温度的设定，必须有警报器，时间一到必须马上拿出，否温度的设定，必须有警报器，时间一到必须马上拿出，否则则over curingover curing会造成显影不尽。会造成显影不尽。隧道式烤箱其产能及品质都较佳，唯空间及成本须考量。隧道式烤箱其产能及品质都较佳，唯空间及成本须考量。5555MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC 1(防焊课）流程简介曝光曝光曝光曝光 目的：影像转移目的：影像转移 主要设备：曝光机主要设备：曝光机 制程要点：制程要点：A A 曝光机的选择曝光机的选择 B B 能量管理能量管理 C C 抽真空良好抽真空良好 5656MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC1(防焊课）流程简介显影显影显影显影 目的：将未聚合之感光油墨利用浓度为目的：将未聚合之感光油墨利用浓度为1 1的的 碳酸钠溶液去除掉。碳酸钠溶液去除掉。制程要点：制程要点：A A 药液浓度、温度及喷压的控制药液浓度、温度及喷压的控制 B B 显影时间（即线速）与油墨厚度的关系显影时间（即线速）与油墨厚度的关系 5757MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC1(防焊课）流程简介后烤后烤后烤后烤 目的：主要让油墨之环氧树脂彻底硬化。目的：主要让油墨之环氧树脂彻底硬化。5858MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC1(防焊课）流程简介印文字印文字印文字印文字 目的：利于维修和识别目的：利于维修和识别 原理：印刷及烘烤原理：印刷及烘烤 主要原物料：文字油墨主要原物料：文字油墨5959MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司Screen Printing Flow Chart烘烤印一面文字印另一面文字S/M文字 文字6060MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介加工课加工课(Surface Treatment Process)(Surface Treatment Process)主要流程：主要流程：A A 化金化金 (Immersion Gold)IMGImmersion Gold)IMG B B 金手指（金手指（Gold Finger)G/FGold Finger)G/F C C 喷锡喷锡 (Hot Air Solder Hot Air Solder Leveling)HALLeveling)HAL6161MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC 2(加工课）流程简介化学镍金化学镍金化学镍金化学镍金(EMG)EMG)EMG)EMG)目的：目的：1.1.平坦的焊接面平坦的焊接面 2.2.优越的导电性、抗氧化性优越的导电性、抗氧化性 原理：置换反应原理：置换反应 主要原物料：金盐主要原物料：金盐 6262MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介流程：前处理流程：前处理 化镍化镍 金段金段 后处理后处理 前处理前处理前处理前处理 目的目的:去除铜面过度氧化及去除轻微的去除铜面过度氧化及去除轻微的ScumScum 主要原物料：主要原物料：SPS SPS 制程要点：制程要点：A A 刷压刷压 B SPSB SPS浓度浓度 C C 线速线速6363MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC 2(加工课）流程简介化镍金段化镍金段化镍金段化镍金段 目的：在铜面上利用置换反应形成一层目的：在铜面上利用置换反应形成一层 很薄的镍金层（厚度一般为很薄的镍金层（厚度一般为2-42-4um)um)主要原物料：金盐（金氰化钾主要原物料：金盐（金氰化钾 PotassiumPotassium Gold Cyanide Gold Cyanide 简简称称PGC)PGC)制程要点：制程要点：A A 药水浓度、温度的控制药水浓度、温度的控制 B B 水洗循环量的大小水洗循环量的大小 C C 自动添加系统的稳定性自动添加系统的稳定性 6464MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC 2(加工课）流程简介后处理后处理后处理后处理 目的：洗去金面上残留的药水，避免金面氧化目的：洗去金面上残留的药水，避免金面氧化 主要用料：主要用料：DIDI水水 制程要点：制程要点：A A 水质水质 B B 线速线速 C C 烘干温度烘干温度6565MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC 2(加工课）流程简介喷锡喷锡喷锡喷锡 目的：目的：1.1.保护铜表面保护铜表面 2.2.提供后续装配制程的良好焊接提供后续装配制程的良好焊接 基地基地 原理：化学反应原理：化学反应 主要原物料：锡铅棒主要原物料：锡铅棒6666MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介喷锡流程喷锡流程喷锡流程喷锡流程前处理前处理前处理前处理 目的：将铜表面的有机污染氧化物等去除。目的：将铜表面的有机污染氧化物等去除。主要物料：主要物料：SPSSPS 制程要点：药水中的铜离子含量、温度、线速制程要点：药水中的铜离子含量、温度、线速前处理上FLUX喷锡后处理6767MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC 2(加工课）流程简介上上上上FLUXFLUXFLUXFLUX 目的目的:以利于铜面上附着焊锡。以利于铜面上附着焊锡。主要原物料：主要原物料：FLUXFLUX 制程要点：制程要点：FLUXFLUX的黏度与酸度，是否易于清洁的黏度与酸度，是否易于清洁6868MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介喷锡喷锡喷锡喷锡 目的：将铜面上附上锡。目的：将铜面上附上锡。主要原物料：锡铅棒（主要原物料：锡铅棒（63/3763/37）制程要点：制程要点：A A 机台设备的性能机台设备的性能 B B 风刀的结构、角度、喷压、热风温度风刀的结构、角度、喷压、热风温度 锡炉温度、板子通过风刀的速度、浸锡炉温度、板子通过风刀的速度、浸 锡时间等。锡时间等。C C 外层线路密度及结构外层线路密度及结构 6969MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介后处理后处理后处理后处理 目的：将残留的助焊剂或其由锡炉带出之残油目的：将残留的助焊剂或其由锡炉带出之残油 类物质洗掉。类物质洗掉。制程要点：本步骤是喷锡最后一个程序，看似没什制程要点：本步骤是喷锡最后一个程序，看似没什 么，但若不用心建置，反而会么，但若不用心建置，反而会功败垂成，功败垂成，需要考虑的几点是：需要考虑的几点是：A A 冷却段的设计冷却段的设计 B B 水洗水的水质、水温、及循水洗水的水质、水温、及循环设计环设计 C C 轻刷段轻刷段7070MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介ENTEKENTEKENTEKENTEK 目的：目的：1.1.抗氧化性抗氧化性 2.2.低廉的成本低廉的成本 原理：金属有机化合物与金属离子间的原理：金属有机化合物与金属离子间的 化学键作用力化学键作用力 主要原物料：护铜剂主要原物料：护铜剂7171MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司Surface treatment Flow ChartO.S.P.化学镍金喷锡锡铅、镍金、Entek 7272MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介金手指（金手指（金手指（金手指（G/F)G/F)G/F)G/F)目的：优越的导电性、抗氧化性、耐磨性目的：优越的导电性、抗氧化性、耐磨性 原理：氧化还原原理：氧化还原 主要原物料：金盐主要原物料：金盐7373MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司Gold Finger Flow Chart镀金前处理镀金前后处理鍍金前 镀金后7474MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介流程流程流程流程:7575MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介 目的：让板子仅露出欲镀金手指之部分线路，目的：让板子仅露出欲镀金手指之部分线路，其他则以胶带贴住防镀。其他则以胶带贴住防镀。主要物料：镀金保护胶带（蓝胶、小红胶）主要物料：镀金保护胶带（蓝胶、小红胶）制程要点：此制程是最耗人力的，作业人员的熟练度异常制程要点：此制程是最耗人力的，作业人员的熟练度异常的重要，不熟练的作业人员可能割伤板材，现有自动贴、的重要，不熟练的作业人员可能割伤板材，现有自动贴、割胶机上市，但仍不成熟，还须注意残胶的问题，割胶机上市，但仍不成熟，还须注意残胶的问题，7676MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介镀镍金镀镍金镀镍金镀镍金 目的：在金和铜之间镀上一层镍作为屏障，避目的：在金和铜之间镀上一层镍作为屏障，避 因长期使用，所导致金和铜会有原子互因长期使用，所导致金和铜会有原子互 相漂移的现象，使铜层露出影响到接触相漂移的现象，使铜层露出影响到接触 的性质；镀金的主要目的是保护铜面避的性质；镀金的主要目的是保护铜面避 免在空气中氧化。免在空气中氧化。主要原物料：金盐主要原物料：金盐 制程要点：制程要点：A A 药水的浓度、温度的控制药水的浓度、温度的控制 B B 线速的控制线速的控制 C C 金属污染金属污染7777MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介撕胶撕胶撕胶撕胶 目的：将贴住防镀部分的胶带撕掉，便于后目的：将贴住防镀部分的胶带撕掉，便于后 序作业。序作业。制程要点：撕胶时应注意一定要撕净，否则制程要点：撕胶时应注意一定要撕净，否则 将会造成报废。将会造成报废。7878MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.yao蘇州金像電子有限公司蘇州金像電子有限公司PC2(加工课）流程简介贴喷锡保护胶带贴喷锡保护胶带贴喷锡保护胶带贴喷锡保护胶带 目的：将金手指贴上镀金保护胶带，防止沾锡目的：将金手指贴上镀金保护胶带，防止沾锡 造成报废。造成报废。主要物料：喷锡保护胶带主要物料：喷锡保护胶带 制程要点：此步骤也是最耗人力的，同样不熟制程要点：此步骤也是最耗人力的，同样不熟 练的作业人员可能会割伤板子、割胶不练的作业人员可能会割伤板子、割胶不 良造成沾锡报废、露贴等缺点事项。良造成沾锡报废、露贴等缺点事项。7979MFG MFG Rocky.shi Camel.chen Micro.yaoRocky.shi Camel.chen Micro.ya