第二篇-第六章-高反射镜课件

薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础第六章第六章 高反射镜高反射镜曹建章曹建章第六章第六章 高反射镜高反射镜薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 在可见光波长范围内，透光材料的折射率在可见光波长范围内，透光材料的折射率最大不超过最大不超过2.5，假如光从空气垂直入射到介，假如光从空气垂直入射到介质分界面上，最大反射率质分界面上，最大反射率 。在红外光。在红外光波段，透光材料的折射率小于波段，透光材料的折射率小于6.0，垂直入射，垂直入射单界面最大反射率单界面最大反射率 。在实际应用中如。在实际应用中如果要求更高反射率，办法是在介质表面镀膜，果要求更高反射率，办法是在介质表面镀膜，只要膜层折射率大于基底介质折射率，镀膜后只要膜层折射率大于基底介质折射率，镀膜后的反射率大于未镀膜的反射率，起到增反射的的反射率大于未镀膜的反射率，起到增反射的效果效果.如果采用光学厚度均为如果采用光学厚度均为 的高、低折射的高、低折射率交替排列构成的周期多层膜系，反射率可接率交替排列构成的周期多层膜系，反射率可接近近100%。另一方面，金属表面可以产生高反。另一方面，金属表面可以产生高反 在可见光波长范围内，透光材料的折射率最大不超在可见光波长范围内，透光材料的折射率最大不超薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础射，因为金属材料的折射率是复数，实部折射，因为金属材料的折射率是复数，实部折射率很小，而虚部消光系数可很大，故反射射率很小，而虚部消光系数可很大，故反射率率R也很大。介质膜与金属膜相比较，缺点是也很大。介质膜与金属膜相比较，缺点是带宽窄，而金属膜存在吸收，不可能获得极带宽窄，而金属膜存在吸收，不可能获得极高的反射率。高的反射率。6.1 6.1 反射镜组合的反射率反射镜组合的反射率 众所周知，玻璃镜面和金属镜面具有很众所周知，玻璃镜面和金属镜面具有很高的反射率，所以把产生高反射膜系也称之高的反射率，所以把产生高反射膜系也称之为反射镜。从光谱角度讲，也可以称之为滤为反射镜。从光谱角度讲，也可以称之为滤光片。光片。在一个光学系统的光路中，如果反射光在一个光学系统的光路中，如果反射光射，因为金属材料的折射率是复数，实部折射率很小，而虚部消光系射，因为金属材料的折射率是复数，实部折射率很小，而虚部消光系薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础是来自是来自 个不同的反射镜面时，则反射镜的个不同的反射镜面时，则反射镜的合成反射率合成反射率式中式中 表示第表示第 个镜面的反射率。个镜面的反射率。式（式（6-1）与串联放置滤光片的合成透射率式）与串联放置滤光片的合成透射率式（5-8）相类同。需要注意的是，式（）相类同。需要注意的是，式（6-1）主）主要用于金属反射镜、高反射膜的情况，假定要用于金属反射镜、高反射膜的情况，假定每个反射镜的反射率很高，透射率都很小，每个反射镜的反射率很高，透射率都很小，合成总反射率才有效。图合成总反射率才有效。图6-1给出了一些可能给出了一些可能的反射镜面组合图，光束方向的改变可用于的反射镜面组合图，光束方向的改变可用于（6-1）是来自是来自 个不同的反射镜面时，则反射镜的合成反射率（个不同的反射镜面时，则反射镜的合成反射率（6-薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础不同的场合。图不同的场合。图6-1（a）和图）和图6-1（b）所示的）所示的组合不改变入射光的方向，但图（组合不改变入射光的方向，但图（a）使光束）使光束产生平移。在每一种情况下，反射镜的数目取产生平移。在每一种情况下，反射镜的数目取决于反射镜面的宽度和光束入射的角度。决于反射镜面的宽度和光束入射的角度。显然，与串联方式放置的透射滤光片相显然，与串联方式放置的透射滤光片相不同的场合。图不同的场合。图6-1（a）和图）和图6-1（b）所示的组合不改变入）所示的组合不改变入薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础比较，并联放置的反射镜需要占更多的空间，比较，并联放置的反射镜需要占更多的空间，使用也更复杂。但是，在应用中如果这些缺使用也更复杂。但是，在应用中如果这些缺点可以接受的话，光经过多个反射镜会提供点可以接受的话，光经过多个反射镜会提供很大的方便，这主要源于反射镜结构的特点。很大的方便，这主要源于反射镜结构的特点。6.26.2周期多层膜系的反射率周期多层膜系的反射率6.2.1 周期多层膜系的特征矩阵周期多层膜系的特征矩阵 如图如图6-2所示为一周期多层膜系，膜系由所示为一周期多层膜系，膜系由两种均匀介质膜层周期性排列构成，其周期两种均匀介质膜层周期性排列构成，其周期性条件可表为性条件可表为式中式中 为一个周期两膜层的总厚度，两均匀介为一个周期两膜层的总厚度，两均匀介（6-2）比较，并联放置的反射镜需要占更多的空间，使用也更复杂。但是，比较，并联放置的反射镜需要占更多的空间，使用也更复杂。但是，薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础介质膜层折射率分别介质膜层折射率分别为为 和和 。假设单周。假设单周期膜层特征矩阵为期膜层特征矩阵为与式（与式（3-35）类同，）类同，（6-3）个周期构成的膜系特征矩阵为个周期构成的膜系特征矩阵为如果特征矩阵如果特征矩阵 的行列式取单位值，比如式的行列式取单位值，比如式（6-4）介质膜层折射率分别为介质膜层折射率分别为 和和 。假设单周期膜层特征矩。假设单周期膜层特征矩薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础（3-35），那么，根据矩阵理论，有），那么，根据矩阵理论，有式中式中 为第二类切比雪夫多项式，表达式为为第二类切比雪夫多项式，表达式为当当 时，多项式为时，多项式为（6-5）（6-6）（6-7）（3-35），那么，根据矩阵理论，有（），那么，根据矩阵理论，有（6-5）（）（6-6）（）（6薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础（6-8）其递推公式为其递推公式为 如果令如果令则式（则式（6-7）改写成）改写成 当当 时，式（时，式（6-10）中的）中的 取虚数，取虚数，令令（6-9）（6-10）（6-11）（6-12）（6-8）其递推公式为（）其递推公式为（6-9）（）（6-10）（）（6-11）（）（6薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础对任意实数对任意实数 ，有，有式（式（6-5）就是周期多层膜系的特征矩阵）就是周期多层膜系的特征矩阵。6.2.2 6.2.2 周期多层膜系的反射率和透射率周期多层膜系的反射率和透射率 假设周期多层膜系在一个周期内两膜层的假设周期多层膜系在一个周期内两膜层的折射率分别为折射率分别为 和和 ，两膜层几何厚度分别为，两膜层几何厚度分别为 和和 ，周期总厚度，周期总厚度 。根据式（。根据式（3-61），得到一个周期的特征矩阵为），得到一个周期的特征矩阵为(6-13)(6-14)对任意实数对任意实数 ，有，有(6-13)(6-14)薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础式中式中矩阵相乘，有矩阵相乘，有将式（将式（6-17）中的矩阵元素代入矩阵（）中的矩阵元素代入矩阵（6-5），），(6-15)(6-16)(6-17)式中式中(6-15)(6-16)(6-17)薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础可得到周期多层膜系特征矩阵的元素为可得到周期多层膜系特征矩阵的元素为而而(6-18)(6-19)(6-20)(6-21)(6-22)可得到周期多层膜系特征矩阵的元素为可得到周期多层膜系特征矩阵的元素为(6-18)(6-19)(薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 设入射介质折射率为设入射介质折射率为 ，基底介质折射，基底介质折射率为率为 ，根据式（，根据式（3-61），可写出膜系特征），可写出膜系特征向向由式（由式（3-66）和式（）和式（3-67）可写出反射率和透）可写出反射率和透射率为射率为(6-23)(6-24)(6-25)设入射介质折射率为设入射介质折射率为 ，基底介质折射率为，基底介质折射率为薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础6.3 6.3 类型的周期多层膜类型的周期多层膜 在第三章在第三章3.3.2节曾简单讨论过膜系节曾简单讨论过膜系 特性，特性，本节根据周期多层膜系特征矩阵再次对该膜本节根据周期多层膜系特征矩阵再次对该膜系作进一步讨论。系作进一步讨论。设周期多层膜系单个周期内两膜层折射设周期多层膜系单个周期内两膜层折射率分别为率分别为 和和 ，高折射率膜层在顶端，对，高折射率膜层在顶端，对应于图应于图6-2中中 ，。两膜层光学厚度。两膜层光学厚度均取四分之一波长，即均取四分之一波长，即在垂直入射的情况下，有在垂直入射的情况下，有(6-26)6.3 类型的周期多层膜类型的周期多层膜(6-26)薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础(6-27)(6-28)代入式（代入式（6-17）式（）式（6-22），有），有膜系特征矩阵的元素为膜系特征矩阵的元素为(6-29)(6-27)(6-28)代入式（代入式（6-17）式（）式（6-22），），薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础而而（6-30）（6-31）（6-32）（6-33）（6-34）而（而（6-30）（）（6-31）（）（6-32）（）（6-33）（）（6-34薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础由式（由式（6-30）至式（）至式（6-33）可知，）可知，膜系特征矩膜系特征矩阵的元素阵的元素 、和和 与切比雪夫多项与切比雪夫多项式的取值紧密相关，而切比雪夫多项式的取式的取值紧密相关，而切比雪夫多项式的取值由值由a决定，所以决定，所以a的变化特点也反映出膜系的变化特点也反映出膜系反射率的变化特点。反射率的变化特点。图图6-3给出了式（给出了式（6-34）a与相对波数与相对波数g的关系曲线，由图可以看出，的关系曲线，由图可以看出，的的取值具有如下特点：取值具有如下特点：（1）a是是g的周期函数，的周期函数，的取值在极大值的取值在极大值和极小值之间，极大值和极小值为和极小值之间，极大值和极小值为（6-35）由式（由式（6-30）至式（）至式（6-33）可知，膜系特征矩阵的元素）可知，膜系特征矩阵的元素 薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础并且不管并且不管 和和 取何取何值，极小值都小于零。值，极小值都小于零。由此可以推断，膜系反由此可以推断，膜系反射率也具有周期性。射率也具有周期性。（2）在一个周期内，）在一个周期内，g在在 区间取值，区间取值，的的取值具有对称性，中心取值具有对称性，中心点点 ，由此可知，由此可知，膜系反射率曲线也具有膜系反射率曲线也具有对称性。对称性。（3）对应于同一）对应于同一a值的两个值的两个g值之间的宽度值之间的宽度2并且不管并且不管 和和 取何值，极小值都小于零。由此可取何值，极小值都小于零。由此可薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础与与膜系周期数膜系周期数m无关。无关。（4）切比雪夫多项式）切比雪夫多项式 在区间在区间 具有具有m个零点，个零点，m+1个极值点，因此，反射率个极值点，因此，反射率曲线在相对波数取值曲线在相对波数取值 之间也具有振荡特之间也具有振荡特性。性。在膜层没有吸收的情况下，由式（在膜层没有吸收的情况下，由式（6-30）至式（至式（6-33）可知，）可知，和和 是实数，而是实数，而 和和 是虚数，由此可将式（是虚数，由此可将式（6-24）和式（）和式（6-25）写成写成（6-36）与膜系周期数与膜系周期数m无关。（无关。（6-36）薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础（6-37）根据式（根据式（6-36），计算得到膜系），计算得到膜系 的的反射率曲线和相位曲线如图反射率曲线和相位曲线如图6-4所示。图所示。图6-4（a）中两条粗实线是包络线，对于）中两条粗实线是包络线，对于 ,包包络线的中间区域络线的中间区域 。包络线包含高反射区。包络线包含高反射区域，在此区域的反射率随膜层周期数域，在此区域的反射率随膜层周期数m的增加的增加而单调增加，当周期数而单调增加，当周期数m趋向于无穷时，反射趋向于无穷时，反射率趋向于率趋向于1.0。在高反射区域的外边，存在许。在高反射区域的外边，存在许多次极大和极小，次极大和次极小的数目取多次极大和极小，次极大和次极小的数目取决于比值决于比值 并随并随m的增大而增加。高的增大而增加。高（6-37）根据式（）根据式（6-36），计算得到膜系），计算得到膜系 薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础反射带的宽度是有限的，随着层数的增加高反射带的宽度是有限的，随着层数的增加高反射带的宽度并不改变。反射带的宽度并不改变。反射带的宽度是有限的，随着层数的增加高反射带的宽度并不改变。反射带的宽度是有限的，随着层数的增加高反射带的宽度并不改变。薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 图图6-4（b）中的相位变化与反射率的变化）中的相位变化与反射率的变化一样，在高反射率区域之外，相位随相对波一样，在高反射率区域之外，相位随相对波数的变化很快。在高反射区域内，相位随相数的变化很快。在高反射区域内，相位随相对波数的变化几乎是线性的，在对波数的变化几乎是线性的，在 处，相处，相位为位为 。在高反射区域相位变化的斜率随。在高反射区域相位变化的斜率随着着m的增加而增加，当的增加而增加，当m趋向于无穷时，斜率趋向于无穷时，斜率趋于定值，相位趋于线性变化。趋于定值，相位趋于线性变化。由图由图6-3可确定高反射带的半宽度。令式可确定高反射带的半宽度。令式（6-34）中的）中的 ，根据对称性，有，根据对称性，有代入式（代入式（6-34），有），有(6-38)图图6-4（b）中的相位变化与反射率的变化一样）中的相位变化与反射率的变化一样薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础(6-39)求解可得求解可得利用关系利用关系代入式（代入式（6-40），得到），得到(6-40)(6-41)(6-39)求解可得求解可得(6-40)(6-41)薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础由此得到高反射区的半宽度为由此得到高反射区的半宽度为式（式（6-42）表明，周期多层膜系的半宽度仅与）表明，周期多层膜系的半宽度仅与两膜层折射率有关，而与膜层周期数无关。由两膜层折射率有关，而与膜层周期数无关。由于实际可供选择的材料折射率有限，所以两种于实际可供选择的材料折射率有限，所以两种介质周期多层膜要实现宽带高反射是不可能的。介质周期多层膜要实现宽带高反射是不可能的。另外，由于次极大和次极小与两种介质的另外，由于次极大和次极小与两种介质的光学厚度比有关，通过选择合适的比率就可以光学厚度比有关，通过选择合适的比率就可以调整或压缩同时存在的若干个光谱区域高反射调整或压缩同时存在的若干个光谱区域高反射带和次极大值。图带和次极大值。图6-5给出了光学厚度比为给出了光学厚度比为1:1(6-42)由此得到高反射区的半宽度为由此得到高反射区的半宽度为(6-42)薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础和和2:1的两个典型曲线。明显可以看出，图的两个典型曲线。明显可以看出，图6-5（a）中）中 处的高反射区通过光学厚度比的改处的高反射区通过光学厚度比的改变调整到图变调整到图6-5（b）中）中 处，并且在图处，并且在图6-5（b）中）中 和和 之间的振荡区宽度之间的振荡区宽度 得得以压缩，次极大值也得以压缩。这种特性在实以压缩，次极大值也得以压缩。这种特性在实际应用中很有用，比如宽带高反射镜、截止滤际应用中很有用，比如宽带高反射镜、截止滤光片、热反射镜、冷反射镜和激光反射镜的设光片、热反射镜、冷反射镜和激光反射镜的设计。计。6.4 6.4 类型的对称周期多层膜类型的对称周期多层膜*膜系膜系 的结构不同于的结构不同于6.3节讨论的节讨论的 膜系，它是把膜系，它是把L等分为两层等分为两层和和2:1的两个典型曲线。明显可以看出，图的两个典型曲线。明显可以看出，图6-5（a）中）中 处的处的薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础第二篇第二篇-第六章第六章-高反射镜课件高反射镜课件薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础镀于镀于H层的两侧，厚度为层的两侧，厚度为H层的一半。层的一半。周期多层膜系周期多层膜系 在单一周在单一周期内可看作是三层膜构成，在垂直入射情况下，期内可看作是三层膜构成，在垂直入射情况下，有有（6-43）（6-44）镀于镀于H层的两侧，厚度为层的两侧，厚度为H层的一半。（层的一半。（6-43）（）（6-44）薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础根据式（根据式（3-61），得到一个周期的特征矩阵为），得到一个周期的特征矩阵为(6-45)矩阵相乘，有矩阵相乘，有由此得到膜系特征矩阵的元素为由此得到膜系特征矩阵的元素为(6-46)(6-47)根据式（根据式（3-61），得到一个周期的特征矩阵为），得到一个周期的特征矩阵为(6-45)矩阵矩阵薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础而而(6-48)(6-49)(6-50)(6-51)而而(6-48)(6-49)(6-50)(6-51)薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 由式（由式（6-51）可知，膜系）可知，膜系 与与膜系膜系 的高反射率区域位置和宽度是相的高反射率区域位置和宽度是相同的。但是，对于膜系同的。但是，对于膜系 ，如果，如果镀膜材料的折射率镀膜材料的折射率 和和 满足关系满足关系或或就可减小高反射区域一边次极大的高度，使高就可减小高反射区域一边次极大的高度，使高反射区域外次极大区域长波长一边或短波长一反射区域外次极大区域长波长一边或短波长一边的透射得到最大的改善。图边的透射得到最大的改善。图6-6给出了膜系给出了膜系 的计算实例，这种周期多层的计算实例，这种周期多层（6-52）（6-53）由式（由式（6-51）可知，膜系）可知，膜系 薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础膜系在设计截止滤光片时很有用。膜系在设计截止滤光片时很有用。膜系在设计截止滤光片时很有用。膜系在设计截止滤光片时很有用。薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础6.5 6.5 周期多层膜构成的宽带高反射膜周期多层膜构成的宽带高反射膜 由式（由式（6-42）可知，四分之一波长周期多）可知，四分之一波长周期多层膜系的反射率带宽取决于构成膜系材料的层膜系的反射率带宽取决于构成膜系材料的高、低折射率的比值高、低折射率的比值 ，比值越大，带宽，比值越大，带宽就越宽。但实际可供选择的材料折射率有限，就越宽。但实际可供选择的材料折射率有限，可见光区适用的材料中最大折射率小于可见光区适用的材料中最大折射率小于2.6，最小折射率不小于最小折射率不小于1.3。在红外区域，适用的。在红外区域，适用的材料中最大折射率也不超过材料中最大折射率也不超过6.0。因此，折射。因此，折射率比值率比值 不可能很大，而高反射带宽受到不可能很大，而高反射带宽受到限制。实际应用中，往往需要展宽高反射区限制。实际应用中，往往需要展宽高反射区域的带宽，最常用的展宽方法有以下几种：域的带宽，最常用的展宽方法有以下几种：6.5 周期多层膜构成的宽带高反射膜周期多层膜构成的宽带高反射膜薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础1.两个不同中心波长的对称周期膜系两个不同中心波长的对称周期膜系 或或（6-54）叠加放置在一起，构成有两个中心波长的单一叠加放置在一起，构成有两个中心波长的单一复合膜系。图复合膜系。图6-7（a）所示为基底介质氟化钡）所示为基底介质氟化钡（）镀高折射率介质）镀高折射率介质 和低折射率介质和低折射率介质 周期多层膜系周期多层膜系 的反射率实的反射率实测曲线，入射介质为空气测曲线，入射介质为空气 ，两个中心波，两个中心波长分别为长分别为 和和 。两个膜系。两个膜系叠加放置在一起的反射率实测曲线如图叠加放置在一起的反射率实测曲线如图6-7（b）所示。）所示。1.两个不同中心波长的对称周期膜系两个不同中心波长的对称周期膜系 薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础2.两个不同中心波长的周期多层膜系两个不同中心波长的周期多层膜系和和（6-55）叠放在一起构成两个中心波长的单一复合膜系叠放在一起构成两个中心波长的单一复合膜系2.两个不同中心波长的周期多层膜系和（两个不同中心波长的周期多层膜系和（6-55）叠放在一起）叠放在一起薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础(6-56)由于两个膜系叠加后出现由于两个膜系叠加后出现 的无效层，满足的无效层，满足透射条件，在两个反射带衔接处必然出现透射透射条件，在两个反射带衔接处必然出现透射峰。为了改善高反射带的均匀性，在两个高折峰。为了改善高反射带的均匀性，在两个高折射率射率 波长膜层波长膜层H之间加入一层低折射率之间加入一层低折射率 膜层膜层,且使且使L膜层的光学厚度取波长膜层的光学厚度取波长 。图。图6-8是复合膜系是复合膜系的反射率曲线的反射率曲线,其中高折射率介质为其中高折射率介质为 ,(6-57)(6-56)由于两个膜系叠加后出现由于两个膜系叠加后出现 的无效层，满足的无效层，满足薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础低折射率介质为低折射率介质为 ，基底介质为玻，基底介质为玻璃，璃，入射介质为空气，入射介质为空气 。两个膜。两个膜系的中心波长分别为系的中心波长分别为 和和 ，匹配层的光学厚度取波长，匹配层的光学厚度取波长 。低折射率介质为低折射率介质为 ，基底介，基底介薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 3.在基底上交替沉积厚度渐增或渐减的高、在基底上交替沉积厚度渐增或渐减的高、低折射率膜，膜层厚度可以按算术级数递增或低折射率膜，膜层厚度可以按算术级数递增或递减，也可以按几何级数递增或递减。图递减，也可以按几何级数递增或递减。图6-9就是按几何级数递增、公比取就是按几何级数递增、公比取0.97计算得到的计算得到的宽带高反射膜反射率和相位变化曲线，入射介宽带高反射膜反射率和相位变化曲线，入射介质为空气质为空气 ,基底介质为玻璃基底介质为玻璃 ，高、，高、低折射率为低折射率为 ，。4.四分之一波长周期多层膜系，层间厚度四分之一波长周期多层膜系，层间厚度为四分之一波长。如果层间厚度选择四分之一为四分之一波长。如果层间厚度选择四分之一波长的不同倍数，也可扩展反射率区域的宽度。波长的不同倍数，也可扩展反射率区域的宽度。或者用两种高、低折射率介质在基底上交替沉或者用两种高、低折射率介质在基底上交替沉 3.在基底上交替沉积厚度渐增或渐减的高、低在基底上交替沉积厚度渐增或渐减的高、低薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础第二篇第二篇-第六章第六章-高反射镜课件高反射镜课件薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础积许多随机厚度的层，也可以得到展宽高反积许多随机厚度的层，也可以得到展宽高反射区域。图射区域。图6-10所示是膜层厚度取所示是膜层厚度取0.13 的的不同倍数，高、低折射率膜层总共不同倍数，高、低折射率膜层总共11层计算得层计算得到的反射率曲线。到的反射率曲线。积许多随机厚度的层，也可以得到展宽高反射区域。图积许多随机厚度的层，也可以得到展宽高反射区域。图6-10所示所示薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础6.6 6.6 中远红外区域的多层高反射膜中远红外区域的多层高反射膜*膜层光学厚度不等的周期多层膜系，当周膜层光学厚度不等的周期多层膜系，当周期数足够高时就可获得高的反射率，这个同样期数足够高时就可获得高的反射率，这个同样适用于远红外区域的多层高反射膜。适用于远红外区域的多层高反射膜。图图6-11所示是不等厚度高折射率介质碲所示是不等厚度高折射率介质碲(Te：)和低折射率介质聚乙烯和低折射率介质聚乙烯()周期多层膜系红外区域反射率理论计算曲线，周期多层膜系红外区域反射率理论计算曲线，基底介质也取碲，基底介质也取碲，入射介质为空气，入射介质为空气，。膜层厚度比为。膜层厚度比为 ，周期数周期数 。图。图6-11左边为左边为 和和 P-偏偏振反射率振反射率 曲线，右边为曲线，右边为 和和 S-偏振偏振6.6 中远红外区域的多层高反射膜中远红外区域的多层高反射膜*薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础反射率反射率 曲线。图中采用光子晶体中晶格常曲线。图中采用光子晶体中晶格常数和归一化频率的概念，定义膜层周期厚度数和归一化频率的概念，定义膜层周期厚度为晶格常数，即令为晶格常数，即令而式（而式（3-62）化为）化为并称并称 为归一化频率，为归一化频率，为归一化厚度。为归一化厚度。取晶格常数取晶格常数 ，左图，左图P-波偏振波偏振 处对应于红外波长处对应于红外波长 ，处处对应于波长对应于波长 ，在此波段范围内反，在此波段范围内反(6-58)(6-59)反射率反射率 曲线。图中采用光子晶体中晶格常数和归一化频率的曲线。图中采用光子晶体中晶格常数和归一化频率的薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础射率射率 大于大于99%。右图。右图S-波偏振波偏振 处处射率射率 大于大于99%。右图。右图S-波偏振波偏振 薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础对应于红外波长对应于红外波长 ，而，而 处处对应于波长对应于波长 ，与，与P-波偏振相同，反波偏振相同，反射率射率 在此波段范围内也大于在此波段范围内也大于99%。这样的。这样的带宽完全可以满足中红外和远红外高反射的带宽完全可以满足中红外和远红外高反射的要求。要求。对于波长大于对于波长大于80的远红外波段，镀膜的远红外波段，镀膜材料存在明显的吸收，常规的沉积技术需要材料存在明显的吸收，常规的沉积技术需要改进，首先通过热蒸发在塑料薄片上镀一层改进，首先通过热蒸发在塑料薄片上镀一层相对薄的高折射率介质膜，然后再镀高、低相对薄的高折射率介质膜，然后再镀高、低折射率周期多层膜，可形成自支撑的高反射折射率周期多层膜，可形成自支撑的高反射膜。膜。对应于红外波长对应于红外波长 ，而，而 薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 图图6-13就是采用这种方法制备的远红外多就是采用这种方法制备的远红外多层高反射膜的计算和实测反射率曲线。图中高层高反射膜的计算和实测反射率曲线。图中高折射率介质选择硫化锌折射率介质选择硫化锌(ZnS）,其透明区域为其透明区域为 ,在红外区域的折射率为在红外区域的折射率为 。低折射率介质选聚乙烯，。低折射率介质选聚乙烯，。周期膜系。周期膜系结构为结构为 ，膜层和膜层和L膜层的折射率相同，膜层的折射率相同，但光学厚度选择不同，膜系周期但光学厚度选择不同，膜系周期 。此外，。此外，高、低折射率膜层的光学厚度选择也不同。由高、低折射率膜层的光学厚度选择也不同。由图图6-13（a）和图）和图6-13（b）可见，膜系高、低）可见，膜系高、低折射率光学厚度选择不同，红外区域反射率变折射率光学厚度选择不同，红外区域反射率变化非常明显，因此，在实际应用中通过改变周化非常明显，因此，在实际应用中通过改变周 图图6-13就是采用这种方法制备的远红外多层高就是采用这种方法制备的远红外多层高薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础期多层膜系结构中高低折射率膜层光学厚度，期多层膜系结构中高低折射率膜层光学厚度，就可以得到不同波段极远红外的高反射率。就可以得到不同波段极远红外的高反射率。6.7 6.7 软软X-X-射线区域的多层高反射膜射线区域的多层高反射膜*软软X射线多层高反射膜研究与现代科学技射线多层高反射膜研究与现代科学技期多层膜系结构中高低折射率膜层光学厚度，就可以得到不同波段极期多层膜系结构中高低折射率膜层光学厚度，就可以得到不同波段极薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础术的众多领域密切相关，受到科技界和产业界术的众多领域密切相关，受到科技界和产业界的高度重视。软的高度重视。软X射线多层高反射膜（也称软射线多层高反射膜（也称软X射线反射镜）已广泛应用于星载软射线反射镜）已广泛应用于星载软X射线望射线望远镜、软远镜、软X射线显微镜、软射线显微镜、软X射线激光、同步射线激光、同步辐射软辐射软X射线装置和软射线装置和软X射线投影光刻等领域。射线投影光刻等领域。与可见光和紫外线不同，软与可见光和紫外线不同，软X射线的波长射线的波长极短，对任何材料的折射率实部都小于极短，对任何材料的折射率实部都小于1，所，所以可以忽略折射。对于软以可以忽略折射。对于软X射线，任何材料的射线，任何材料的折射率可表示为折射率可表示为(6-60)术的众多领域密切相关，受到科技界和产业界的高度重视。软术的众多领域密切相关，受到科技界和产业界的高度重视。软X射线射线薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础式中式中 是折射率的缩减量，是折射率的缩减量，是消光常数。是消光常数。和和 也与材料的原子序数也与材料的原子序数Z、X射线的波长紧射线的波长紧密相关。图密相关。图6-14是不同材料在是不同材料在14nm处的光学处的光学常数。常数。式中式中 是折射率的缩减量，是折射率的缩减量，是消光常数。是消光常数。和和 薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 同可见光区和红外光区实现高反射膜一样，同可见光区和红外光区实现高反射膜一样，软软X射线多层周期高反射膜也需要两种高低折射线多层周期高反射膜也需要两种高低折射率材料配对。由于构成多层周期高反射膜，射率材料配对。由于构成多层周期高反射膜，在在X射线波段找不到高折射率材料和低折射率射线波段找不到高折射率材料和低折射率材料，但材料的消光系数存在明显的差别，所材料，但材料的消光系数存在明显的差别，所以在以在X波段是利用高吸收和低吸收材料构成多波段是利用高吸收和低吸收材料构成多层膜，采用的制备技术是磁控溅射或电子束蒸层膜，采用的制备技术是磁控溅射或电子束蒸发。当发。当X光入射时，多层膜层间界面反射光的光入射时，多层膜层间界面反射光的相干叠加使反射率增强。但在软相干叠加使反射率增强。但在软X-射线区域要射线区域要获得高反射率，采用多层膜系存在两个问题。获得高反射率，采用多层膜系存在两个问题。一是材料的吸收限制了镀膜的层数。图一是材料的吸收限制了镀膜的层数。图6-15给给 同可见光区和红外光区实现高反射膜一样，软同可见光区和红外光区实现高反射膜一样，软X射射薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础出的是出的是 、和和 构成的周期构成的周期多层膜系反射率随周期数的变化曲线。其二，多层膜系反射率随周期数的变化曲线。其二，介质层间界面的不光滑、相互扩散和熔合降低介质层间界面的不光滑、相互扩散和熔合降低了各个界面的反射特性，从而减小了对总反射了各个界面的反射特性，从而减小了对总反射的贡献。的贡献。对于层间界面的不光滑性假定服从高对于层间界面的不光滑性假定服从高斯分布，可用德拜斯分布，可用德拜-沃勒（沃勒（Debye-Waler）因子）因子描述，即描述，即式中式中 为材料界面粗糙度，在软为材料界面粗糙度，在软 X 射线波长射线波长(6-61)出的是出的是 、薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 的范围内，必须的范围内，必须 ，为理想界面。为理想界面。为由式（为由式（3-68）至式（）至式（3-75）计算得到的理想表面的反射率；计算得到的理想表面的反射率；和和 分别分别为入射角和为入射角和X射线的波长。中国科学院长春光射线的波长。中国科学院长春光学精密机械研究所已研制出浮法抛光机，可加学精密机械研究所已研制出浮法抛光机，可加工多种材料的超光滑表面，表面粗糙度可控制工多种材料的超光滑表面，表面粗糙度可控制在在 以下。图以下。图6-16是是 和和 周期周期多层膜在多层膜在 处的反射率随粗糙度处的反射率随粗糙度 的的变化曲线。变化曲线。目前，制备软目前，制备软X射线多层反射膜常用材料射线多层反射膜常用材料配对的例子有：配对的例子有：(1)（13nm-25nm）；）；的范围的范围薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础(2)（9nm-13nm）；）；(3)、等（等（7nm-25nm）；）；(4)、(2)（9nm-13nm）；）；(3)薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 、等（等（4.5nm-7nm）。）。在这些材料配对中，每对第二种材料消光系数在这些材料配对中，每对第二种材料消光系数相对于第一种材料消光系数都较小。相对于第一种材料消光系数都较小。图图6-17是是 、和和 四种配对材料软四种配对材料软X射线射线周期多层膜反射率随波长变化的计算和实测曲周期多层膜反射率随波长变化的计算和实测曲线。线。中国科学院上海光学精密机械研究所强激中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室在光材料重点实验室在13.5nm软软X射线反射镜研射线反射镜研制方面取得重要进展，斜入射情况下，制方面取得重要进展，斜入射情况下，反射镜，反射镜S-偏振反射率最高达到偏振反射率最高达到67.8%，见图，见图6-18，这是到目前为止对于，这是到目前为止对于Mo/Si多层反射膜多层反射膜在在 、薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础13.5nm波长处所获得的最高反射率，达到世波长处所获得的最高反射率，达到世界先进水平，将为中国在软界先进水平，将为中国在软X射线领域的相关射线领域的相关研究和应用提供有力的技术保障。研究和应用提供有力的技术保障。13.5nm波长处所获得的最高反射率，达到世界先进水平，将为波长处所获得的最高反射率，达到世界先进水平，将为薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础6.8 6.8 金属反射镜金属反射镜 金属经抛光后，其抛光面在很宽的光谱金属经抛光后，其抛光面在很宽的光谱范围内具有高的反射率。但由于块状金属抛范围内具有高的反射率。但由于块状金属抛6.8 金属反射镜金属反射镜薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础状金属抛光不易，加之即使抛光后表面也不十状金属抛光不易，加之即使抛光后表面也不十分光滑，所以现在纯金属反射镜几乎不用。一分光滑，所以现在纯金属反射镜几乎不用。一般而言，下面讨论的金属反射镜或反射膜是指般而言，下面讨论的金属反射镜或反射膜是指把某种具有光学表面坚而轻的介质作为基底，把某种具有光学表面坚而轻的介质作为基底，在其上镀金属膜，从而得到高的反射率。含有在其上镀金属膜，从而得到高的反射率。含有金属膜层的膜系的反射率计算与理想介质多层金属膜层的膜系的反射率计算与理想介质多层膜系一样，见式（膜系一样，见式（3-68）至式（）至式（3-75）。）。6.8.16.8.1常用金属反射镜常用金属反射镜 偏振光斜入射到复折射率分别为偏振光斜入射到复折射率分别为 和和 的两个半无限介质的分界面上，根据式（的两个半无限介质的分界面上，根据式（2-57）、式（）、式（2-69）和式（）和式（2-218）、式（）、式（2-220）状金属抛光不易，加之即使抛光后表面也不十分光滑，所以现在纯金状金属抛光不易，加之即使抛光后表面也不十分光滑，所以现在纯金薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础知，界面上的反射率为知，界面上的反射率为式中式中 、见式（见式（2-56）和式）和式(2-68)。当。当 和和 分别对应于空气和金属的折射率分别对应于空气和金属的折射率时，如果入射角为零，反射率的表达式简化时，如果入射角为零，反射率的表达式简化为为该式表明，如果基底不透明，除了在金属中该式表明，如果基底不透明，除了在金属中被吸收的能量外，其余能量全部反射。被吸收的能量外，其余能量全部反射。(6-62)(6-63)知，界面上的反射率为知，界面上的反射率为(6-62)(6-63)薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 利用式（利用式（6-63）和相应的光学常数）和相应的光学常数 ，许多其他金属的谱反射率就可以计算。常用一许多其他金属的谱反射率就可以计算。常用一些金属在可见光、红外和紫外波段的反射率示些金属在可见光、红外和紫外波段的反射率示于图于图6-19。利用式（利用式（6-63）和相应的光学常数）和相应的光学常数 薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础在紫外区域一些材料的反射率曲线示于图在紫外区域一些材料的反射率曲线示于图6-21，明显可以看出，在紫外区域材料的反射率，明显可以看出，在紫外区域材料的反射率普遍低，原因是在紫外区域波长小，大约在普遍低，原因是在紫外区域波长小，大约在100nm至至400nm，吸收、色散和界面间的不光，吸收、色散和界面间的不光滑性等导致反射率降低。滑性等导致反射率降低。在紫外区域一些材料的反射率曲线示于图在紫外区域一些材料的反射率曲线示于图6-21，明显可以看出，明显可以看出，薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 在比紫外波长更小的区域（在比紫外波长更小的区域（X射线），射线），所所有材料的折射率都接近于单位有材料的折射率都接近于单位1，而且消光系，而且消光系数也非常小数也非常小，由此，根据式（，由此，根据式（6-63）可以推）可以推断，垂直入射的情况下，在其相应的谱区域断，垂直入射的情况下，在其相应的谱区域反射率也很小。然而，如果入射角超过临界反射率也很小。然而，如果入射角超过临界角角c，即，即会导致高的反射率。图会导致高的反射率。图6-22给出一些典型材给出一些典型材料在大于临界角入射情况下得到的反射率实料在大于临界角入射情况下得到的反射率实测曲线。测曲线。(6-64)在比紫外波长更小的区域（在比紫外波长更小的区域（X射线），所有材料的射线），所有材料的薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础6.8.2 6.8.2 金属金属-介质反射镜介质反射镜 金属膜反射镜具有宽的高反射区域，且其金属膜反射镜具有宽的高反射区域，且其结构简单，易于制备，这是其优点。但金属膜结构简单，易于制备，这是其优点。但金属膜有其缺点：有其缺点：一一是大多数金属膜都比较软，容易是大多数金属膜都比较软，容易6.8.2 金属金属-介质反射镜介质反射镜薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础损坏；损坏；二二是金属膜的表面在空气中易于氧化，是金属膜的表面在空气中易于氧化，降低膜层的反射率；降低膜层的反射率；三三是金属膜与基底的黏附是金属膜与基底的黏附性差，因而膜层与基底附着力差；性差，因而膜层与基底附着力差；四四是金属膜是金属膜的反射率无法达到接近的反射率无法达到接近100%的反射率。对于的反射率。对于附着力差的问题，可在基底上加镀附着力强的附着力差的问题，可在基底上加镀附着力强的衬底。为了保护金属膜和避免金属膜表面氧化，衬底。为了保护金属膜和避免金属膜表面氧化，可在外边加镀保护膜。提高反射率可在金属膜可在外边加镀保护膜。提高反射率可在金属膜上镀高低折射率周期多层膜。上镀高低折射率周期多层膜。比如，在空气中铝表面会氧化，形成薄的比如，在空气中铝表面会氧化，形成薄的铝氧化层，这种氧化层不耐磨并易于受到化学铝氧化层，这种氧化层不耐磨并易于受到化学腐蚀，对许多应用来说很不利。因而，通常铝腐蚀，对许多应用来说很不利。因而，通常铝损坏；二是金属膜的表面在空气中易于氧化，降低膜层的反射率；三损坏；二是金属膜的表面在空气中易于氧化，降低膜层的反射率；三薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础反射镜是在反射镜是在铝膜上面涂敷一层铝膜上面涂敷一层SiO2或或MgF2保保护膜护膜。但是，保护膜使反射率降低，如果必要，。但是，保护膜使反射率降低，如果必要，可在铝膜表面涂覆两层或三层介质保护膜，就可在铝膜表面涂覆两层或三层介质保护膜，就可解决反射率低的问题，见图可解决反射率低的问题，见图6-23所示。所示。反射镜是在铝膜上面涂敷一层反射镜是在铝膜上面涂敷一层SiO2或或MgF2保护膜。但是，保保护膜。但是，保薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 由于铝氧化层使紫外区域的反射率有所下由于铝氧化层使紫外区域的反射率有所下降，所以在沉积铝膜后立即涂敷一降，所以在沉积铝膜后立即涂敷一MgF2或或LiF膜，反射率可得到部分改善，这种涂敷保护膜膜，反射率可得到部分改善，这种涂敷保护膜的铝镜反射率如图的铝镜反射率如图6-24所示。所示。由于铝氧化层使紫外区域的反射率有所下降，所以由于铝氧化层使紫外区域的反射率有所下降，所以薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 在在真空紫外真空紫外区域，改善金属膜的反射率，区域，改善金属膜的反射率，可以可以加镀适当厚度的铂膜或铝膜加镀适当厚度的铂膜或铝膜，图，图6-25是在是在铱基底上镀不同厚度铝膜的实测反射率曲线，铱基底上镀不同厚度铝膜的实测反射率曲线，反射率随铝膜厚度的变化很明显，这种膜已反射率随铝膜厚度的变化很明显，这种膜已在空间领域得到应用。在空间领域得到应用。在真空紫外区域，改善金属膜的反射率，可以加镀在真空紫外区域，改善金属膜的反射率，可以加镀薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础6.9 6.9 影响反射特性的因素影响反射特性的因素*对于前面讨论的高低折射率四分之一波对于前面讨论的高低折射率四分之一波长周期多层膜系、金属高反射膜以及金属长周期多层膜系、金属高反射膜以及金属-介介质反射膜，理论计算得到的反射率与实际测质反射膜，理论计算得到的反射率与实际测量得到的反射率是有差别的，尤其是在紫外量得到的反射率是有差别的，尤其是在紫外和和X射线区域，差别更为明显。射线区域，差别更为明显。1膜层厚度误差膜层厚度误差2色散色散3吸收吸收4表面和层间界面的不光滑性表面和层间界面的不光滑性6.9 影响反射特性的因素影响反射特性的因素*薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础6.10 6.10 高反射镜应用实例高反射镜应用实例 不管是高、低折射率周期多层介质高反射不管是高、低折射率周期多层介质高反射镜还是金属高反射镜，在不同领域的应用都十镜还是金属高反射镜，在不同领域的应用都十分广泛，下面列举三个典型实例。分广泛，下面列举三个典型实例。6.10.1 6.10.1 激光高反射镜激光高反射镜 随着激光技术的发展，对激光谐振腔等随着激光技术的发展，对激光谐振腔等光学镀膜元件的性能提出了新的要求，光学镀膜元件的性能提出了新的要求，超低功超低功耗激光反射镜要求激光高反射膜必须具备吸收耗激光反射镜要求激光高反射膜必须具备吸收小、散射强度小、反射功率大和耐激光损伤阈小、散射强度小、反射功率大和耐激光损伤阈值高等优点值高等优点。激光高反射镜仍然采用高、低折。激光高反射镜仍然采用高、低折射率四分之一波长周期多层膜，不过高折射率射率四分之一波长周期多层膜，不过高折射率6.10 高反射镜应用实例高反射镜应用实例薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础介质是混合膜料，而不是单一的高折射率材料，介质是混合膜料，而不是单一的高折射率材料，目的是通过混合提高膜层的填充密度，以减小目的是通过混合提高膜层的填充密度，以减小散射损耗并提高激光损伤阈值。散射损耗并提高激光损伤阈值。图图6-30（a）和（）和（b）分别对应于激光波长）分别对应于激光波长 和和 的高反射镜实测透射的高反射镜实测透射率曲线。高反射镜采用膜系率曲线。高反射镜采用膜系高折射率膜层为混合膜料高折射率膜层为混合膜料 ，混合，混合比例比例 ；低折射率膜层为单一介质；低折射率膜层为单一介质 ，基底为基底为 玻璃。波长玻璃。波长 处的反射率为处的反射率为(6-103)介质是混合膜料，而不是单一的高折射率材料，目的是通过混合提高介质是混合膜料，而不是单一的高折射率材料，目的是通过混合提高薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础99.96%，波长，波长 处的反射率为处的反射率为99.2%。与单质高折射率膜料相比较，混合膜料激光与单质高折射率膜料相比较，混合膜料激光反射镜的激光损伤阈值为反射镜的激光损伤阈值为36J37J/mm2，提，提高高5%到到15%,且膜层吸收小，机械强度大。长且膜层吸收小，机械强度大。长期放置后，反射镜中心波长无漂移现象发生。期放置后，反射镜中心波长无漂移现象发生。99.96%，波长，波长 处的反射率处的反射率薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础6.10.2 6.10.2 光刻机系统光刻机系统193nm193nm高反射膜高反射膜 集成电路的飞速发展，光刻技术起到至集成电路的飞速发展，光刻技术起到至关重要的作用，因为光刻技术决定单个器件关重要的作用，因为光刻技术决定单个器件的物理尺寸。因此，随着光刻分辨率的提高，的物理尺寸。因此，随着光刻分辨率的提高，集成度也不断提高。目前光刻机的波长已缩集成度也不断提高。目前光刻机的波长已缩小到小到248nm和和193nm的深紫外波长处。对于的深紫外波长处。对于193nm波长的光刻机，为了提高光刻机的分辨波长的光刻机，为了提高光刻机的分辨率和效率，光学器件表面必须制镀高质量、率和效率，光学器件表面必须制镀高质量、高性能高性能193nm高反射膜。但由于在高反射膜。但由于在193nm波长波长处，薄膜材料与基底存在吸收和散射等，所处，薄膜材料与基底存在吸收和散射等，所以制镀以制镀193nm高反射膜成为问题的关键。高反射膜成为问题的关键。6.10.2 光刻机系统光刻机系统193nm高反射膜高反射膜薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础 图图6-31所示就是所示就是193nm高反射膜反射率实高反射膜反射率实测曲线。膜系采用高、低折射率四分之一周期测曲线。膜系采用高、低折射率四分之一周期多层膜系多层膜系高、低折射率膜料选择高、低折射率膜料选择 ，基底介质，基底介质选择选择K9玻璃，入射介质为空气。为了证明制镀玻璃，入射介质为空气。为了证明制镀193nm高反射膜膜料选择和制度工艺的有效性高反射膜膜料选择和制度工艺的有效性,镀膜后膜片放置了半年时间。由图可见镀膜后膜片放置了半年时间。由图可见,半年半年后膜片后膜片193nm处的反射率仍然高达处的反射率仍然高达98.419%，表明膜片时间稳定性和环境稳定性良好。表明膜片时间稳定性和环境稳定性良好。(6-104)图图6-31所示就是所示就是193nm高反射膜反射率实高反射膜反射率实薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础第二篇第二篇-第六章第六章-高反射镜课件高反射镜课件薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础6.10.3 DLP/LCoS6.10.3 DLP/LCoS投影薄膜投影薄膜宽角度高反射镜宽角度高反射镜 图图6-32 所示为所示为DLP和和LCOS投影光学系统投影光学系统示意图示意图,系统中涉及薄膜光学元件有：隔红外系统中涉及薄膜光学元件有：隔红外紫外滤光片、偏振转换器、分色镜（）、紫外滤光片、偏振转换器、分色镜（）、偏振分束镜（偏振分束镜（PBS）、全内反射棱镜（）、全内反射棱镜（TIR）和高反射镜等，且在光学系统中几乎所有裸露和高反射镜等，且在光学系统中几乎所有裸露的光学表面都要求镀增透膜。的光学表面都要求镀增透膜。在某些应用中，不管是增透膜还是高反射在某些应用中，不管是增透膜还是高反射膜必须同时具有宽角和宽带特性，图膜必须同时具有宽角和宽带特性，图6-33就是就是深圳飞来特技术有限公司生产的深圳飞来特技术有限公司生产的DLP和和LCOS投影显示光学系统中常用的宽角度高反射镜产投影显示光学系统中常用的宽角度高反射镜产6.10.3 DLP/LCoS投影薄膜投影薄膜宽角度高反射镜宽角度高反射镜薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础品及特性曲线。品及特性曲线。品及特性曲线。品及特性曲线。薄膜光学与薄膜技术基础薄膜光学与薄膜技术基础第二篇第二篇-第六章第六章-高反射镜课件高反射镜课件