活性炭滤网技术资料

,按一下以編輯母片標題樣式,按一下以編輯母片,第二層,第三層,第四層,第五層,*,德崧股份有限公司,*,CARBON FILTER,1,德崧股份有限公司,內容,AMC,的來源與分類,AMC,之影響,濾材種類與形式,濾網種類,考慮事項,檢測與監測,2,德崧股份有限公司,AMC : Airborne Molecular Contamination,3,德崧股份有限公司,無塵室的,AMC,：,來源,製程化學品、反應副產物,溶劑 酸 鹼,清淨室物質的,outgasing,人員：氨、硫化物,災害：溢出的化學物質,外部空氣：,循環空氣：,4,德崧股份有限公司,SEMI F21-95,分類,Acid,Base,Condensable,Dopant,5,德崧股份有限公司,ACID,一種腐蝕性物質其化學反應性質為電子接受者,HF(Hydroflouric,Acid),氫氟酸、,HNO,3,（,Nitric Acid,）,硝酸、,H,3,PO,4,（,Phosphoric Acid,）,磷酸,6,德崧股份有限公司,無塵室濃度,- ACID,Contaminant,Concentration Range (,ppt,),HF,40k,250k,HNO,3,20k,250k,H,3,PO,4,10k,400k,H,2,SO,4,10k,300k,7,德崧股份有限公司,BASE,一種腐蝕性物質其化學反應性質為電子提供者,Ammonia,、,NMP,、,Methylamine,8,德崧股份有限公司,無塵室濃度,- BASE,Contaminant,Concentration Range (,ppt,),Ammonia,10k,200k,NMP,20k,300k,9,德崧股份有限公司,CONDENSABLE,一沸點高於室溫的物質（非水）於大氣壓力下可凝結於清潔表面,Hydrocarbons VOC,、,DOP,10,德崧股份有限公司,無塵室濃度,- CONDENSABLE,Contaminant,Concentration Range (,ppt,),Acetone,20k,250k,Toluene,10k,200k,11,德崧股份有限公司,DOPANT,一化學元素會改變半導體原料的電性,Boron,（,硼）、,Phosphours,（,磷）,Arsenic,（,砷）,12,德崧股份有限公司,無塵室濃度,-,Dopant,Contaminant,Concentration Range (,ppt,),Boric Acid,ND,200k,Phosphorous,ND,5k,Arsine,ND,50k,13,德崧股份有限公司,AMC,之影響,T-topping of resist by organic bases,Forms crusty surface on resist - ammonia,Defective,epitaxial,growth,Unintentional doping,Uneven oxide growth,Changes in surface properties,wettability,hydrophobization,Corrosion,Decreased metal pad adhesion,Silicon Carbide formation,14,德崧股份有限公司,AMC,之影響,- I,Deep ultraviolet (DUV),photoresist,T-topping,PHOTO,Uncontrolled boron or phosphorus doping,DF,Etch rate shifts and corrosion,ETCH,SiC,formation following pre-oxidation clean,DF,Threshold voltage shifts,QA,Nucleation irregularities (CVD),TF,High-efficiency particulate air (HEPA) filter degradation,FE,Wafer and stepper optics hazing,PHOTO,High contact resistance,QA,15,德崧股份有限公司,16,德崧股份有限公司,不能解答的問題,那一個製程的風險最大,晶片在這個製程的那一個步驟有風險,需要多長時間影響污染的風險,那一個濃度,AMC,會影響何製程的何步驟,17,德崧股份有限公司,比較,AMC,與,Particle(class 1),AMC,Particle,尺寸,3nm,100nm,數量,3x 10,13,/m,3,29,/m,3,質量,5ng/m,3,1pg/m,3,18,德崧股份有限公司,分子性污染,- I,化學性污染,非粒子,氣相污染,把分子視為比細塵小數十倍至數百倍數千倍的粒子,物理性質：數量大、重量輕、擴散,化學性質：有能力與他種化學物質反應產生不同的東西,19,德崧股份有限公司,作用的方式,吸附污染物與吸附體間的物理作用力。活性碳、,Silica Gel,、,活性鋁（氧化鋁）,反應污染物與吸附體間產生化學反應產生不揮發性物質。活性碳、活性鋁為基質化學吸附劑,-,改質活性碳,20,德崧股份有限公司,改質活性碳,一些小分子化學物質如,HF,、,NH,4,+,等活性碳幾乎沒有辦法處理必須使用改質碳,改質活性碳是一種反應型,過錳酸鉀約含,4% KMNO,4,-,屬於萬用型，但對含硫物質較佳,酸性約含,10%,磷酸，醋酸,鹼性約含,5 10%,氫氧化鈉,21,德崧股份有限公司,一些影響活性碳的因子,活性碳的顆粒大小,溫度,溼度,污染物本身的化學性質,影響吸附型的因子不一定會影響反應型,22,德崧股份有限公司,比較,Carbon,KMNO4,KOH,揮發性有機物,8,2,6,臭氧,10,2,10,二氧化氮,6,4,9,酸,HCl, HF,氯,0,0,8,硫化氫,1,8,10,二氧化硫,7,8,9,有機硫,5,8,9,硝酸,6,6,9,23,德崧股份有限公司,濾材的種類,顆粒型,植入不織布型,不織布包覆型,24,德崧股份有限公司,粒形,MM1000,MM3000,MM7000,MM9000,4%,過錳酸鉀,活性碳,10%,磷酸,5-10%,氫氧化鉀,載體,活性鋁,活性碳,活性碳,密度,0.8,0.5,0.8,0.55,壓損,50 fpm/1ft bed,1“,1.7,1.8,1.7,25,德崧股份有限公司,不織布包覆型,853,147,875,基種,g/m2,600,600,600,使用,臭氧,揮發性有機物,氨,有機胺類,酸,揮發性有機物,26,德崧股份有限公司,濾網的種類,鐵、鋁、紙框不織布,Carbon Tray (V- Bank),Box type,27,德崧股份有限公司,評估,-,污染,污染源在何處,-,外氣、製程產生,何種污染：溶劑、酸、鹼或其他,製程產生可否局部外排（以排氣櫃,）,目前濃度為何？數據（自己檢測或請人檢測）,需要處理到何種程度,28,德崧股份有限公司,評估,-,空調系統,目前是否有使用,Carbon filter or Chemical Filter,，,但還不能解決問題,空調箱是否有預留安裝,Chemical filter,的位置,-,空間,風車馬力（靜壓）是否足夠,-,濾網壓損,29,德崧股份有限公司,評估,-,濾網種類選擇,安裝於何處,產塵的影響,滯留時間,-,風速的影響,30,德崧股份有限公司,評估,-,濾網種類,Carbon Tray,箱體需要很大空間,產塵很厲害,大都裝於外氣進口,可裝大量活性碳或其他化學性吸附劑,壓損很大,初期成本較高，但更換的價格較低,31,德崧股份有限公司,評估,-,濾網種類 包覆式,壓損低，可處理風量較大。,HEPA,的框架即可使用不需特別裝置,很大的過濾面積、價格很高,不產塵可放的位置較多，甚至於,HEPA,前亦可,濾材的選擇有三種，一般活性碳、酸性、鹼性,32,德崧股份有限公司,評估,-,濾網種類,Pre Type,含活性碳不織布壓損與初級濾網差不多,Nonwoven,Carbon,含量太低,(90 120g/m,2,),除非沒有空間、且風車靜壓不足、萬不得已不要用。,沒有改質碳，只有一般活性碳。,除去一般異味。,活性碳粒一定會掉出，產塵。,33,德崧股份有限公司,評估,-,濾材種類選擇,何種污染,是否酸鹼必須一起解決,萬用型能否解決,-Carbon Filter,、,KMnO,4,梅花型的排法、混合床,34,德崧股份有限公司,壽命,很難估算，通常將客戶已知濃度送至國外估算,不一定準確，其他不影響製程的一些東西亦會被吸附，而影響壽命,35,德崧股份有限公司,檢測,Ion Chromatography,離子層析儀：陰離子、陽離子,GC-MS,氣相層析儀,-,質譜儀：揮發性有機氣體,ICP-MS,：,金屬離子,TAGA(Trace Atmospheric Gas Analyzer),微量氣體分析儀,Copper & Silver Coupon,36,德崧股份有限公司,ISA Std S71.04-1985(I),反應性監測,-,非獨特定量的量測,直接測量整體腐蝕能力,包含一個事先準備的銅或銀片於操作環境的置換,至少一個月,37,德崧股份有限公司,ISA Std S71.04-1985(II),於暴露期間污染物會與金屬表面產生薄膜,量測薄膜厚度,電解還原薄膜,確定薄膜厚度與性質,38,德崧股份有限公司,