透射电子显微镜-课件

透射电子显微镜基础知识1925年,de Broglie提出波粒二象性假说1926年,Busch发现了不均匀的磁场能够聚焦电子束1927年,进行了电子衍射实验 1931年,Knoll与Ruska制造了带双透镜的电子源,获得了放大12-17倍的电子光学系统中光阑的像1932年,Knoll与Ruska研制出第一台电镜(点分辨率达到50nm)1936年,英国生产出第一批商用透射电镜1939年,德国西门子公司生产商用透射电镜(点分辨率10nm)1950年,开始生产高压电镜(点分辨率优于0、3nm,晶格条纹分辨率由于0、14nm)1956年,门特(Menter)发明了多束电子成像方法,开创了高分辨电子显微术,获得原子像。阿贝光栅成像原理成像系统光路图如图所示。当来自照明系统的平行电子束投射到晶体样品上后,除产生透射束外还会产生各级衍射束,经物镜聚焦后在物镜背焦面上产生各级衍射振幅的极大值。每一振幅极大值都可看作是次级相干波源,由它们发出的波在像平面上相干成像,这就是阿贝光栅成像原理。透射电镜的基本原理阿贝光学显微镜衍射成像原理同样适合于透射电子显微镜。不仅能够在物镜的像平面获得放大的电子像,还能够在物镜的后焦面处获得晶体的电子衍射谱。光学显微镜的局限性 任何显微镜的用途都是将物体放大,使物体上的细微部分清楚地显示出来,帮助人们观察用肉眼直截了当看不见的东西。假如物体上两个相隔一定距离的点,利用显微镜把他们区分开来,这个距离的最小极限,既能够分辨的两个点的最短距离称为显微镜的分辨率,或称分辨本领。人的眼睛的分辨本领为0、5mm左右。一个物体上的两个相邻点能被显微镜分辨清楚,主要依靠显微镜的物镜。假如在物镜形成的像中,这两点未被分开的话,则不管利用多大倍数的投影镜或目镜,也不能再把它们分开。依照光学原理,两个发光点的分辨距离为:nsin-数值孔径,用N、A表示。将玻璃透镜的一般参数代入上述,即最大孔径半角=70-75=70-75。在介质为油的情况下,n-1、5,其数值孔径nsin-1、25-1、35 光学显微镜的局限性这说明,显微镜的分辨率取决于可见光的波长,而可见光的波长范围为390-760nm,故而光学显微镜的分辨率不估计高于200nm。为进一步提高分辨率,唯一的估计是利用短波长的射线。例如用紫外线作光源,分辨率可提高一倍。曾有人提出利用X射线与射线,当时在技术上比较困难,至今没有特别大发展。但电子的波动性被发现后,特别快就被用来作为提高显微镜分辨率的新光源,即出现了电子显微镜、。电子束的波长 已知电子束具有波动性,关于运动速度为v,质量为m的电子波长为=h/mv。一个初速度为零的电子,在电场中从电位为零处开始运动,因受加速电压U(阴极与阳极之间的电位差)的作用获得运动速度为v,那么加速每个电子所做的功(eU)就是电子获得的全部动能,即 1V1、226nm1000V0、0388nm100KV0、0037nm1000KV0、00087nm加速电压为100 KV的电子束的波长是0、0037nm。最小分辨率可达0、002nm左右,因此,电子波的波长不是分辨率的限制因素。球差与色差是分辨率的主要限制因素。透射电镜能够获得特别高的放大倍数150万倍。能够获得原子像。电子束的波长电磁透镜 光学显微镜是利用玻璃透镜使可见光聚焦成像的。电子与可见光不同,它是一带电粒子,不能凭借光学透镜会聚成像。电子显微镜能够利用电场或磁场使电子束聚焦成像,其中用静电场成像的透镜称为静电透镜,用电磁场成像的称为电磁透镜。由于静电透镜从性能上不如电磁透镜,因此在目前研制的电子显微镜中大都采纳电磁透镜。下图是一常用的电磁透镜剖面图。它由一个铁壳,一个螺旋管线圈与一对中间嵌有黄铜的极靴组成的。电磁透镜这种线圈产生的磁场有几个特点:1、轴对称磁场,2、非均匀磁场,3、磁力线不与线圈平行,中间部分的磁场比两边的强。运动电子在磁场中受到Lorentz力作用,其表达式为:(1)若vB,则F=0,电子不受磁场力作用,其运动速度的大小及方向不变;(2)若vB,则F=evB,方向反平行与vB,即只改变运动方向,不改变运动速度,从而使电子在垂直于磁力线方向的平面上做匀速圆周运动。电磁透镜(3)若v与B既不垂直也不平行,而成一定夹角,则其运动轨迹为螺旋线。由此可见,一束平行于轴线的入射电子束通过电磁透镜后将被聚焦于轴线上一点,即焦点。这表明电磁透镜与光学玻璃凸透镜具有相似的聚焦性质。电磁透镜的分辨本领 电子波波长特别短,在100KV的加速电压下,电子波波长为0、0037nm,用如此短波长的电子波做显微镜的照明源,依照r0=0、61/(nsin)计算,显微镜的最小分辨率可达0、002nm左右,然而到目前为止,电镜的最佳分辨率仍停留在0 0、1-0、2nm的水平,这是因为电磁透镜存在球差,像散及色差等各种缺陷-像差。球差 球差是由于电磁透镜中心区域与边缘区域对电子会聚能力不同而造成的。下图示意地表示了这种缺陷。远轴电子通过透镜时被折射得比近轴电子开厉害得多,因而有同一物点散射的电子经过透镜后不交在一点上,而是在透镜相平面上变成了一个漫射圆斑。像散 像散是由于透镜的磁场轴向不对称所引起的一种像差。磁场不同方向对电子的折射能力不一样,电子经透镜后形成界面为椭圆状的光束,是圆形物点的像变成了一个漫射圆斑。色差 色差是由于成像电子的能量或波长不同而引起的一种像差。能量大的电子在距透镜中心比较远的地点聚焦,而能量较低的电子在距透镜中心比较近的地点聚焦。结果使得由同一物点散射的具有不同能量的电子经透镜后不再会聚于一点,而是在像面上形成一漫射圆斑。由于上述像差的存在,尽管电子波长只有光波长的十万分之一左右,但尚不能使电磁透镜的分辨率提高十万倍。目前还不能制造出无像差的大孔径角的电磁透镜,而只能采纳特别小的孔径角尽估计减小球差等缺陷的影响。电磁透镜的分辨本领只比光学透镜提高一千倍左右。电磁透镜的景深与焦长 透镜的景深是指在保持像清楚的前提下,试样在物平面上下沿镜轴可移动的距离Df。换言之,在景深范围内,样品位置的变化并不影响物像的清楚度。造成景深现象的原因是像差与衍射综合影响的结果。景深大小Df与物镜的分辨本领r0成正比,而与孔径半角成反比,即:Df r0/利用景深的这一性质能够产生一些特别效果,例如选择孔径半角的大小,能够得到背景与主题都清楚的图像,或者只有主题清楚,而背景被虚化掉。在金相摄影中只要景深允许能够使样品表面凸凹不平的形貌在照片上都得到清楚的图像。透镜的焦长是指在保持像清楚的前提下,像平面沿镜轴上下移动的距离Dt=DfM 电磁透镜的景深与焦长可见,焦长在数值上是特别大的。因此,当用倾斜观察屏观察像时,以及当照相底片不位于观察屏同一像平面时,所拍摄的像也是清楚的。投影仪的投影平面之因此对距离要求不严也是由于焦长特别大的缘故。放大原理透射电子显微镜中,物镜、中间镜,透镜是以积木方式成像,即上一透镜的像就是下一透镜成像时的物,也就是说,上一透镜的像平面就是下一透镜的物平面,如此才能保证经过连续放大的最终像是一个清楚的像。在这种成像方式中,假如电子显微镜是三级成像,那么总的放大倍数就是各个透镜倍率的乘积。透射电镜的放大倍数总放大倍数M总M物M中M投物镜成像是分辨率的决定因素 物镜放大倍率,在100-200范围;中间镜放大倍率,数值在0-20范围;投影镜放大倍率,数值在100-150范围总放大倍率在几百-几十万倍TEM的结构主要由照明系统,样品室,成像系统,图像观察与记录系统组成。其中照明系统主要由电子枪与聚光镜组成。成像部分主要由样品室,物镜,中间镜与投影镜等装置组成。图像观察与记录系统:主要由荧光屏,照相机,数据显示等部件组成。透射电镜的结构成像部分样品室位于照明部分与物镜之间,一般还能够配置加热,冷却与形变装置。物镜是最关键部分,透射电镜分辩本领的好坏在特别大程度上取决于物镜的优劣。物镜的最短焦距可达1mm,放大倍率300倍,最佳理论分辨率可达0、1nm,实际分辨率可达0、2nm。加在物镜前的光阑称为物镜光阑,主要是为了缩小物镜孔径角的作用。加在物镜后的光阑称为衬度光阑,能够提高振幅衬度作用。此外在物镜极X附近还装备有消象散器与防污染装置。中间镜与投影镜与物镜相似,但焦距较长。主要是以后自物镜的电子象接着放大。真空部分为了保证电子运动,减少与空气分子的碰撞,因此所有装置必须在真空系统中,一般真空度为102104Pa。利用场发射电子枪时,其真空度应在106108Pa左右。可采纳机械泵,油扩散泵,分子泵等来实现。目的:延长电子枪的寿命,增加电子的自由程,减少电子与残余气体分子碰撞所引起的散射以及减少样品污染。样品制备透射电子显微镜利用穿透样品的电子束成像,这就要求被观察的样品对入射电子束是“透明”的。电子束穿透固体样品的能力主要取决与加速电压与样品的物质原子序数。一般来说,加速电压越高,样品原子序数越低,电子束能够穿透样品的厚度就越大。关于透射电镜常用的加速电压100KV,假如样品是金属,适宜的样品厚度约200纳米。样品制备关于块体样品表面复型技术与样品减薄技术是制备的主要方法。关于粉体样品,能够采纳超声波分散的方法制备样品。表面复型技术 所谓复型技术就是把金相样品表面经浸蚀后产生的显微组织浮雕复制到一种特别薄的膜上,然后把复制膜(叫做“复型”)放到透射电镜中去观察分析,如此才使透射电镜应用于显示金属材料的显微组织有了实际的估计。常见的复型:塑料一级复型,碳一级复型,塑料碳二级复型,萃取复型。制备复型的材料特点 本身必须是“无结构”的(或“非晶体”的),也就是说,为了不干扰对复制表面形貌的观察,要求复型材料即使在高倍(如十万倍)成像时,也不显示其本身的任何结构细节。必须对电子束足够透明(物质原子序数低);必须具有足够的强度与刚度,在复制过程中不致破裂或畸变;必须具有良好的导电性,耐电子束轰击;最好是分子尺寸较小的物质-分辨率较高。塑料碳二级复型技术是复型制备中最稳定与应用最广泛的一种技术。特点是:在样品制备过程中不损坏样品表面,重复性好,导热性好。具体制备方法在样品表面滴上一滴丙酮,然后用AC纸贴在样品表面,不留气泡,待干后取下。反复多次清除样品表面的腐蚀物以及污染物。最后一张AC纸就是需要的塑料一级复型。把复型纸的复型面朝上固定在衬纸上。利用真空镀膜的方法蒸镀上重金属,最后再蒸镀上一层碳,获得复合复型。将复合复型剪成直径3mm的小片,放置到丙酮溶液中,待醋酸纤维素溶解后,用铜网将碳膜捞起。经干燥后,样品就能够进行分析了。塑料碳复型过程萃取复型技术 其目的是如实地复制样品表面的形貌,同时又把细小的第二相颗粒(如金属间化合物,碳化物与非金属夹杂物等)从腐蚀的金属表面萃取出来,被萃取出的细小颗粒的分布与它们原来在样品中的分布完全相同,因而复型材料就提供了一个与基本结构一样的复制品。萃取出来的颗粒具有相当好的衬度,还能够在电镜下做电子衍射分析。萃取复型的方法特别多,最常用的是碳萃取复型与火棉胶碳二次萃取复型方法。碳萃取复型技术按一般金相样品要求对样品进行磨削与抛光;选择适当溶剂进行腐蚀,要求这种腐蚀剂既能溶去基体,又可不能腐蚀第二相颗粒;清洗腐蚀产物;将样品表面镀碳;通过电解脱膜,并将碳膜清洗,用铜网捞起。碳萃取复型典型复型的应用复型的典型应用 a)珠光体组织 b)准解理断口 c)断口萃取复型 减薄样品复型技术只能对样品表面形貌进行复制,不能揭示晶体内部组织结构信息,受复型材料本身尺寸的限制,电镜的高分辨率本领不能得到充分发挥,萃取复型尽管能对萃取物相作结构分析,但对基体组织仍是表面形貌的复制。在这种情况下,样品减薄技术具有许多特点,特别是金属薄膜样品 减薄的特点1.能够最有效地发挥电镜的高分辨率本领;2.能够观察金属及其合金的内部结构与晶体缺陷,并能对同一微区进行衍衬成像及电子衍射研究,把形貌信息与结构信息联系起来;3.能够进行动态观察,研究在变温情况下相变的生核长大过程,以及位错等晶体缺陷在引力下的运动与交互作用。薄膜的制备要求对电子束透明,样品制备过程不影响其原有的结构,样品不能太厚,应该尽量减少非弹性散射所造成的影响。如色差,衬度的降低等。用于透射电镜观察式样的要求是:它的上下底面应该大致平行,厚度应在50-200nm,表面清洁。由大块试样制备薄膜一般需要经历以下三个步骤:薄膜的制备一般可利用砂轮片,金属丝或用电火花切割方法切取厚度0、20-0、30mm;用金相砂纸研磨,把薄块减薄到0、1mm-0、05mm左右的薄片。这种方法估计会严重发热或形成应力使样品受到影响,为此可采纳化学抛光法。它的特点是可用于陶瓷等不导电的样品。用离子束减薄或电解抛光的方法进行最终减薄,在孔洞边缘获得厚度小于200nm200nm的薄膜。离子减薄电子衍射利用透射电镜进行物相形貌观察,仅是一种较为直截了当的应用。透射电镜还可得到另外一类图像-电子衍射图。图中每一斑点都分别代表一个晶面族,不同的电子衍射谱图又反映出不同的物质结构。电子衍射主要研究金属,非金属以及有机固体的内部结构与表面结构 电子衍射所用的电子束能量在102106eV的范围内。电子衍射与X射线一样,也遵循布拉格方程。电子束衍射的角度小,测量精度差。测量晶体结构不如XRD。电子束特别细,适合作微区分析因此,主要用于确定物相以及它们与基体的取向关系以及材料中的结构缺陷等。电子衍射特点1.电子衍射可与物像的形貌观察结合起来,使人们能在高倍下选择微区进行晶体结构分析,弄清微区的物象组成;2.电子波长短,使单晶电子衍射斑点大都分布在一二维倒易截面内,这对分析晶体结构与位向关系带来特别大方便3.电子衍射强度大,所需曝光时间短,摄取衍射花样时仅需几秒钟。电子衍射原理当波长为的单色平面电子波以入射角q照射到晶面间距为d的平行晶面组时,各个晶面的散射波干涉加强的条件是满足布拉格关系:2dsin=n 入射电子束照射到晶体上,一部分透射出去,一部分使晶面间距为d的晶面发生衍射,产生衍射束。电子衍射原理当一电子束照射在单晶体薄膜上时,透射束穿过薄膜到达感光相纸上形成中间亮斑;衍射束则偏离透射束形成有规则的衍射斑点关于多晶体而言,由于晶粒数目极大且晶面位向在空间任意分布,多晶体的倒易点阵将变成倒易球。倒易球与爱瓦尔德球相交后在相纸上的投影将成为一个个同心圆。电子衍射结果实际上是得到了被测晶体的倒易点阵花样,对它们进行倒易反变换从理论上讲就可明白其正点阵的情况电子衍射花样的标定。电子衍射原理图是电子衍射示意图。Rd=L。其中R为衍射斑点与透射斑点的距离。d为晶面的晶面间距,为入射电子波的波长,L为样品到底片的距离。能够用于相机常数的测定,一般用金来进行标定。多晶金的电子衍射图选区电子衍射通过在物镜像平面处插入一个孔径可变化的选区光阑,让光阑的孔只套住我们感兴趣的那个微区,那么光阑以后的成像电子束将被挡住,只有该微区的成像电子束才能通过光阑进入中间镜与投影镜参与成像。当把成像操作变换为衍射操作后,就能够获得选区的电子衍射花样。在选区衍射中还应该注意选区与衍射的不对应性。选区电子衍射单晶衍射花样 由于单晶电子衍射谱直截了当反映晶体的倒易陈点配置,衍射花样简单,能够通过计算获得晶体对称性,点陈参数大小,相变等参数。多晶的衍射花样多晶衍射花样:由于样品是由取向混乱的小晶粒构成,因此多晶体的晶面间距的倒数为半径的倒易球面。其衍射花样为一系列的同心圆环。多次衍射花样 由于衍射束的强度特别大,几乎与透射束的强度相当,因此,能够产生二次衍射或多次衍射,使得衍射花样复杂化。电子衍射的标定多晶衍射花样是同心的环花样,能够用类似粉末X射线的方法来处理。能够计算获得各衍射环所对应的晶面间距。由此能够分析此相的晶体结构或点陈类型,也能够由晶面指数与晶面间距获得点陈常数。能够与X射线衍射分析的数据对比。单晶的衍射花样比较简单,能够获得晶面间距以及点阵类型与晶体学数据。下表是电子衍射花样与晶体结构的关系。具体指标化过程能够通过计算机完成。高分辨TEM高分辨TEM是观察材料微观结构的方法。不仅能够获得晶包排列的信息,还能够确定晶胞中原子的位置。200KV的TEM点分辨率为0、2nm,1000KV的TEM点分辨率为0、1nm。能够直截了当观察原子像感谢您的聆听！感谢您的聆听！