半导体泵浦激光原理实验(精)

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资源描述
半导体泵浦激光原理实验【实验目的】1. 了解激光特别是半导体激光器工作原理2. 调节激光器光路,观察倍频现象,测量阈值、相位匹配等基本参数,加深对激光技 术理解。【实验仪器】808nm半导体激光器、半导体激光器可调电源、Nd:YVO4晶体、KTP倍频晶体、输出镜(前腔片)、光功率指示仪【实验原理】1. 激光产生原理光与物质的相互作用可以归结为光与原子的相互作用,有三种过程:吸收、自发辐射和受激辐射。如果一个原子,开始处于基态,在没有外来光子,它将保持不变,如果一个能量为hv21的光子接近,则它吸收这个光子,处于激发态E2。在此过程中不是所有的光子都能被原子吸收,只有当光子的能量正好等于原子的能级间隔E1-E2时才能被吸收。激发态寿命很短,在不受外界影响时,它们会自发地返回到基态,并放出光子。自发辐E2EiE2Ei(b)(c)光与物质作用的吸收过程射过程与外界作用无关,由于各个原子的辐射都是自发的、独立进行的,因而不同原子发出来的光子的发射方向和初相位是不相同的。处于激发态的原子,在外的光子的影响下,会从高能态向低能态跃迁,并两个状态间的hv2iEi22(b)光与物质作用的受激辐射过程能量差以辐射光子的形式发射出去。只有外来光子的能量正好为激发态与基态的能级差时, 才能引起受激辐射,且受激辐射发出的光子与外来光子的频率、发射方向、偏振态和相位完全相同。激光的产生主要依赖受激辐射过程。激光器主要有:工作物质、谐振腔、泵浦源组 成。工作物质主要提供粒子数反转。泵浦过程使粒子从基态 Er抽运到激发态E3, E3上的粒子通过无辐射跃迁(该过程粒子 从高能级跃迁到低能级时能量转变为热能或晶格振动能,但不辐射光子),迅速转移到亚稳态E2。E2是一个寿命较长的能级,这样处于E2上的粒子不断积累,Ei上的粒子 又由于抽运过程而减少,从而实现 E2与Ei能级间的粒子数反转。激光产生必须有能提供光学正反馈 的谐振腔。处于激发态的粒子由于不稳定性而自发辐射到基态,自发辐射产生的光子各个方向都有,偏离轴向的光子很快逸出腔外,只有沿轴向的光子, 部分通过输出镜输出,部分被反射回工作物质,在两个反射镜间往返多次被放大,形成受激辐射的光放大即产生激光。2. 光学倍频光的倍频是一种最常用的扩展波段的非线性光学方法。激光倍频是将频率为 3的光,通过晶体中的非线性作用,产生频率为2 3的光。考虑电场的平方项E = Eo cos tE 2p(2) = :e2 二:E(2cos2,t 二:Eo (1 cos2 t)2准直孔出现直流项和二倍频项C0S2 t,直流项称为光学整流,当激光以一定角度入射到倍频晶体时,在晶体产生倍频光,产生倍频光的入射角称为匹配角。倍频光的转换效率为倍频光与基频光的光强比,通过非线性光学理论可以得到:丄丄2| sinkL/2I(. :kl /2)0式中L为晶体长度,13、丨23分别为入射的基频光、输出的倍频光的光强,k=k_2k2分别为基频光和倍频光的额传播矢量。【实验装置】折射率梯度透镜输出镜滤光片Nd:YVO4 “KTP【实验内容】1. 将808nmLD固定在二维调节架上,将 632.8nm红光通过白屏小孔聚到折射率梯度透镜 上。让632.8nm光和小孔及808nmLD在同一轴线上。2. 将Nd:YVO 4晶体安装在二维调节架上,将红光通过晶体并将返回的光点通过小孔。3. 将输出镜(前腔片)固定在四维调节架上。调节输出镜使返回的光点通过小孔。对于 有一定曲率的输出镜,会有几个光斑,应区分出从球心返回的光斑。4. 在Nd:YVO 4晶体和输出镜之间插入 KTP倍频晶体,接通电源,调节多圈电位器。5. 产生532nm倍频绿光。调节输出镜,LD调节架,使532nm绿光功率最大。【注意事项】1. 实验中激光器输出的光能量高、功率密度大,应避免直射到眼睛。特别是532nm绿光, 切勿用眼睛直视激光器的轴向输出光束,以免视网膜受到永久性的伤害。2. 避免用手接触激光器的输出镜,晶体的镀膜面,膜片应防潮,不用的晶体,输出腔片用 镜头纸包好,放在干燥器里。3. 激光器应注意开关步骤,先检查多圈电位器是否处于最小处,再打开电源开关,逐步调 整电位器,使电流逐渐增大,激光器出光。实验完成后,调整电位器,直到电流为零, 再关闭电源。
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