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按一下以編輯母片,第二層,第三層,第四層,第五層,創新 誠信 簡樸,*,Page:,*,按一下以編輯母片標題樣式,三福化工特殊化學品事業部化學品簡介,1.,Developer(,顯影液),TMAH(,氫氧化四甲基銨),KOH(,氫氧化鉀),NaOH,(,氫氧化鈉),Na,2,CO,3,(,碳酸鈉),2.,Etchant,(,蝕刻液),Oxalic acid(,草酸),H,3,PO,4,(,磷酸),HNO,3,(,硝酸),Acetic acid(,醋酸),HF(,氫氟,酸),3.,Stripper(,光阻剝離劑),DMSO(,二甲基亞碸),BDG(,二乙二醇單丁醚),MEA(DEA&TEA)(,單乙醇胺),NMP(,氮-甲基四氫吡咯酮),HA(,羥胺,),4.,Thinner&EBR(,光阻稀釋劑與洗邊劑),PGME(,丙二醇單甲醚),PGMEA(,丙二醇單甲醚醋酸酯),ANONE(,環己酮),NBAC(,醋酸丁酯),創新 誠信 簡樸,1,半導體製程簡介,基板,基板(玻璃或矽晶圓),金屬薄膜,金屬化(濺鍍或沉積等),光阻,(,PR),塗佈光阻,光罩,曝光,創新 誠信 簡樸,2,半導體製程簡介,基板,金屬薄膜,顯影,蝕刻,去光阻,創新 誠信 簡樸,3,1.,Developer(,顯影液),用途,利用鹼性顯影液將光阻(,PR,P,hoto,R,esist),經曝光後形成的有機酸中和、剝落，留下未反應的光阻圖案。,主要成分,TMAH,KOH,NaOH,Na,2,CO,3,創新 誠信 簡樸,4,1-1.25%,TMAH,中文名稱：25%氫氧化四甲基銨,英文名稱：25%,T,etra,m,ethyl,a,mmonium,h,ydroxide,危害性/毒性等級：,強鹼性(第八類腐蝕性物質)/具急毒性,LD50 oral rat：50 mg/kg,物理性質,分子式/結構式：,C,4,H,13,NO/(CH,3,),4,NOH,分子量：91.15(,g/mole),熔點：-,沸點：,100,閃火點：-,自然溫度：-,爆炸界限：-,比重：1.02,溶解度(,H,2,O/20,)：,全溶,pH,值：13(強鹼性),CAS No.：75-59-2,UN：1835,別名：,TMAH,創新 誠信 簡樸,5,CH,3,H,3,C,CH,3,N,TMA,H,3,CO,OCH,3,C,O,DMC,1.6,MPa,130,Methanol,CO,2,OCH,3,H,2,O,Methanol,CH,3,H,3,C,CH,3,N,CH,3,CH,3,H,3,C,CH,3,N,CH,3,CH,3,H,3,C,CH,3,N,CH,3,CH,3,H,3,C,CH,3,N,CH,3,HCO,3,TMAC,反應,水解,TMAH,生產方法(1),創新 誠信 簡樸,6,CH,3,H,3,C,CH,3,N,CH,3,CH,3,H,3,C,CH,3,N,CH,3,HCO,3,TMAC,O,2,CO,2,H,2,O,陽極,陰極,CH,3,H,3,C,CH,3,N,CH,3,CH,3,H,3,C,CH,3,N,CH,3,HCO,3,CH,3,H,3,C,CH,3,N,CH,3,CH,3,H,3,C,CH,3,N,CH,3,OH,H,2,O,H,2,離子膜,TMAH,電解,TMAH,生產方法(2),創新 誠信 簡樸,7,全球各廠,TMAH,產能,創新 誠信 簡樸,8,台灣,TMAH,進口量與價格(歷年),創新 誠信 簡樸,9,台灣,TMAH,進口量與價格(各國),創新 誠信 簡樸,10,TMAH,來源與產能,三福:7,500,mt,/y,大陸杭州(格林達),創新 誠信 簡樸,11,未來,TMAH,擴產計劃,2008-,Q1:5,000,mt,/y,台灣台南科學園區,2008-,Q3:7,000,mt,/y,大陸杭州蕭山(格林達),2008-,Q4:7,000,mt,/y,大陸杭州蕭山(格林達),2008-,Q4:5,000,mt,/y,台灣台南科學園區,創新 誠信 簡樸,12,三福化工台南科學園區,TMAH,廠,TAIWAN(10,000,mt,/y),創新 誠信 簡樸,13,25%,TMAH,規格(電子級),創新 誠信 簡樸,14,各廠牌,TMAH,規格比較,創新 誠信 簡樸,15,TMAH,實績,LCD,奇美電子、廣輝電子、友達光電、中華映管、群創光電、元太科技、久正光電、彩煇科技,LED,晶元光電、光磊科技、元砷光電、連勇科技、燦圓光電、光磊科技、洲磊科技、泰谷光電、全新光電、炬鑫科技、友嘉科技、廣鎵科技、新世紀光電,其他,多聯科技、台灣東進、銓品國際、永榮化學、永德化學、三喬貿易、和鴻國際、合皓股份、陸肯特,創新 誠信 簡樸,16,TMAH,應用,顯影液(電子業),電鍍液,創新 誠信 簡樸,17,2.,Etchant,(,蝕刻液),用途,蝕刻未受光阻保護的金屬，留下受光阻保護的金屬線路圖。,主要成分,ITO,蝕刻液,草酸,鋁蝕刻液,磷酸/硝酸/醋酸,創新 誠信 簡樸,18,2.,Etchant,(,蝕刻液),Oxalic acid(,草酸),磷酸,硝酸,醋酸,氫氟酸,創新 誠信 簡樸,19,2-1.草酸基本性質,中文名稱：草酸,英文名稱：,Oxalic acid,dihydrate,危害性/毒性等級：酸性(第八類腐蝕性物質)/,2,LD50 oral rat：7,500 mg/kg,物理性質,分子式/結構式：,C,2,H,4,O,2H,2,O,/(COOH),2,2H,2,O,分子量：126.03(,g/mole),熔點：101,沸點：150,閃火點：-,自然溫度：-,爆炸界限：-,視密度：900,kg/m3,溶解度(,H2O/20,)：10.2%,pH,值：1,CAS No.：6153-56-6,UN：-,別名：,創新 誠信 簡樸,20,草酸應用,電子業用,ITO,蝕刻液,醫藥中間體,電容器,生產電池用的鈦酸鋇,稀釷金屬提純,特殊酚醛樹脂,創新 誠信 簡樸,21,3.,Stripper(,光阻剝離劑),用途,去除蝕刻完的光阻(,PR)，,使受光阻保護的圖案(金屬線路)顯現出來。,主要成分,N-300(,三福品名：,BM-73),BDG/MEA=70/30,TOK-106,MEA/DMSO=70/30,創新 誠信 簡樸,22,3.,Stripper(,光阻剝離劑),DMSO(,二甲基亞碸),BDG(,二乙二醇單丁醚),MEA(,單乙醇胺),DEA(,二乙醇胺),TEA(,三乙醇胺),NMP(,氮-甲基四氫吡咯酮),HA(,羥,胺),創新 誠信 簡樸,23,3-1.,DMSO,基本性質,中文名稱：二甲基亞碸,英文名稱：,D,i,m,ethyl,s,ulf,o,xide,危害性/毒性等級,：,非危險物品/,F,LD50 oral rat：14,500 mg/kg,物理性質,分子式/結構式：,C,2,H,6,OS/CH,3,SOCH,3,分子量：78.13(,g/mole),熔點：18,沸點：189,閃火點：95,自然溫度：270,爆炸界限：1.8,Vol,%,比重：1.10,溶解度(,H2O/20,)：,全溶,pH,值：中性,CAS No.：67-68-5,UN：-,別名：,DMSO,創新 誠信 簡樸,24,DMSO,應用,電子業用剝離劑,藥廠用醫藥中間體或溶劑,農藥,高分子碳素纖維,紡織業用抽絲溶劑,防凍劑,膠片清洗,創新 誠信 簡樸,25,4.,Thinner&EBR(,光阻稀釋劑與洗邊劑),用途,稀釋光阻或清洗光阻。,主要成分,PGME(,丙二醇單甲醚),PGMEA(,丙二醇單甲醚醋酸酯),ANONE(,環己酮),NBAC(,醋酸丁酯),應用,油漆、塗料稀釋劑,創新 誠信 簡樸,26,
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