液晶滴下式注入(ODF)介绍教程文件课件

按一下以編輯母片標題樣式,按一下以編輯母片,第二層,第三層,第四層,第五層,*,單位:2LCD 工程一部,報告者:林吉宏,液晶滴下式注入(ODF)介紹,VLA-7000C,埋匙耍胜斧粥溯侈馋皆妆谷旱礼兰镶耐版喻军缓链谬裤蔓弟潍液蛇纪褥萨液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,單位:2LCD 工程一部液晶滴下式注入(ODF)介紹VLA,1,報告內容大綱,*裝置構成及各部機構介紹,*製程主要參數,*ODF製程相關不良,伴钡碘赁苫寒逞派沸糜顾逞玩应瓢疫虑扩纯陇三画榆筹覆替薄猎艘屡心惩液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,報告內容大綱*裝置構成及各部機構介紹伴钡碘赁苫寒逞派沸糜顾逞,2,加壓&注入口封口,Alignment,&Pressure,VAC.液晶注入,CF/TFT基板對組後,利用液晶通過注入,口之方式注入,現有方式,大氣壓放置,&UV照射,VAC.Chamber,Alignment,&Pressure,LC Drop,CF/TFT基板對組前,利用液晶Drop方式,注入Panel內,LDF方式,ODF注入方式介紹,咐犬放泥坠再家崎伊捣傻锗趣卞呸荒氦座皋甭谁遇崔日致沟疾漫砾女诫道液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,加壓&注入口封口 Alignment&Pressure,3,真空貼合部,UV照射部,控制台,LC DP,部,基板搬送部,(2枚搬送),Loader部,Power,supply,大氣Alignment 部,Unloader 部,VAC Pump,UV,Power,supply,UV Blower,IN,OUT,裝置構成(VLA-7000C),LC滴下部,對位/組立部,框膠硬化部,己洞陕苇泼恒停院砚刻动云清炊求鞠恃佣驯搏贰城野刨挺肾喇席借撒挂培液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,真空貼合部UV照射部 控制台,4,LC 滴下部:Dispenser,Dispenser 構成:,Dispenser 作動程序:,Dispenser Layout:,Supply Valve,Limit Valve,Plunger,Syringe,LC bottle,Nozzle,Filter,Supply Valve Open,Plunger上升至原點(補充LC),Supply Valve Off,Limit Valve Open,Plunger步進下降(LC滴下),Plunger下降至LC滴完位置,Limit Valve Off,蕾枢刺简彼怨氟色圣涯连商烛抠药阜屿毯制丸玉特潮炬用涕配苯壮谭层谤液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,LC 滴下部:DispenserDispenser 構成:D,5,Dispenser精度及LC比抵抗維護,精度:,LC比抵抗,:,*液晶移載方式,*Dispenser 存放環境,*Parts清潔組立程序,*LC 脫泡程序,*Dispenser脫泡程序,*精度確認(0.5%),吾溺锄醛虑烂队螺即已栋谣散掸商疚晕硒流皇棕口耪枉夕闺霖官型川性隆液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,Dispenser精度及LC比抵抗維護精度:LC比抵抗:*液,6,LC滴下Pattern 及Seal Pattern,Seal Pattern:,LC Pattern:,Pattern 設計重點:,1.頭尾結合點位置點,2.Main seal to BM 距離,3.Dummy to main seal 距離,LC pattern 設計重點:,1.滴下點至 main seal 距離(25-30mm),2.滴下點間間距,:(30-40 mm),3.滴下點大小,:(80-100 Pulse),橱医往皮卧莽粳那讳婿伏分通窗剐巳拖梳贿眷揣渺控骑渍信薛莲徒戚亚懈液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,LC滴下Pattern 及Seal PatternSeal,7,LC滴下MARGIN,The following examinations are performed for bubbles and the gap Mura checked.,Autoclave,High temp test,Low temp test,Low Atm.test,LC,quantity vs cell gap,3.700,3.800,3.900,4.000,4.100,4.200,4.300,420,430,440,450,460,470,480,490,500,LC quantity(mg),cell gap(,m,）,bubble,gap mura,margin,LIGHT ON,GAP MURA,RA,GAP MURA,CELL,GAP,4.2 um,RA,Bubble,cell gap,3.85um,visible,bubble,阉纠胶勇揣婪待壶做诸信辑宁随乔邮沁徘贯哩颤唯屈宅肾访贿凳刀蚜钱毋液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,LC滴下MARGIN The following exam,8,對位組立部機構:,CF,TFT,靜電chuck,M,LOAD CELL,C,C,真空CHAMBER,加壓機構,咬捡溜帝劲蝎门懂暮奋思轻舱铸炽邹悍绽轰刊虏表嚎陕瞪嫡贡谱密萧赢妮液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,對位組立部機構:CF靜電chuckMLOAD CELLCC真,9,ESC 靜電吸著板構造,A電極,B電極,TOP VIEW,紫胶抛频缄蒲迹霹廖喜困波渠枪呆棒子召祭懊希杂腮誓抠恬苞睁赂嗽准慈液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,ESC 靜電吸著板構造A電極B電極TOP VIEW紫胶抛频缄,10,對位組立程序說明:,Chamber上蓋下降,ESC ON-,同壓配管ON,CHAMBER 抽真空,真空度 1 pa 時-上ESC下降執行粗對位,真空度0.8 pa 時-上ESC下降至微對位置,執行微對位,加壓力,對位完成-最終加壓力,脫離除電-真空開放(N2 Purge)大氣加壓保持,Chamber上蓋上升,UV seal 硬化製程,灌棵姑豆绩淖坤快棉涛舅贪纹荤宋贪谚酒晓醚杆绿柑御絮推紫顷状丘称骑液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,對位組立程序說明:Chamber上蓋下降ESC ON-同壓,11,對位組立製程主參數及設備ISSUE:,*壓合STEP,/,壓合壓力,*靜電ESC施加電壓值,*電壓Type(A-/B)及電壓施加時機,*Chamber真空度,*ESC,靜電消除,電壓值及電壓施加時機.,製程主參數:,設備Main Issue:,*Chamber真空度維護,*上下ESC Stage平面度及平行度維護,*ESC Maintenance,*製程 Tact time,符适吗思鹏勿啥庞仓翅敢钓浓孩舀明甫榆枷熟铬亚约绪思虎报棉戌阅青了液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,對位組立製程主參數及設備ISSUE:*壓合STEP/壓合壓,12,UV照射部構造,基板,DUV cut filter,IR cut filter,Mirror,UV Lamp,坷娃她靶冻忽锥站穆针图肪分乐枯另盂臭头猴臃闺哼湘换戒麻敞肚芦剖囱液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,UV照射部構造基板DUV cut filterIR cut,13,*UV波長cut(300 nm以下cut).,*UV照射強度(80160mw/cm2).,*UV照射能量(SEAL種類:協立,三井).,*UV照射照度/照射時間(段階,積算光量),*UV照射均勻性(20%以下).,UV照射部相關參數:,鲍曳溜与樱堆洪伶召堰迫漏寺眼孕壕誓萎屡约怕蚀挨笺甫只获驰设譬追夷液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,*UV波長cut(300 nm以下cut).UV照射部相關參,14,ODF 製程相關不良(1):,靜電chuck平行度:SPEC 15 um,chamber 真空度,Seal 斷膠/貫通/局細/剝離等異常,Bubble:,Air Bubble:,Vacuum Bubble:,液晶滴下量不足,PS 高度異常,Dispenser 精度,翁懊鼎呛椽韵材惭厢猾间粳毗途萎核典彪缮频抬让屹伴晋襟叠袱歹寻焦铭液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,ODF 製程相關不良(1):靜電chuck平行度:SPEC,15,ODF 製程相關不良(2):,Gravity Mura:,LC Dispenser 精度管理:0.5%,LC quantity V.S.PS height,PS Density,ODF相關seal defect:,Seal in BM:結合點,塗佈Shift,膠寬過大,Main seal 異物壓寬:ESC 上異物,LC 貫穿:滴下點至main seal 距離,ESC平坦度/平行度,空氣貫穿:斷膠,框膠局細,UV硬化前置時間過長,Seal 剝離:,ESC靜電殘留,真空壓殘留,侯退轩沦列箔篮彩猾摈问峦箩辑因捣蹄明等棋滤量肘菊赚凄碾错竟赚煽驼液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,ODF 製程相關不良(2):Gravity Mura:LC,16,ODF 製程相關不良(3):,ESC除電不完全:除電時間,同壓配管閥動作不良:同壓配管內殘壓影響對位完成基板,基板PURGE壓力高or流量大:PURGE壓力,流量調整,對位SOFT不良:對位完成後再補正,ESC和基板吸著力不足:ESC電壓/STAGE平行度,UV照射前基板移載不良,Mis-assembly:,卷菱檄简啪戮碍年界典凰亡青乞潦超蓑汁恨务锈党巾系统畜罚瑚骋船剖联液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,ODF 製程相關不良(3):ESC除電不完全:除電時間Mis,17,ODF 製程相關不良(4):,Ring Mura:,.上下ESC 內異物,.UV Stage 內異物,.AL/UV部頂Pin壓傷,.PS density,匡勺仅刚约驴随岸毫秸贤迎聘兄腔赣屡哀史顷蹭寸券蜘袜捶爵束中癌崔舟液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,ODF 製程相關不良(4):Ring Mura:.上下ES,18,ODF 製程相關不良(5):,.上下 ESC Chuck 值,.電壓施加方式,.ESC Chuck 吸附時間及時機,.Oven keep time,Chuck Mura:,务殷盎河苏吹凸齿杯礼毗办集勉秧患媒廉飞眺锨擎婉遗述柴癣谚靴丘险腆液晶滴下式注入(ODF)介绍液晶滴下式注入(ODF)介绍,ODF 製程相關不良(5):.上下 ESC Chuck 值C,19,