磁控溅射

1、106 工业仪表与自动化装置 2014年第1期 基于单片机的磁控溅射稳压开关电源设计 周志文，马安仁 (西北民族大学电气工程学院，兰州730124) 摘要：磁控溅射真空镀膜技术与传统的化学电镀技术相比，具有环保、降耗、减排等优点，磁控 电源是这种镀膜装置的关键部件之一。该文研究和设计了以高频开关电源技术为基础的高效率、 大功率磁控稳压电源。文中介绍了主电路、控制电路的原理设计，用型，并进行了仿真实验，在此基础上完成了硬件电路、软件程序设计。通过在不同工作方式下电源输出电压和电流的调节。实际应用证明该电源具有恒流控制效果。

2、磁控溅射镀膜工艺简介,讲解人：陈智顺讲解时间：20100716,使chamber达到真空条件，一般控制在(25)E-5torrchamber内通入Ar（氩气），并启动DCpowerAr发生电离ArAr+e-在电场作用下，electrons（电子）会加速飞向a。

3、磁控溅射镀膜原理及工艺,2010级化学工程与工艺班姚伟,摘要,真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅。

4、磁控溅射镀膜原理及工艺 摘要 真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术 在现实生产生活中有着广泛的应用 真空镀膜技术有三种形式 即蒸发镀膜 溅射镀膜和离子镀 这里主要讲一下由溅射镀膜技术发展来的磁控溅射镀膜的。

5、磁控溅射法制备薄膜材料综述材料化学 张召举 摘 要 薄膜材料的厚度是从纳米级到微米级，具有尺寸效应，在国防、通讯、航空、航天、电子工业等领域有着广泛应用，其有多种制造方法，目前使用较多的是溅射法，其中磁控溅射的应用较为广泛。本文主要介绍了磁控溅射法的原理、特点，以及制备过程中基片温度、溅射功率、溅射气压和溅射时间等工艺条件对所制备薄膜性能的影响。

6、磁控溅射镀膜工艺简介,2014.6.6,尖端放电： 通常情况下空气是不导电的，但是如果电场特别强，空气分子中的正负电荷受到方向相反的强电场力，有可能被“撕”开，这个现象叫做空气的电离。由于电离后的空气中有了可以自由移动的电荷，空气就可以导电了。空气电离后产生的负电荷就是电子，失去电子的原子带正电，叫做正离子。 由于同种电荷相互排斥, 导体上的静电荷总是分布在表面上，而且一般说来分布是不均匀的。

7、1,磁 控 溅 射 原 理,815TCO,2,outline,磁控溅射原理 磁控溅射分类 直流平面靶溅镀Al电极 中频旋转靶溅镀ZAO和ITO,3,磁控溅射原理,直流辉光放电,右图为直流辉光放电的发光区电位分布 及净空间电荷沿极间距的分布图。,靠近阴极有一明亮的发光区，称为阴极 辉光区。,电子在阴极暗区发生大量的电离碰撞， 正离子被加速射向阴极。但是正离子的 迁移率远低于电子的迁移率，净空间电 荷。

8、磁控溅射技术和透明导电薄膜,什么叫镀膜,薄膜： 在固体表面上镀上一层于基体材料不同的薄层材料。 厚度通常在几微米以下。,溅射原理,溅射示意图,成膜示意图,磁控溅射原理,电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，并在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐。

9、1,磁控溅射镀膜,磁控溅射镀膜,2,磁控溅射镀膜技术的应用,1,2,3,4,Contents,磁控溅射镀膜的发展,磁控溅射镀膜的原理,膜的检测手段,磁控溅射镀膜,3,磁控溅射镀膜的发展,阴极溅射技术的发现与进展 1842年格洛夫（Grove）在研究电子管阴极腐蚀问题时，发现阴极材料迁移到真空管壁上来了，进而发现了阴极溅射现象。 直到1877年才真正应用于研究的溅射设备上。迄后70年中，由于。

10、磁控溅射镀膜技术的基本概念与应用 （学习班讲稿）,报告人：范垂祯 2004年6月,低温实验,一、引言,荷能粒子（例如氩离子）轰击固体表面，引起表面各种粒子，如原子、分子或团束从该物体表面逸出的现象称“溅射”。在磁控溅射镀膜中，通常是应用氩气电离产生的正离子轰击固体（靶），溅出的中性原子沉积到基片（工件）上，形成膜层，磁控溅射镀膜具有“低温”和“快速”两大特点。,1、溅射镀膜技术是真空镀膜技。

11、磁控溅射镀膜技术的 基本概念与应用 学习班讲稿 报告人：范垂祯 2004年 6月 低温实验 一 引言 荷能粒子 例如氩离子轰击固体表 面，引起表面各种粒子，如原子分子 或团束从该物体表面逸出的现象称 溅 射 。在磁控溅射镀膜中，通常是应用。

12、磁控溅射镀膜技术 1 概述2 溅射镀膜的基本原理3 磁控溅射目录 CONTENT 3 一概述1.定 义 溅 射 镀 膜 是 利 用 气 体 放 电 产 生 的 正 离 子 在 电 场 作 用 下 高 速 轰 击 阴 极靶 ， 使 靶 材 中。

13、磁控溅射镀膜工艺简介2014.6.6 尖端放电： 通常情况下空气是不导电的，但是如果电场特别强，空气分子中的正负电荷受到方向相反的强电场力，有可能被撕开，这个现象叫做空气的电离。由于电离后的空气中有了可以自由移动的电荷，空气就可以导电了。空。

14、磁控溅射技术及其应用演讲：2015年10月21日 目录1234 磁 控 溅 射 镀 膜 技 术 简 介磁 控 溅 射 镀 膜 技 术 原 理磁 控 溅 射 镀 膜 技 术 发 展磁 控 溅 射 镀 膜 技 术 应 用 一 磁 控 溅 射 镀。

15、磁 控 溅 射 镀 膜 技 术 的基 本 概 念 与 应 用 学 习 班 讲 稿 报 告 人 ： 范 垂 祯 2004年 6月低 温 实 验 一 引 言 荷 能 粒 子 例 如 氩 离 子 轰 击 固 体 表面 ， 引 起 表 面 各 种。

16、作者：万 仁 刚院系：物 理 02级 四 班 引言l 1842年 格 洛 夫 Grove 在 实 验 室 中 发 现 了 阴 极 溅 射 现象 。 迄 后 70年 中 ， 由 于 实 验 条 件 的 限 制 ， 对 溅 射 机 理的 认 同。