磁控溅射原理

1、1,磁 控 溅 射 原 理,815TCO,2,outline,磁控溅射原理 磁控溅射分类 直流平面靶溅镀Al电极 中频旋转靶溅镀ZAO和ITO,3,磁控溅射原理,直流辉光放电,右图为直流辉光放电的发光区电位分布 及净空间电荷沿极间距的分布图。,靠近阴极有一明亮的发光区，称为阴极 辉光区。,电子在阴极暗区发生大量的电离碰撞， 正离子被加速射向阴极。但是正离子的 迁移率远低于电子的迁移率，净空间电 荷。

2、让 不 可 能 成 为 可 能 Making the IMPOSSIBLE possible 1磁 控 溅 射 原 理815 TCO 让 不 可 能 成 为 可 能 Making the IMPOSSIBLE possible 2outli。