理光专利信息应用及培训スライド1课件

单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,*,理光专利信息应用及培训1,*,理光专利信息应用及培训1,2024/11/20,理光专利信息应用及培训1,公司名称：理光有限责任公司,成立时间：1936年2月6日,成立资金：1353亿日元,净销售额：20163亿日元,员工人数：108525人,公司数量：273家,理光集团简介,2,理光专利信息应用及培训1,主要产品及服务,影像与解决方案,影像解决方案,数字/模拟复印机，数码多功能一体机（多功能打印机），激光打印机，传真机，数码复印机，相关产品和服务，相关软件等.,网络系统解决方案,个人电脑,服务器,及相关服务,用品和技术支持等,工业用产品,热介质，光学仪器，半导体，电子元器件和测量设备等,其他,数码相机等,数码多功能一体机,激光打印机,数码复印机,传真机,数码相机,软件,半导体,网络系统解决方案,热介质,从设计开发到生产销售，售后服务和技术支持，理光集团控制产品的每一个业务流程。,生产打印机,*as of March 31,2010,3,理光专利信息应用及培训1,20,09财年公司业务情况（按区域分类）,日本,876.5,（43.5%）,美国,557.6,（27.7%）,欧洲,458.5,（22.7%）,亚太地区和中国,123.4,（6.1%）,销售区域,（综合）,销售类（综合）,影像与解决方案,1,790.2,(,88.8%,),影像解决方案,1,516.1,(,75.2%,),网络系统解决方案,274.0,(,13.6%,),百万日元,工业产品,101.6,(,5.0%,),其他,124.4,(,6.2%,),其中一个趋势是为办公室增加网络系统支持，该体统能够提供新的全球客户价值。,百万日元,4,理光专利信息应用及培训1,理光海外分部（中国）,上海理光数码设备有限公司（上海）,理光亚洲工业(深圳)有限公司,理光元件亚洲（深圳）有限公司,中国,理光软件研究中心（北京）有限公司,理光成像技术(上海)有限公司,理光中国有限公司中国总部（上海）,理光香港有限公司,理光,5,理光专利信息应用及培训1,排名,2002,2003,2004,2005,2006,2007,2008,2009,1,松下 4473,松下 4368,松下 4122,松下 3913,松下 3950,松下 4765,松下 4786,松下 5050,2,东芝 2992,东芝 3164,东芝 2914,东芝 2874,东芝 2910,东芝 3425,东芝 3255,索尼 4385,3,佳能 2981,佳能 2723,佳能 2539,佳能 2389,爱普生 2477,理光 2813,理光3168,丰田 4195,4,索尼 2671,日立 2218,日立 2096,爱普生 2236,日立 2364,日立 2722,索尼 3126,东芝3225,5,日立 2615,索尼 2212,夏普2090,日立 2108,松下2294,佳能 2654,丰田3049,佳能3220,6,NEC 2510,三菱2092,理光 1976,三菱i1938,佳能 2290,索尼 2641,电装 2703,电装 3004,7,理光 1970,夏普 1924,索尼 1813,日产 1906,索尼 1869,爱普生 2627,爱普生 2625,爱普生 2928,8,三洋1869,三洋1827,三洋 1801,夏普 1812,电装1843,电装 2611,夏普2574,本田 2773,9,松下1794,富士通1810,NTT 1738,索尼 1694,富士通 1835,富士通 2512,佳能 2550,理光 2680,10,NTT 1634,理光 1795,三洋1709,理光 1674,本田 1824,本田 2464,三菱2545,三菱2592,日本专利排名,理光专利信息应用及培训1,美国专利排名,理光,54(328)41(416)35(530)31(471)24(695)18(728)16(857)17(985),排名,2002,2003,2004,2005,2006,2007,2008,2009,1,IBM 3288,IBM 3415,IBM 3248,IBM 2941,IBM 3651,IBM 3148,IBM 4186,IBM 4887,2,佳能1893,佳能 1992,松下 1934,佳能 1828,三星,2453,三星 2725,三星 3515,三星 3592,3,美光 1833,日立 1893,佳能 1805,惠普 1797,佳能 2378,佳能 1987,佳能 2114,微软 2929,4,NEC 1821,松下,1786,惠普 1775,松下1688,松下2273,松下1941,微软 2030,佳能 2241,5,日立 1602,惠普 1759,美光1760,三星,1641,惠普 2113,因特尔 1865,因特尔 1776,日立 2146,6,松下1544,美光 1707,三星,1604,美光 1561,因特尔 1962,微软,1637,松下 1745,松下 1759,7,索尼 1437,因特尔 1592,因特尔 1601,因特尔 1549,索尼 1810,东芝 1549,东芝 1609,东芝 1669,8,通用电气 1416,飞利浦 1353,日立 1514,日立 1271,日立 1749,索尼,1481,富士通1494,索尼1656,9,惠普 1385,三星,1313,东芝 1310,东芝 1258,东芝1717,美光 1476,索尼 1485,富士通1615,10,三菱 1373,索尼 1311,索尼 1305,富士通 1154,美光 1612,惠普 1470,惠普 1424,因特尔 1534,理光专利信息应用及培训1,排名,2005,2006,2007,2008,2009,华为 3164,华为 5593,华为 5203,华为 4228,中兴 5427,2,三星 3159,三星 3770,中兴 4787,中兴 3954,华为 2813,3,飞利浦 2602,松下 2679,三星 3315,三星 2404,鴻富錦精密 2032,4,松下2530,飞利浦 2369,松下2329,鸿富锦 2015,索尼 1970,5,楽金電子1669,中兴 2322,飞利浦 2369,松下1937,松下 1620,6,索尼 1456,IBM 1435,鴻海精密1630,飞利浦 1569,飞利浦 1450,7,鴻海精密1255,索尼 1441,鴻富錦精密 1586,索尼 1537,中国石油化工,1259,8,鴻富錦精密 1255,鴻海精密1223,索尼 1534,IBM 1112,丰田 1125,9,IBM 1213,鴻富錦精密 1220,IBM 1527,东芝 1041,三星 1063,10,LG电子 1126,LG电子 1126,东芝 1081,LG电子 994,夏普,1059,中国专利申请,理光 174 320 402 345,8,理光专利信息应用及培训1,理光专利信息使用及培训,研发开始之前,研发期间,专利申请之前,9,理光专利信息应用及培训1,研发开始之前,研发部,知识产权部,新技术或新产品的理念,专利,研发需求,专利研究员,讨论,专利检索与分析,报告及咨询,研发方向调查,及决策,同竞争者的专利对比,技术趋势分析,新业务演示,避免重复研发,调整,研发目标,避免专利侵权,10,理光专利信息应用及培训1,专利研究员培训,专利研究员能力要求,（）专业技术背景,（）,知识产权,知识,（）检索技能,大多数专利研究员都是工程师出身，他们要有专业技术背景。,知识产权部从理光内部雇用资深工程师，通常情况下，他们的年龄在50岁以上。,知识产权部在知识产权知识和检索技能方面提供在职培训。,11,理光专利信息应用及培训1,研发期间,研发部,知识产权,部,专利律师,工程师检索专利,专利实施计划,检索可能的专利侵权,专利组审查专利,专利律师的意见,在可能发生专利侵权的情况下,围绕第三方正在进行的专利进行设计,宣布此专利无效,取得此专利的许可,专利对策会议,12,理光专利信息应用及培训1,理光集团的行为守则,公司活动的完整表述：1-15,8.,知识产权保护和使用,基本政策,理光集团鼓励对公司有价值的知识产权创新活动，并对这些创新进行合理的保护和使用。,实施,（1）,快速报告,所有的知识产权创新成果属于公司所有。所有主管人员和员工都应即时向公司报告最新的创新成果。,（2）,尊重外方的权利,所有主管和员工,应该尊重外方的权利，并确保他们在履行职责的时候，权利不被侵犯。,（3）,遵守他们信息公开及规定的程序。,13,理光专利信息应用及培训1,工程师培训,知识产权技能要求,（1）权利要求的解释，进行专利侵权检索,（2）,外语要求，与日本工程师需用英语交流,知识产权,部培训项目,初级课程班（工作2年以下）,知识产权的重要性，如何阅读专利说明书（权利要求书），如何报告发明，现有技术检索等等,中级课程班（工作5至10年）,官方行动的对策，权利要求的解释,，,如何避免专利侵权,等等,管理课程班（工作10年以上）,知识产权的重要性，知识产权问题,解决方案,，小组讨论,14,理光专利信息应用及培训1,专利应用之前,研发部,知识产权部,外部,发明,发明人检索现有技术,发明审查,检索人员检索现有技术,若可取得,专利权的,专利律师事务所,专利局,委托为专利申请,专利申请文件,15,理光专利信息应用及培训1,发明者培训,公司培训项目（由专业检索人员提供）,怎样使用专利检索工具,理光最初开发的“,RIPWAY,”,TM,语义搜索引擎软件,：这是一款用户友好软件，只需输入发明人的权利要求即可。,怎样检索最新的现有发明,发明者有责任找到自己发明之前的,最新现有技术,（查新）。,权利要求书中的现有技术与要发明的技术完全一致或有一些相同因素。,16,理光专利信息应用及培训1,检索人员培训（检索工程师）,大多数的日本公司拥有专利检索部门,模式1,知识产权,部,专利部门,模式2,专利公司,知识产权,部,分,公司,专利检索部,专利检索部,检索要求,检索要求,17,理光专利信息应用及培训1,雇用,(1),从母公司雇用五十多岁的熟悉某一技术领域的工程师。,培训怎样使用现有技术检索系统,如何确定可专利性（新颖性，非创造性）,(2)理光公司外进的新人（年龄在20-30岁）,进一步培训,专业技术学习,培训,开始培训两周 基础学习讨论,在、的基础上进行在职培训,外部研讨会：检索专家研讨会（高级）4天课程,由,国家工业产权信息及培训中心的专利审查员进行为期四天的培训,，利用电子终端进行检索实践，大家可从中学习到审查员检索的诀窍。,18,理光专利信息应用及培训1,高级培训,检索,检索报告,主管审查,检索时间,检索公式,关键词，分类号,缩小检索范围的技术,反馈和讨论,小组讨论（一周一次或两周一次）,自带样本,讨论,分享知识和诀窍,改变或修改,搜索过程,19,理光专利信息应用及培训1,演讲完毕，谢谢听讲,!,再见，see you again,3rew,2024/11/20,理光专利信息应用及培训1,