放电加工表面合金化课件

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按一下以編輯母片標題樣式,按一下以編輯母片文字樣式,第二層,第三層,第四層,第五層,*,*,*,放電加工表面合金化,報告人 :李健誌,指導老師:戴子堯,2007/06/05,1,放電加工表面合金化報告人 :李健誌1,大綱,前言,實驗方法與結果,結論,2,大綱前言2,前言,再鑄層,熔融組織、痘瘡與淺坑、球狀附著物、,窩孔、積碳、氣孔與裂紋。,目前文獻方法能減少上述問題,但非全面性。,實驗目的,線放電加工,Ti,合金其表面合金化的影響。,比較合金化後的表面粗糙度以及摩擦力。,3,前言再鑄層3,實驗方法與結果,田口方法,4,實驗方法與結果田口方法4,Table 1 Fixed and variable parameters used for EDWM of Ti alloys,5,Table 1 Fixed and variable pa,Table 2L8 orthogonal array used for EDWM of Ti alloys,6,Table 2L8 orthogonal array us,Fig 1.Microstructures following EDWM:,(a)Ti-6Al-4V and(b),-TiAl workpieces,7,Fig 1.Microstructures followi,Fig 2.Close-up microcracks in,-TiAl workpiece following EDWM,Fig 3.Workpiece microhardness(10,m form surface)following EDWM,8,Fig 2.Close-up microcracks in,Fig 4.main effect plots and ANOVA for:(a,b)Ti-6Al-4V and(c,d),-TiAl,9,Fig 4.main effect plots and A,Table 3.,Steel workpiece samples used for wear/tribology assessment,Fig 5.Micrograph of EDT/alloyed layer,Fig 6.Micrograph of Cr-plated EDT surface,10,Table 3.Fig 5.Micrograph of E,Fig 7.Scratch test results for roll samples textured/alloyed with partially sintered WC/Co electrodes(Sample A)and textured with graphite electrodes(Sample B):,(a)unidirectional and(b)bi-directional tests.,Fig 8.Unidirectional scratch test results for roll specimens:(a)textured/alloyed with WC/Co partially sintered electrodes(Sample A)and textured with graphite tool electrodes and Cr-plated(Sample C),11,Fig 7.Scratch test results for,結論,線放電加工過後的再鑄層厚度為,1,m,至,136,m,,硬度為,50HK,0.025,至,900HK,0.025,。,幾乎過半測試結果皆小於母材硬度。,12,結論12,結論,使用,WC/Co,電極所形成的表面硬度為最高,(,超過,900HK,0.025,),,且摩擦係數減少,50%,。,使用習用電極加工,在表面鍍上一層,Cr,,摩擦力比,WC/Co,電極所形成的表面少,30%,。,13,結論使用WC/Co電極所形成的表面硬度為最高(超過900HK,Thanks for your attention,14,Thanks for your attention14,Electrical discharge surface alloying,H.G.Lee a,J.Simao a,D.K.Aspinwall a,R.C.Dewesa,W.Voice b,a,Department of Mechanical Engineering,School of Engineering,University of Birmingham,Edgbaston,Birmingham B15 2TT,UK,b,Rolls-Royce plc,P.O.Box 31,Derby DE24 8BJ,UK,Accepted 6 November 2003,Electrical discharge surface a,
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