相关抗反射材料

按一下以編輯母片標題樣式,按一下以編輯母片,第二層,第三層,第四層,第五層,*,相關抗反射材料,班級:奈米三乙,組員:,49714029 張君瑋,49714031 張翔茹,49714052 鄭響宇,報告內容,填充抗反射材料開發,光學上的抗反射原理,抗反射材料的應用產品,抗反射微結構 -Moths Eye 蛾眼效應,太陽能電池工作原理,填充抗反射材料開發,對填充抗反射材料設計而言，三項主要的技術特性須要掌握。,(a)填充性(Filling property),(b)蝕刻選擇比(Etching selectivity)及吸光係,數,(c)與光阻劑相容性(Resist compatibility),(a)填充性(Filling property),通常填充的行為會受到通孔的深寬比、通孔的密度、填充,材料的厚度、填充材料的化性(高分子結構和分子量)的影,響。,本文使用三種不同化性的填充材料，及選擇兩種不同的填,充材料的厚度；140nm和160nm來研究填充材料的化性和厚,度對填充行為的影響。,(圖一),如(圖一)所示，在兩種不同圖案的密度、兩種不同的填充材料的厚度(140nm and 160nm)和三種不同填充材料的化性其填充特性的剖面圖。填充的行為很難定量，但由此剖面圖顯示比較厚的填充材料，會有比較小的高低落差(I-D bias)。,(圖二),如(圖二)所示，材料C有較大的操作條件，在較厚的厚度下,有最小的高低落差。,(b)蝕刻選擇比及吸光係數,在此專對蝕刻選擇比及吸光係數的關係做一探,討。針對於高分子的蝕刻速率，其定義如下：,Ohnishi number=Total Atomic Number/(Total,Carbon Number Total Oxygen Number),(圖三),Ohnishi number和蝕刻選擇比的關係,圖三顯示，當使用CF,4,/O,2,/Ar為蝕刻反應氣體,時，Ohnishi number和,蝕刻選擇比,有很強的,正相關性,(圖四)Ohnishi number 和吸光係數的關係,如圖四所示，Ohnishi number和,吸光係數,有著很強的,負相關性,，,也由此,可得知蝕刻選擇比、吸光係數和Ohnishi number是相互關連的。,(c)與光阻劑的相容性,光阻劑的相容性對於一個有著高低落差的微影製程，是非常重要的，,主要是因為相容性低的材料易於造成圖案的倒塌。,(圖五),圖案的倒塌率和材料的關係圖,如圖五所示，材料C1顯示有較佳的相容性，因為其相同的實驗條件下有,著相對較低的倒塌，其中“X”表示倒塌，“V”表示沒有發現倒塌。,最後根據以上之研究結果可知，被設計用來使用在,雙鑲崁製程的主要的三項需求為:,1.較低的高低落差填充性,2.高的蝕刻選擇比且最適化的吸光係數,以獲得較佳的線寬分布,3.良好的光阻劑相容性以提供較為寬廣的操作條件,光學上的抗反射原理,主要是利用光線在,不同介質,中藉由控制反射塗層之折射率,與厚度的相乘積等於入射波長/奇數倍的效應而產生干涉效果，以獲得抗反射效果,。,抗反射材料的應用產品,1.個人電腦、筆記型電腦,2.數位相機、手錶鏡面,3.行動電話、PDA,4.LCD TV、PSP,5.抗反射玻璃,應用於電子產品-保護模貼,AR防反光防電磁輻射保護膜,基本上採用,pet材質,，三層防刮抗電磁輻射結構。保護膜,厚度:0.25mm左右。防反光，抗電磁幅射，有效過濾紫,外線。防反光，抗電磁輻射,有效過濾紫外線。静電吸附,技術，不含膠水可多次黏貼。耐磨度極高、耐用。,透光度達到99%，畫面清晰鲜明。這種在市場上比較熱,門，質量參差不齊。,抗反射玻璃,原理:,利用特殊工藝的雙面防反射涂層，與普通玻璃相比，光的平均透過率提高5%，反射率由8-,10%降低到1.5%以下。,抗反射玻璃應用,1.太陽能電池玻璃蓋板，提高光電轉換效率。,抗反射玻璃應用,2.平板式太陽能熱水器玻璃蓋板，提高光熱轉換效率,http:/,抗反射玻璃應用,3.溫室大棚玻璃，增加蔬菜產量。,http:/ -Moths Eye 蛾眼效應,當材料,表面次微米微結構尺度小於光波長,時，使得光波無,法辨識出該微結構，於是在材料表面的折射率沿深度方向,呈連續變化，可,減小折射率急遽變化所造成之反射現象,。,由於這種結構和夜行性蛾類的眼睛構造類似，因此稱蛾眼效應。,太陽能電池工作原理,太陽能電池能將,光能,轉換成,電能,，也稱為光伏電池(Photovoltaic,PV)，是以半導體材料製作的光電元件。,http:/,太陽能電池發電原理是利用,光伏效應,，當,p,-,n,半導體材料吸收0.22.4微米波長的太陽光，產生電子電洞對，接通電路後就形成從,n,型區到,p,型區的電流。,太陽能電池的工作原理,參考資料,-,半導體科技,-,元智大學老人福祉科技研究中心,http:/