API682(第三版)机械密封标准冲洗方案讲义课件

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API682-2004(第三版第三版)冲洗布置和辅助系统图解冲洗布置和辅助系统图解(冲洗方案冲洗方案)page:01Plan 01 page:02Plan 01 page:03Plan 02 page:04Plan 02 page:05Plan 11&Plan 12 page:06Plan 11 PLAN11出口自冲洗出口自冲洗介质由泵的出口经管线进入机械介质由泵的出口经管线进入机械密封实施冲洗。密封实施冲洗。适用情况:适用情况:1.介质本身须清洁;介质本身须清洁;2.介质温度不高于介质温度不高于110;3.泵进出口间的压差不能大于泵进出口间的压差不能大于10Bar,大于,大于10Bar则需设节流阀则需设节流阀。page:07Plan 13 page:08Plan 13 PLAN13入口自冲洗入口自冲洗介质由入口经管线进入介质由入口经管线进入机封实现液体的循环流机封实现液体的循环流动动。适用情况:适用情况:1.泵进出口压力差大于泵进出口压力差大于10Bar;2.清洁介质;清洁介质;3.介质温度不高于介质温度不高于110。page:09Plan 14 page:10Plan 14 page:11Plan 21 page:12Plan 21 PLAN21出口冷却出口冷却自冲洗自冲洗介质由泵的出口介质由泵的出口经冷却器降温后,经冷却器降温后,再进入机械密封,再进入机械密封,实现对密封的冷实现对密封的冷却。却。适用情况:适用情况:1.介质温度高于介质温度高于110;2.清洁介质。清洁介质。page:13Plan 23 page:14Plan 23 page:15Plan 23安装示意图安装示意图 page:16Plan 31 page:17Plan 31 page:18Plan 32 page:19Plan 32 page:20Plan 41 page:21Plan 41 page:22Plan 51 page:23Plan 52 page:24Plan 52 page:25Plan 52 PLAN52不加压冷却方式不加压冷却方式利用压力小于工艺流体压力但不低于大利用压力小于工艺流体压力但不低于大气压力的阻隔流体,注入密封室中。由气压力的阻隔流体,注入密封室中。由于隔流体压力小于工艺流体压力,少量于隔流体压力小于工艺流体压力,少量工艺流体泄漏至阻隔流体中,被阻隔流工艺流体泄漏至阻隔流体中,被阻隔流体出密封室,到密封系统或放空系统中体出密封室,到密封系统或放空系统中进行处理,从而避免工艺流体的直接排进行处理,从而避免工艺流体的直接排放大气和环境的污染。放大气和环境的污染。技术要求技术要求:1.低压阻隔流体防止渗漏,但阻隔液压低压阻隔流体防止渗漏,但阻隔液压力不得低于力不得低于0.07MPa;2.阻隔流体须清洁,润滑,且和介质相阻隔流体须清洁,润滑,且和介质相溶;溶;3.阻隔流体的流向应与轴的旋向相同。阻隔流体的流向应与轴的旋向相同。适应场合适应场合:低沸点、易汽化的介质、危险品;低沸点、易汽化的介质、危险品;不允许介质被污染的制药行业不允许介质被污染的制药行业。page:26Plan 53A page:27Plan 53A page:28Plan 53A安装示意图安装示意图 page:29Plan 53B page:30Plan 53B page:31Plan 53C page:32Plan 53C page:33Plan 53C page:34Plan 53A、B、C page:35Plan 53A、B、C PLAN53加压冷却方式加压冷却方式利用压力大于工艺流体和大气压利用压力大于工艺流体和大气压力的阻隔流体注入密封室中,由力的阻隔流体注入密封室中,由于阻隔流体压力大于工艺流体压于阻隔流体压力大于工艺流体压力,防止了工艺流体向阻隔流体力,防止了工艺流体向阻隔流体的泄漏,从而有效地防止工艺流的泄漏,从而有效地防止工艺流对大气和环境的污染。对大气和环境的污染。技术要求技术要求:1.阻隔流体压力至少比密封腔压阻隔流体压力至少比密封腔压力高力高0.10.2MPa;2.阻隔流体须清洁,润滑,且和阻隔流体须清洁,润滑,且和介质相溶;介质相溶;3.阻隔流体的流向应与轴的旋向阻隔流体的流向应与轴的旋向相同相同。适应场合适应场合:易结晶或固化的介质;易结晶或固化的介质;易聚合介质;易聚合介质;常温含颗粒的介质。常温含颗粒的介质。page:36Plan 54 page:37Plan 54 PLAN54加压冷却方式加压冷却方式利用加压泵给阻隔流体加压,压力利用加压泵给阻隔流体加压,压力比工艺流体压高比工艺流体压高0.10.2MPa。一方。一方面,提高阻隔流体的循环速度,加面,提高阻隔流体的循环速度,加快对密封面的冷却;另一方面,阻快对密封面的冷却;另一方面,阻止工艺流体通过内侧密封向阻隔流止工艺流体通过内侧密封向阻隔流体系统的泄漏,避免工艺流体对大体系统的泄漏,避免工艺流体对大气和环境的污染。气和环境的污染。技术要求技术要求:1.阻隔流体压力比密封腔内工艺流阻隔流体压力比密封腔内工艺流体压力高体压力高0.10.2MPa;2.阻隔流体须清洁,润滑,且和介阻隔流体须清洁,润滑,且和介质相溶;质相溶;3.阻隔流体的流向应与轴的旋向相阻隔流体的流向应与轴的旋向相同;同;适应场合适应场合:高温含颗粒的介质;高温含颗粒的介质;热流体;热流体;低温介质。低温介质。page:38Plan 54 page:39Plan 61 page:40Plan 61 page:41Plan 61 page:42Plan 62 page:43Plan 62 page:44Plan 65 page:45Plan 65 page:46Plan 71、72、74、75、76 Plan 71、72、74、75、76 通常应用于干气密封通常应用于干气密封 /Thanks谢谢2012/12/15
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