纯水系统运行培训ppt课件

Click to edit Master title style,Click to edit Master text styles,Second level,Third level,Fourth level,Fifth level,*,*,单击此处编辑母版标题样式,*,*,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,纯水系统运行培训,动力站,Tuesday,November 12,2024,纯水系统运行培训,1,目 录,一 预处理部分,二 制备部分,三 抛光部分,四 水量、水质要求,目 录一 预处理部分,2,预处理系统包括以下主体设备：,-原水箱(RWT-1100),-原水泵(RWP-1100&1200),-NaClO 加药系统,-袋式过滤器(BFL-1100),-热交换器（HEX-1100）,-超滤（UFS-1100&1200）,-过滤水箱(FWT-1100),-过滤水泵(FWP-1100&1200),-活性炭过滤器（ACF-1100&1200）,一、预处理部分简介,预处理系统包括以下主体设备：一、预处理部分简介,3,-保安过滤器（SFL-1100&1200）,-RO 高压泵（ROP-1100&1200）,-一级反渗透系统(ROS-1101 1103&ROS-1201 1203),-二级反渗透系统(ROS-2101 2102&ROS-2201 2202),-反洗水泵(BWP-1100&1200),一、预处理部分简介,一、预处理部分简介,4,一、预处理部分流程,生活加压水,自 来 水,原水箱,袋式过滤器,NaCLO,3,压缩空气,UF,一级浓水排放,UF产水箱,活性炭,UF,二级浓水回用,RO水箱,二级RO,一级RO,保安过滤器,阻垢剂,还原剂,NaOH,NaOH,二级RO,一级RO,疏水排,冷水回,冷水进,蒸汽进,氮气,纯水箱,终端超滤浓水,EDI浓水,二级反渗透浓水,抛光混床,保证混床,热交换器,一、预处理部分流程生活加压水自 来 水原水箱袋式过滤器N,5,袋式过滤器,规 格：25um,作 用：去除原水中大颗粒悬浮物、颗粒,注意项目：袋式过滤器在使用后会出现污,堵现象，根据袋式过滤器压差,及时进行更换,袋式过滤器规 格：25um,6,热交换器,介 质：蒸汽、冷水,作 用：保持系统进水温度保持在设定,温度（18）,注意事项:1.根据水温及时更换换热模式,2.由于纯水系统是24小时连续,运行，为保证生产，春节检修,期 间需对板换进行清洗,热交换器介 质：蒸汽、冷水,7,超滤,超 滤 膜：欧美公司 SFP2660,作 用：去除原水中的微量悬浮物（蛋白质、病毒、,胶体），并将原水的污泥指数减到3以下，,保护后续反渗透膜,工作条件：,超滤超 滤 膜：欧美公司 SFP2660,8,超滤,运行程控步续表：,超滤 运行程控步续表：,9,超滤,运行故障分析,超滤 运行故障分析,10,活性炭,作 用：活性炭具有强吸附作用，去除悬浮,物、TOC、余氯等物质,注意事项：1、活性炭长期运行后会出现饱和,现象，此时需对饱和活性炭更换,2、活性炭吸附自来水余氯后，可,能会出现粉化现象，如果发现反渗,透保安过滤器有碳粉，需及时对活,性炭进行更换,3、活性炭需定时进行冲洗,活性炭作 用：活性炭具有强吸附作用，去除悬浮,11,保安过滤器,规 格：5um,作 用：保护反渗透膜,注意项目：保安过滤器在使用后会出现污,堵现象，根据袋式过滤器压差,及时进行更换,保安过滤器规 格：5um,12,反渗透,反渗透膜：陶氏 BW30-440,作 用：去除超滤产水中残余的悬浮物、,胶体、细菌以及大分子离子,注意事项：反渗透长期运行后会出现污染，反,渗透跨膜压差上升15%或反渗透产,水量下降 10%需根据具体污染情况,及时进行清洗，清洗以一级为主,工作条件,：,反渗透反渗透膜：陶氏 BW30-440,13,反渗透,运行程控步续表：,反渗透 运行程,14,反渗透,装置运行异常及对策：,反渗透 装置运行异常及对,15,反渗透,RO膜组件部分异常及对策：,反渗透,16,二、制备部分简介,制成系统包括以下主体设备：,-RO 产水水箱(PWT-1100),-RO 产水泵(PWP-1100&1200),-UV-TOC 杀菌装置(UVO-1100),-1um 过滤器(MCF-1200),-膜脱气装置(MDG-1100),-EDI 系统(EDI-1100&1200),-初级混床(MBX-1100&1200),-超纯水箱(UPT-1100),二、制备部分简介制成系统包括以下主体设备：,17,二、制备部分流程,微过滤器,RO水箱,UV-TOC,纯水箱,EDI,一级脱气膜,初级混床,真空,氮气,氮气,用户回水,电阻率表,水质分析回路,二、制备部分流程微过滤器RO水箱UV-TOC纯水箱,18,UV-TOC,规 格：185nm紫外线,作 用：装置即可以分解水中TOC，,同时也可以使后段电除盐系统,不受到活的有机物（细菌）的,污染,注意事项：紫外灯管属于损耗品，需及时,采购备用备件，更换时需带手,套，用无尘纸和丙酮进行清洁,UV-TOC规 格：185nm紫外线,19,微过滤器,规 格：1um,作 用：去除 UV-TOC紫外杀菌产生,的细小物质，保护脱气膜,注意事项：1、过滤器污堵了需及时进行,更换,2、春节检修时，对系统杀菌,时需将过滤器旁通或将滤芯掏,出保护好,微过滤器规 格：1um,20,脱气膜,脱 气 膜：Liqui-cel,作 用：脱气装置通过真空和氮气去除,溶解气体，如溶解氧,注意事项：1、真空度,2、氮气最大压力5.3bar,3、杀菌时旁通脱气膜,工作条件：,脱气膜脱 气 膜：Liqui-cel,21,EDI,EDI 膜 ：Ionpure VNX-E-2,作 用：将残留的水中的离子去除保证,出水达到 17.5兆以上，同时,该产品对硅 95%和一些重金,属离子达到 99%以上去除率,注意事项：春节检修期间，管道杀菌,需旁通EDI,工作条件,EDIEDI 膜 ：Ionpure VNX-E-2,22,EDI,运行故障分析,EDI 运行故障分析,23,初级混床,作 用：保证混床采用对硅有很高去除,率的半导体级混床树脂，对,EDI产水进一步处理，保证高,品质产水,注意事项：1、树脂一旦饱和需及时进行,更换,2、春节检修期间，若对管道,杀菌需旁通混床,初级混床作 用：保证混床采用对硅有很高去除,24,三、抛光部分简介,抛光系统包含以下主体设备:,-超纯水泵回路(UPP-1100&1200),-板式热交换器回路（制冷）(HEX-2100),-TOC降解装置回路(UVO-2100),-精抛光混床 回路(MBP-1100&1200),-膜脱气装置(MDG-2100),-超纯水输送泵回路(UPP-2100&2200),-超滤 回路(UF-2100&2200),-水质分析回路,三、抛光部分简介抛光系统包含以下主体设备:,25,三、抛光部分流程,疏水排,冷水回,冷水进,蒸汽进,纯水箱,UV-TOC,抛光混床,二级脱气膜,终端超滤,细菌取样,分析回路,至纯水箱,供水系统,供水旁通至纯水箱,三、抛光部分流程疏水排冷水回冷水进蒸汽进纯水箱UV-TOC抛,26,UV-TOC,规 格：185nm紫外线,作 用：分解纯水中残留的痕量TOC，,同时也可以使后段电除盐系统,不受到活的有机物（细菌）的,污染,注意事项：紫外灯管属于损耗品，需及时,采购备用备件，更换时需带手,套，用无尘纸和丙酮进行清洁,UV-TOC规 格：185nm紫外线,27,抛光混床,作 用：去除紫外线装置UV-TOC氧化,分解产生的离子,注意事项：1、树脂一旦饱和需及时进行,更换,2、春节检修期间，若对管道,杀菌需旁通混床,抛光混床作 用：去除紫外线装置UV-TOC氧化,28,二级脱气膜,脱 气 膜：Liqui-cel,作 用：二级脱氧膜进一步去除残留的,溶解氧，以保证出水中溶氧达,到标准要求。,工作条件：,二级脱气膜脱 气 膜：Liqui-cel,29,终端超滤,旭 化 成：,Asahi 6036H,作 用：,去除 纯水中最后的痕量颗粒,超滤，保证颗粒达标,工作条件：,终端超滤旭 化 成：Asahi 6036H,30,四、水量、水质要求,-回路生产 22 m/h,-回路消耗 15 m/h,-回路返回 7 m/h,四、水量、水质要求-回路生产 22 m/h,31,