《玻璃熔片法中》PPT课件

書式設定,書式設定,第 2,第 3,第 4,第 5,*,消除样品矿物效应的有效制样方法,玻璃熔片法,制样与分析技巧介绍,株式会社 理学,X,射线荧光事业部,应用技术中心,介 绍 内 容,玻璃熔片法,分析误差的要因,校正检量线法,基体校正公式,基体校正模式,(,各种模式的比较,）,基体校正常数比较,稀释率校正,强热减量,强热增量校正,助溶剂挥发校正,结论,射线荧光分析的应用领域,与,玻璃熔片法的使用行业,电磁材料,LSI,存储器,液晶CRT,磁盘,磁头,磁铁,窑业,氮化硅,氧化铝,玻璃,耐火砖,釉子,陶土,陶石,钢铁,特殊钢,表面处理钢板,铁合金,铸铁铸钢,铁矿石,电镀液,非铁金属,铝罐材料,形状记忆合金,铜合金,贵金属,镊合金,焊锡,矿业,矿石,岩石,火山灰,石油煤炭,轻油,重油,润滑脂,煤炭,油脂,切削油,环境,排放水,河川水海水,土壤污染,大气粉尘,产业废弃物,污泥煤灰,WEEE/RoHS,水泥,水泥原料,炉渣,焚烧灰,化学工业,催化剂,聚合物,医药品,肥料,颜料涂料,化妆品,其他,土壤,植物,生体,食品,文物,核电站冷却水,玻璃熔片法的特长及注意点,玻璃熔片法的特长,可以去除矿物效应和粒度效应的影响。,助溶剂的稀释效果可以减轻共存元素的影响。,标准样品可以用化学试剂调和制作,(ISO12677/ISO9516),2.,注意点,沸点低,易挥发,的元素,（,F,，,Cl,等,）,的分析有一定困难。,金属,【,非氧化态金属,；,C,（,有机物,）,和硫化物,（,CuS,2,）,】,成,分与白金坩埚起反应，损伤白金坩埚。,助溶剂的稀释使得微量元素的灵敏度降低。,玻璃熔片法,样品,称量,熔融,玻璃熔片,粉碎到,100,目以下的一样品,样品,：,助溶剂,=1:120：1,助溶剂,Li,2,B,4,O,7,等,熔融温度,10001250,熔融时间,310分,定量称量,样品量,：0.32.5g,干燥器中保存,白金坩埚,台式高频玻璃熔样机,玻璃熔片,称量单位精确为：,0.1mg,根据样品有时添加脱模剂和氧化剂,样品制作,（,玻璃熔片,）,玻璃熔片法,10:1,玻璃熔片制作例,称量,样品称量：称取量,0.4g0.1mg,助溶剂称量 称取量,4.0g0.1mg,玻璃熔片法,10:1,玻璃熔片制作例 混合投入,在试剂纸上将助溶剂和样品充分混合,倒入白金坩埚,入,玻璃熔片法,10:1,玻璃熔片制作例,熔融开始,全部溶解后,摇动,将白金坩埚放入熔样机内，投入脱模剂，开始熔融,玻璃熔片法,10:1,玻璃熔片制作例 熔融结束取出样品,熔融结束后，按所设定的时间强制空冷,。,冷却后取出玻璃熔片,。,玻璃熔片的边缘锐利，有时会划破手指。请取样时充分注意。,玻璃熔片法,粉末样品分析误差的要因,粉 末 样 品,玻 璃 熔 片 法,不均匀效应,粒度效应,矿物效应,称量误差,（,稀释率,),强热减量,（LOI),强热增量,（GOI),助溶剂挥发,(,稀释率,),玻璃熔片的误差要因,分析误差的要因,强热减量和强热增量用,Ig Loss,（强热变量）,表示。,L,oss,o,n,I,gnition,G,ain,o,n,I,gnition,玻 璃 熔 片 法 的 误 差,称,量,熔 融,称量误差,玻璃熔片,样品,助溶剂,(Li,2,B,4,O,7,etc),H,2,O,CO,2,强热减量,O,2,FeO,Fe,2,O,3,强热增量,助溶剂挥发,1000-1200 度,白金坩埚,分析误差的要因,稀释率,强热减量,(LOI),强热增量,（GOI),模式,L,S,S,F:Flux,S,L,G,F,F,F,G,S,S,S:Sample,S,S,LOI(L):loss on ignition,GOI(G):gain on ignition,GOI,LOI,理想,状态,含有,LOI,含有,GOI,含有,LOIGOI,稀释率,：,助溶剂与样品的比例,分析误差的要因,a,j,:,添加校正成分的共存成分校正常数,a,LOI,:LOI(GOI),的校正常数,a,F,:,对稀释率的校正常数,R,F,:,稀释率,K,F,:,常数项,强热减量,(LOI),，强热增量,(GOI),，稀释率校正，助溶剂挥发,检量线公式,助溶剂的稀释率的校正项,检量线一般公式（含共存元素校正项）,把,LOI GOI,作为基体成分（非测量成分）设定时，没有,a,LOI,W,LOI,项。,校正检量线法,稀 释 率 校 正,稀释率校正公式,一般公式,D,R,F,:,与基准稀释率的差,R,F,:,实际的稀释率,R,F,:,基准稀释率,a,F,R,F,+,K,F,表示：基准稀释率和实际稀释率的不同所产生成的误差。,校正检量线法,理论基体系数是由仪器内置的基本参数法（,FP,法）来计算的。,理论,X,射线强度,理论基体系数计算,含 量,理论,X,射线强度,x,x,x,D,W,理论基体系数的计算方法,校正检量线法,：,理论基体校正,变更一个元素的含量,因为使用理论计算方式，所以进行稀疏的计算时，不需要准备标准样品,基 体 校 正 模 式,强热变量含量多时,，,采用,deJongh,模式 或,JIS,模式,校正检量线法,：,基体校正模式,校正模式,非校正成分,说 明,Lachance-Traill 模式,分析,元素,除了分析元素之外，其它元素都参与校正。,工作曲线为一次方程式。,dejongh,模式,基体,元素,除了基体元素之外，其它元素都参与校正。,工作曲线为一次方程式。,JIS,模式,基体,元素,分析,元素,除了分析元素和基体元素之外，其它元素,都参与校正。,工作曲线为二次方程式，一次方程式。,JIS,模式和,deJongh,模式的基体校正系数的比较（,1,）,分析样品,:,稀释率,5:1,岩石玻璃熔片,分析成分,：SiO,2,JIS,模式,基础成分,：Ig(LOI),deJongh,模式,基础成分,：Ig(LOI),自己吸收项,JIS,和,deJongh,模式的校正系数几乎相同,校正检量线法,：,基体校正模式,模 式,SiO,2,检 量 线 比 较,JIS,模式,准确度,：0.18mass%,deJongh,模式,准确度,：0.17mass%,标准值,(mass%),标准值,(mass%),分析样品,:,稀释率,5,:1,岩石玻璃熔片,校正检量线法,：,基体校正模式,JIS,模式和,deJongh,模式的基体校正系数的比较（,2,）,分析样品,:,稀释率,5:1,岩石玻璃熔片,分析成分,：CaO,自己吸收项,JIS,模式,基础成分,：Ig(LOI),deJongh,模式,基础正分,：Ig(LOI),JIS,和,deJongh,模式的校正系数几乎相同,校正检量线法,：,基体校正模式,模 式,CaO,检 量 线 比 较,JIS,模式,正确度,：0.17mass%,deJongh,模式,正确度,：0.14mass%,标准值,(mass%),标准值,(mass%),分析样品：稀释率,5:1,岩石玻璃熔片,校正检量线法,：,基体校正模式,使用玻璃熔片法制样的各种材质样品的基体校正系数的比较,以耐火材料砖的分析为例,校正检量线法,：,基体校正系数的比较,各材质的主要成分的含量范围和稀释率,主成分的含量范围非常宽,有不同稀释率的材质,助溶剂,：,Li,2,B,4,O,7,对铬质,镁质样品,質,使用,LiNO,3,作为氧化剂,校正检量线法,：,基体校正系数的比较,主 要 成 分（mass%),材 质,SiO,2,Al,2,O,3,Fe,2,O,3,MgO,Cr,2,O,3,ZrO,2,稀 释 率,（溶剂/样品）,粘土质,3786,649,5,1,1,10,萤石质,8497,10,10,高钒土质,44,4794,10,氧化镁质,8199,10,铬镁质,27,1052,253,22.16,锆石-氧化锆质,45,4892,10,氧化铝-氧化锆-硅石,42,1082,1248,10,氧化铝-氧化镁,1093,379,10,全,范 围,97,94,27,99,53,92,1022.16,不同材质的共存元素校正系数的比较（,1,）,分析成分,SiO,2,/,测量谱线,Si-K,a,校正模式,：,Lachance-traill,模式,不同材质之间的校正系数几乎相同,校正检量线法,：,基体校正系数的比较,粘土质,高钒土质,氧化铝-氧化锆-硅石,SiO,2,检量线图,SiO,2,准确度,：0.25mass%,SiO,2,扩大,标准值,(mass%),X,射线强度,(a.u.),标准值,(mass%),X,射线强度,(a.u.),萤石质,粘土质,AZS,氧化铝,-,氧化锆,-,氧化硅,：AZS,铬,-,氧化镁,氧化镁,AZS,：10:1,：22.16:1,(,铬,氧化镁,),校正检量线法,：,基体校正系数的比较,不同材质的共存元素校正系数的比较（,2,）,分析成分,Fe,2,O,3,/,测量谱线,Fe-K,a,校模式正,：Lachance-traill,模式,不同材质之间的校正系数几乎相同,校正检量线法,：,基体校正系数的比较,氧化铝-氧化锆-硅石,高钒土质,粘土质,Fe,2,O,3,检量线图,Fe,2,O,3,正確度：0.029mass%,标准值,(mass%),X,射线强度,(a.u.),Fe,2,O,3,扩大,标准值,(mass%),X,射线强度,(a.u.),铬,-,氧化镁,：10:1,：22.16:1,(,铬,-,氧化镁,),氧化镁,铬,-,氧化镁,锆,氧化锆,校正检量线法,：,基体校正系数的比较,稀释率校正,+,共存元素校正,岩石样品,：,稀释率,10:1,和,5:1,测量成分,：SiO,2,探讨样品：,CCRMP,：,SY-2,SY-3,GSJ,：,A1,JA2,JA3,JB2,JB3,JG1a,JG2,JG3,JGb1,JR1,JR2,JLs1,JCp1,校正检量线法,：,校正方法的适用,稀释率校正,岩石样品,：,稀释率,10:1,和,5:1,测量成分,：SiO,2,标准值,(mass%),X線強度(a.u.),未校正,：5:1,：10:1,准确度,：11mass%,：5:1,：10:1,仅做稀释率校正,准确度,：3.6mass%,标准值,(mass%),X線強度(a.u.),通过稀释率校正得到了很大的改善,但由于共存元素的影响，相关性还不是很好。,校正检量线法,：,校正方法的适用,稀释率校正,+,共存元素校正,岩石样品,：,稀释率,10:1,和,5:1,测量元素,：SiO,2,：5:1,：10:1,仅做稀释率校正,准确度,：3.6mass%,标准值,(mass%),X線強度(a.u.),采用稀释率校正,正+,共存元素校正得到了更好的相关性,：5:1,：10:1,稀释率校正,+,共存元素校正,准确度,：0.33 mass%,标准值,(mass%),X線強度(a.u.),校正检量线法,：,校正方法的适用,强热变量校正,-,-1,探讨样品,：,对岩石样品,做,50mass%,的强热变量校正,（将稀释率,10:1,的样品设定为稀释率为,5:1，,强热变量为,50mass%),测量成分,：SiO,2,校正检量线法,：,校正方法的适用,强热变量未对应,对应,共存元素校正系数,强热变量未对应型,强热变量对应型,校正检量线法,：,校正方法的适用,校正模式,基体成分,第,2,基 体 成 分,未校正和强热变量未对应的共存元素校正比较,标准值,(mass%),X,射线强度,(a.u.),未,校正,：LOI,无,：LOI,有,准确度：,2.5mass%,标准值,(mass%),X,射线强度,(a.u.),LOI,未,对应,共存元素校正,：LOI,无,：LOI,有,准确度,：3.5mass%,测量成分,：,SiO,2,校正检量线法,：,校正方法的适用,强热变量未对应和对应的共存元素校正比较,X線強度(a.u.),强热变量对应,+,共存元素校正,：LOI,无,：LOI,有,正確度：0.26mass%,测量成分,：,SiO,2,LOI,未,对应,共存元素