催化剂表征与分析

单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,*,一,催化剂的表征与分析,主要参考书,固体催化剂研究方法，辛勤，科学出版社，,2004,多相催化剂的研究方法，尹元根，化学工业出版社，,1988,为什么要对催化剂进行表征？,第一节 绪论,为什么要对催化剂进行表征？,第一节 绪论,为什么要对催化剂进行表征？,第一节 绪论,催化剂结构与化学反应的关联,J. AM. CHEM. SOC. 2010, 132, 81298136,TOP. CATAL. 2009, 53,608-614,催化剂表征的目的,应用近代物理方法和实验技术，对催化剂的表面及体相结构进行研究，并将它们与催化剂的性质、性能进行关联，探讨催化材料的宏观性质与微观结构之间的关系，加深对催化材料的本质的了解。,近代物理方法主要包括,X,射线衍射技术、色谱技术、热分析技术、电子显微技术、光谱技术、低电子能谱、穆斯堡尔谱等,第一节 绪论,第一节 绪论,第一节 绪论,第一节 绪论,第一节 绪论,第一节 绪论,第一节 绪论,形貌,第一节 绪论,第一节 绪论,第一节 绪论,第一节 绪论,第一节 绪论,主 要 内 容,第一节 绪论,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,XRD,技术在分子筛制备中的应用举例,XRD patterns of samples after crystallization at 170,o,C,晶化时间和温度,第二节 催化剂组成与结构表征,XRD,技术在分子筛制备中的应用举例,XRD patterns of FeAlPO-5,结晶度,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,原位,XRD,技术的应用,原位,XRD,技术的应用,J. AM. CHEM. SOC. 2008, 130,9414-9419,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,X-,射线吸收精细结构,(XAFS),原理,X,射线的吸收,式中,t,为物质厚度；,为吸收系数，其大小反映物质吸收,X,射线的能力，是,X,射线光子能量的函数。,第二节 催化剂组成与结构表征,X-,射线吸收精细结构,(XAFS),原理,Rh,的,K,吸收边和,L,吸收边绝对能量位置示意图,当,X,射线光子能量增加到,3.002KeV,、,3.145,KeV,、,3.419,KeV,、,23.224,KeV,左右时，吸收系数,会产生跳变，这些跳变称为吸收边。吸收边产生的原因是原子内层电子激发所需要的能量与,X,射线光子能量相当，导致吸收突然增强,第二节 催化剂组成与结构表征,X-,射线吸收精细结构：吸收边附近及其广延段存在一些分立的峰或波状起伏，称精细结构。,XAFS,包括,EXAFS,和,XANES,两种技术,EXAFS (Extended x-ray absorption fine structure),是元素的,X,射线吸收系数在吸收边高能侧,30-1000,eV,范围出现的振荡。,XANES (X-ray absorption near edge structure),是元素吸收边位置,50,eV,范围内的精细结构。,X-,射线吸收精细结构,(XAFS),原理,第二节 催化剂组成与结构表征,X-,射线吸收精细结构,(XAFS),原理,第二节 催化剂组成与结构表征,求,-E,曲线,背景扣除,0,拟合,Ek,转换,求,(k),获得结构参数,X-,射线吸收精细结构,(XAFS),原理,第二节 催化剂组成与结构表征,XAFS,的应用,催化剂中金属原子环境的研究：,Cu-Ru/SiO,2,催化剂中，,Cu,的近邻原子包含,Cu,和,Ru,，而,Ru,的近邻原子主要是,Ru,，这说明,Ru,被,Cu,所覆盖。,XAFS,的应用,XAFS,的应用,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,第二节 催化剂组成与结构表征,1125cm,-1,:P-O-P,或者,Al-O-Al,不对称伸缩振动峰；,707cm,-1,:T-O-T,四面体对称伸缩振动峰；,473-466cm,-1,:T-O-T,的弯曲振动峰，,558cm,-1,:,磷酸铝分子筛独特的结构单元振动峰。,磷酸铝分子筛的红外谱图,第二节 催化剂组成与结构表征,Fig. Evolution of FTIR spectra over fresh H0108. Reaction conditions: T=650,3,n-heptane,in He, flow rate = 15 ml/min.,其它光学分析法,第二节 催化剂组成与结构表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第三节 多相催化剂酸性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,！,Spillover in Heterogeneous Catalysis, Chem. Rev. 1995, 95, 759-708,氢溢流现象,第四节 多相催化剂金属性的表征,溢流（,Spillover,） 现象,，,是指固体催化剂表面的活性中心（原有的活性中心）经吸附产生出一种离子的或者自由基的活性物种，它们迁移到别的活性中心处（次级活性中心）的现象。 它们可以化学吸附诱导出新的活性或进行某种化学反应。如果没有原有活性中心，这种次级活性中心不可能产生出有意义的活性物种，这就是溢流现象。,第四节 多相催化剂金属性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,H,2,-TPR,实例,第四节 多相催化剂金属性的表征,第四节 多相催化剂金属性的表征,扫描电镜,(SEM,，,Scanning Electron Microscopy,）,是用聚焦电子束在试样表面逐点扫描成像。试样为块状或粉末颗 粒，成像信号可以是二次电子、背散射电子或吸收电子。其中二次电子是最主要 的成像信号。由电子枪发射的能量为,5,35keV,的电子，以其交 叉斑作为电子源，经二级聚光镜及物镜的缩小形成具有一定能量、一定束流强度 和束斑直径的微细电子束，在扫描线圈驱动下，于试样表面按一定时间、空间顺 序作栅网式扫描。聚焦电子束与试样相互作用，产生二次电子发射（以及其它物 理信号），二次电子发射量随试样表面形貌而变化。二次电子信号被探测器收集 转换成电讯号，经视频放大后输入到显像管栅极，调制与入射电子束同步扫描的 显像管亮度，得到反映试样表面形貌的二次电子像,。,第四节 多相催化剂金属性的表征,扫描电镜原理,扫 描 电 镜 原 理,可以观察直径为,0,30mm,的大块试样制样方法简单。,适用于粗糙表面和断口的分析观 察；图像富有立体感、真实感、易于识别和解释。,放大倍数变化范围大，一般为,15,200000,倍，最大可达,10,1000000,倍，对于多相、多组成的非均匀材料便于低倍下的普查和高倍下的观察分析。,可进行多种功能的分析。与,X,射线谱仪配接，可在观察形貌的同时 进行微区成分分析；配有光学显微镜和单色仪等附件时，可观察阴极荧 光图像和进行阴极荧光光谱分析等。,可使用加热、冷却和拉伸等样品台进行动态试验，观察在不同环境 条件下的相变及形态变化等。,第四节 多相催化剂金属性的表征,扫描电镜的特点,透射电镜,(TEM,，,Transmission Electron Microscope,）,以电子束透过样品经过聚焦与放大后所产生的物像，投射到荧光屏上或照相底片上进行观察。透射电镜的分辨率为,0.1,0.2nm,，放大倍数为几万几十万倍。由于电子易散射或被物体吸收，故穿透力低，必须制备更薄的超薄切片,(,通常为,50,100nm),。电子束投射到样品时，可随组织构成成分的密度不同而发生相应的电子发射，如电子束投射到质量大的结构时，电子被散射的多，因此投射到荧光屏上的电子少而呈暗像，电子照片上则呈黑色。称电子密度高,(electron dense),。反之，则称为电子密度低,(electron lucent),。,第四节 多相催化剂金属性的表征,透射电镜的原理,透,射,电,镜,的,原,理,电子显微镜在催化剂研究中的应用,催化剂微晶大小分布的测定和表征,催化剂微粒形态的观察,第四节 多相催化剂金属性的表征,TEM micrograph data for the catalyst. (a) Particle distribution and morphology. (b) High-resolution TEM image of a Pt particle. (c) EDX of a Pt particle. (d) Pt particle size distribution histogram.,第五节 多相催化剂的多孔性表征,催化剂的比表面积和孔结构特征影响,物料分子的扩散,催化剂的活性和选择性,催化剂的强度和寿命。,物理吸附理论简单介绍,表面积计算,孔结构分析,第五节 多相催化剂的多孔性表征,1.1,物理吸附理论简单介绍,吸附现象,:,吸附作用指的是一种物质的原子或分子附着在另一种物质表面上的过程,-,物质在界面上变浓的过程。界面上的分子与相里面的分子所受的作用力不同而引起的。,*,气固接触面来说，由于固体表面分子受力不均衡，就产生一个剩余力场，这样就对气体分子产生吸附作用。,*,吸附的分子仍是在不断运动的（例如振动）。,*,气体分子能克服固体表面的引力，会离开表面造成脱附。,*,吸附与脱附之间可以建立动态平衡,.,第五节 多相催化剂的多孔性表征,吸附剂,:,具有吸附能力的固体物质,.,吸附质,:,被吸附剂所吸附的物质,(,如氮气,).,通常采用氮气,氩气或氧气为吸附质进行多孔物的比,表面,孔体积,孔径的大小和分布的测定,.,也可通过完,整的吸附脱附曲线计算出介孔部分和微孔部分的体,积和表面积等,.,吸附平衡等温线,:,以压力为横坐标,恒温条件下吸附质在,吸附剂上的吸附量为纵坐标的曲线,.,通常用比压,(,相对压力,),p/p,0,表示压力,p,为气体的真实压力,p,0,为气体在测量温度,下的饱和蒸汽压,.,1.1,物理吸附理论简单介绍,第五节 多相催化剂的多孔性表征,物理吸附,*物理吸附是吸附质分子靠,范德华力,（分子引力）在吸附剂表面上吸附，它类似于蒸汽的凝聚和气体的液化。,*表面上,剩余力场,是,表面原子配位不饱和,造成的，作用力较弱，致使物理吸附分子的结构变化不大，接近于原气体或液体中分子的状态。,*物理吸附由于是范氏力起作用，而范氏力在同类或不同类的任何分子间都存在，所以是,非专一性,的，在表面上可吸附多层。,1.1,物理吸附理论简单介绍,第五节 多相催化剂的多孔性表征,化学吸附,*化学吸附类似于化学反应，吸附质分子与吸附剂表面原子间形成吸附,化学键,。,*被化学吸附的分子与原吸附质分子相比，由于吸附键的强烈影响，结构变化较大。,*由于化学吸附同化学反应一样只能在特定的吸附剂吸附质之间进行所以具有,专一性,，并且在表面,只能吸附一层,。,1.1,物理吸附理论简单介绍,第五节 多相催化剂的多孔性表征,吸附现象及其描述,吸附量表示方法,*在一定条件下，单位重量的固体吸附剂所吸附的吸附质的量或体积（一般,换算成标准状态,STP,）,吸附现象描述,在测定吸附量过程中发现，吸附剂吸附一种气体吸附质时，其吸附量（,）,=,f,(,T,p,) (1-1),T=,常数,=,f,(,p,),称吸附等温线,(1-2),p,=,常数,=,f,(,T,),称吸附等压线,(1-3),=,常数,p,=,f,(,T,),称吸附等量线,(1-4),1.1,物理吸附理论简单介绍,第五节 多相催化剂的多孔性表征,吸附等温线形式,*假设温度控制在气体临界温度下，,=,f,(,p/p,0,),(1-5),式中,p,0,吸附质饱和蒸汽压,*气体吸附量普遍采用的是以换算到标准状态（,STP,）时的气体体积容量（,cm,3,或,ml,）表示，于是方程,(1-5),改写为：,v,=,f,(,p/p,0,),(1-6),吸附现象及其描述,1.1,物理吸附理论简单介绍,第五节 多相催化剂的多孔性表征,Brunauer,分类的五种等温线类型,、,、,型曲线是凸形,、,型是凹形,1.1,物理吸附理论简单介绍,第五节 多相催化剂的多孔性表征,微孔活性炭、分子筛,型,等温线相当于朗格谬尔单层可逆吸附过程。,型,等温线相当于发生在非孔或大孔固体上自由的单一多层可逆吸附过程，位于,p/p,0,=0.05-0.10,的,B,点，是等温线的第一个陡峭部，,它表示单分子层饱和吸附量。,型,等温线不出现,B,点，表示吸附剂与吸附质之间的作用很弱,.,相对压力,p/p,0,吸附量,1.1,物理吸附理论简单介绍,第五节 多相催化剂的多孔性表征,型,等温线是一种特殊类型的等温线，反应的是固体均匀表面上谐式多层吸附的结果。（有,毛细凝聚现象,发生）,型,等温线很少遇到，而且难以解释，虽然反映了,吸附质与吸附剂之间作用微弱,的,型等温线特点，但在高压区又表现出有孔充填（,毛细凝聚现象,）。,1.1,物理吸附理论简单介绍,吸附等温方程,吸附现象的描述除用上述的等温线外，有些吸附现象可以用数学方程来描述。,描述吸附现象比较重要的数学方程有：,朗格谬尔（,Langmuir,）等温方程,BET,吸附等温方程,弗朗得利希,(,Freundich,),等温方程,焦姆金,(,Temkin,),等温方程,1.1,物理吸附理论简单介绍,第五节 多相催化剂的多孔性表征,单分子层吸附等温方程,朗格谬尔（,Langmuir,）等温方程,模型的基本假定：,吸附表面在能量上是均匀的，即各吸附位具有相同的能量；,被吸附分子间的作用力可略去不计；,属单层吸附，且每个吸附位吸附一个质点；,吸附是可逆的。,用,表示覆盖度，即吸附剂表面被气体分子覆盖的分数，未被覆盖分数应为,(1-,),，则,吸附速率,k,a,p,(1-,) (1-7),脱附速率,k,d,(1-8),第五节 多相催化剂的多孔性表征,单分子层吸附等温方程,朗格谬尔（,Langmuir,）等温方程,当达到动态平衡时，,其中,式中：,p,吸附质蒸气吸附平衡时的压力；,k,a,k,d,分别为吸附和脱附速率常数；,K,该吸附过程的吸附系数，即吸附平衡的平衡常数；,K,0,指数表达式的指前因子，近似认为与温度无关。,第五节 多相催化剂的多孔性表征,单分子层吸附等温方程,朗格谬尔（,Langmuir,）等温方程,如果用,v,（,STP,ml/g,）表示吸附量，,v,m,（,STP,ml/g,）表示单分子层饱和吸附量，则，式（,1-10,）化简得：,(1-11,）,式（,1-10,）与式（,1-11,）都称为朗格谬尔吸附等温式，他们在用,v,对,p,作图时的形状与,型吸附等温线相同。实际上，分子筛或只含微孔的活性炭吸附蒸汽时的吸附等温线就是,型的，因此,型又称为朗格谬尔吸附等温线。,式（,1-11,）在用,p,/,v,对,p,作图,时是一条直线，,其斜率为,1/,v,m,，截距为,1/(,v,m,K),，由此可以求出单分子层饱和吸附量,v,m,。,第五节 多相催化剂的多孔性表征,多分子层吸附等温方程,BET,吸附等温式,单分子层吸附等温方程无法描述除,型等温线以外的其他等温线。为了解决这个困难，布朗诺尔（,Brunauer,）、埃米特（,Emmett,）和泰勒（,Teller,）提出了多分子层吸附模型，并且建立了相应的吸附等温方程，通常称为,BET,等温方程。,BET,模型假定：,吸附表面在能量上是均匀的，即各吸附位具有相同的能量；,被吸附分子间的作用力可略去不计；,固体吸附剂对吸附质,气体的吸附可以是多层的，第一层未饱和吸附时就可由第二层、第三层等开始吸附，因此各吸附层之间存在着动态平衡；,自第二层开始至第,n,层（,n,），各层的吸附热都等于吸附质的液化热。,第五节 多相催化剂的多孔性表征,多分子层吸附等温方程,BET,吸附等温式,按照朗格谬尔吸附等温方程的推导方法同样可得到,BET,吸附等温方程：,式中,p,0,吸附温度下吸附质的饱和蒸汽压；,v,m,单分子层饱和吸附量；,C,BET,方程,C,常数，其值为,exp(,E,1,-,E,2,)/,RT,E,1,为第一吸附层的吸附热。,由式可见，当物理吸附的实验数据按,p,/,v,(,p,0,-,p,),与,p,/,p,0,作图时应得到一条直线。直线的斜率,m,= (,C,-1) /(,v,m,C,),在纵轴上的截距为,b,=1/(,v,m,C),，所以,(1-13),(1-14),根据直线的斜率和截距,可求出形成单分子层的吸附量,V,m,=1/(,斜率,+,截距,),和常数,C=,斜率,/,截距,+1.,以,P/V(P,0,-P),对,P/P,0,作图,得一直线,5,第五节 多相催化剂的多孔性表征,1.2,表面积计算,常用的计算方法有：,BET,法,B,点法,经验作图法,其它方法,第五节 多相催化剂的多孔性表征,BET,法,BET,吸附等温方程,单层饱和吸附量,v,m,：,设每一个吸附分子的平均截面积为,A,m,(nm,2,),，此,A,m,就是该吸附分子在吸附剂表面上占据的表面积：,式中,N,A,阿伏伽德罗常数（,6.02x10,23,）。,第五节 多相催化剂的多孔性表征,*埃米特和布郎诺尔曾经提出,77,K,（,-195,）时液态六方密堆积的氮分子横截面积取,0.162nm,2,，简化得到,BET,氮吸附法比表面积的常见公式：,*,实验结果表明，多数催化剂的吸附实验数据按,BET,作图时的直线范围一般是在,p/p,0,0.05-0.35,之间。,*,C,常数与吸附质和表面之间作用力场的强弱有关。给定不同的,C,值，并以,v,/,v,m,对,p/p,0,作图，就得到下图的一组曲线。,BET,法,第五节 多相催化剂的多孔性表征,常数,c,作参数，,以吸附重量或吸附体积（,W/W,m,或,V/,V,m,）对,x=P/P,0,作图,。,a)c2,，,II,型吸附等温线,;,b)c2,，,III,型吸附等温线,BET,公式适用比压范围,:,0.05x0.35,6,BET,法,第五节 多相催化剂的多孔性表征,*随,C,值的增加，吸附等温曲线由,型变为,型，曲线在,v,/,v,m,=1,处的弯曲越来越接近直角。这反映了第一吸附层和其它吸附层之间吸附力场的差异越来越大。,*当,C,值很大时，就可以由实验数据确定,v,m,的值。在,C,值比较小时，尽管也可以由,BET,公式计算得到,v,m,的值，但此时由于实验数据的微小变动就能引起,v,m,值较大变化。从图形上看，随着曲线弯曲趋于平缓而不明显，,v,m,不确切增大。当,C,值接近于,1,时，甚至根本无法求算,v,m,的值。,BET,法,第五节 多相催化剂的多孔性表征,一点法,氮吸附时,C,常数通常都在,50,200,之间，由于,C,常数较大，所以在,BET,作图时的截距,1/,(,v,m,C,),很小，在比较粗略的计算中可以忽略，即可以把,p,/,p,0,在,0.200.25,左右的一个实验点和原点相连，由它的斜率的倒数计算,v,m,值，通常称为一点法或单点法。只有当,C,值,1,的前提下，二者误差一般在,10%,以内。,多点法,相对于一点法来说，常规,BET,作图测定比表面要进行多个实验点（一般取五点）测量，因此又称多点法。,BET,法,第五节 多相催化剂的多孔性表征,1.3,微孔结构分析,1)D-R,方程,2)Horvaih-Kawazoe (,-,),方程,Horvaih,-Kawazoe (,-,),方程,a.H,-K,原方程,:,假设,:,依照吸附压力大于或小于对应的孔尺寸的一定值,微孔完全充满或完全倒空,;,吸附相表现为二维理想气体,.,适合狭缝孔模型,:,第五节 多相催化剂的多孔性表征,b.,H-K-S-F,方程,c.H,-K,球形孔展开式,第五节 多相催化剂的多孔性表征,d. H-K,改进式,N,av,-,阿伏伽德罗常数,;,N,a,N,A,-,单位吸附质面积和单位吸附剂面积的分子数,;,Aa,A,A,-,吸附质和吸附剂的,Lennard,-Jones,势常数,;,-,气体原子与零相互作用能处表面的核间距,;,L-,狭缝孔两平面层的核间距,;,d,0,-,吸附质和吸附剂原子直径算术平均值,.,适用于狭缝孔、圆柱孔、球形孔,第五节 多相催化剂的多孔性表征,吸附滞后现象,对于一端封闭的圆筒孔,，发生凝聚和蒸发时，气液界面都是球形曲面， ，无论是凝聚还是蒸发相对压力都可以表示为： ，因此,吸附和脱附分支之间没有回线,对于两端开口的圆筒孔,，发生毛细孔凝聚时，气液界面是圆柱形， ， ， ，相对压力都可以表示为： 。发生蒸发时，气液界面是球形，相对压力都可以表示为 。两式比较， 。这时，,吸附与脱附分支就会发生回线，且脱附曲线在吸附曲线的左侧,。,第五节 多相催化剂的多孔性表征,1.4,中孔孔结构分析,型、,型曲线则有吸附滞后环的可能原因,吸附时有孔壁的多分子层吸附和在孔中凝聚两种因素产生，而脱附仅由毛细管凝聚所引起。这就是说，吸附时首先发生多分子层吸附，只有当孔壁上的吸附层达到足够厚度时才能发生凝聚现象；而在与吸附相同的,p/p,0,比压下脱附时，仅发生在毛细管中的液面上的蒸汽，却不能使,p/p,0,下吸附的分子脱附，要使其脱附，就需要更小的,p/p,0,，故出现脱附的滞后现象，实际就是相同,p/p,0,下吸附的不可逆性造成的。,第五节 多相催化剂的多孔性表征,1.4,中孔孔结构分析,A,类回线：吸附和脱附曲线都很陡，发生凝聚和蒸发时的相对压力比较居中。具有这类回线的吸附剂最典型的是两端开口的圆筒孔。,B,类回线：典型的例子是具有平行板结构的狭缝孔。开始凝聚时，由于气液界面是大平面，只有当压力接近饱和蒸汽压时才发生毛细凝聚（吸附等温线类似,型）。蒸发时，气液界面是圆柱状，只有当相对压力满足 时，蒸发才能开始。,第五节 多相催化剂的多孔性表征,几种常见的吸附回线,C,类回线：典型的例子是具有锥形管孔结构的吸附剂。当相对压力达到与小口半径,r,相对应的值时，开始发生凝聚，一旦气液界面由柱状变为球形，发生凝聚所需要的压力迅速降低，吸附量上升很快，直到将孔填满。当相对压力达到与大口半径,R,相对应的值，开始蒸发。,D,类回线：典型的例子是具有锥形结构的狭缝孔吸附剂。与平行板模型相同，只有当压力接近饱和蒸汽压时才开始发生毛细孔凝聚，蒸发时，由于板间不平行，,Kelvin,半径是变化的，因此，曲线并不像平行板孔那样急剧下降，而是缓慢下降。如果窄端处间隔很小，只有几个分子直径大小，回线往往消失,。,第五节 多相催化剂的多孔性表征,几种常见的吸附回线,1.4,中孔孔结构分析,1)IV,型吸附等温线,-,中孔孔结构,2)Kelvein,方程,ln(p/p,0,)=2,V,m,/r,m,RT,为吸附液体表面张力，,r,m,为孔半径，,V,m,为吸附质液体的摩尔体积,p/p,0,0.3-0.4,，,Kelvein,方程适用,p/p,0,=0.3-0.4,处回环闭合，,Kelvein,方程不适用。,第五节 多相催化剂的多孔性表征,孔分布计算的方法之一,BJH,法,BJH,方法,r,m,= 2,V,m,/RTln(p/p,0,),假定吸附层厚度,t,只与相对压力有关而与孔半径无关,Kelvin,法不适用小的介孔, DFT,法可以利用,但会出现双峰孔分布之类错误,介孔分子筛中存在非真实微孔隙率,不能精确地确定介孔尺寸,第五节 多相催化剂的多孔性表征,第五节 多相催化剂的多孔性表征,压汞法测孔径,水银在一般固体的孔中形成凸液面，欲使水银进入固体孔中须克服毛细压差。即,当,、,已知，通过测定毛细压差可计算固的孔径。如催化剂的孔径测定。,1.5,大孔孔结构分析,1.5,大孔孔结构分析,分子筛的微孔、介孔分布,第五节 多相催化剂的多孔性表征,H-K,法,BJH,法,分子筛的比表面积,催化剂的大孔分布,固体催化剂表征,-,相互作用,固体催化剂表征,-,相互作用,固体催化剂表征,-TPD-MS,在分子筛制备中的应用,谢 谢 ！,