电子束蒸发PPT

单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,2011/10/21,#,真空蒸发技术,许爱燕,21105004,真空蒸发镀膜法：将固体,材料,置于,高真空,环境中,加热,，使之,升华,或,蒸发,并,沉积,在特定,衬底,上以获得薄膜的工艺方法,真空蒸发技术,高频感应蒸发,激光束蒸发,反应蒸发,电阻热蒸发,电子束蒸发,技术分类：依据蒸发源的不同,电阻热蒸发,优点：,构造简单、造价便宜、使用可靠,缺点：,加热所达最高温度有限、蒸发速率较低、蒸发面积小、不适用于高纯和高熔点物质的蒸发,热蒸发：蒸发,材料,在,真空室,中被,加热,，其,原子,或,分子,从表面,逸出,的现象,加热方式：电阻加热,电阻材料：难熔金属,电子束蒸发：将蒸发,材料,置于,水冷坩埚,中，利用电子束,直接加热,使蒸发材料,汽化,并在,衬底,上,凝结,形成薄膜,电子枪由电子束聚焦方式的不同分类：,直式电子枪,环枪（电偏转）,e,形枪（磁偏转）,蒸度高熔点薄膜和高纯薄膜的一种主要加热方法,环形枪结构示意图（叶志镇,2008,）,优点,：不易污染,功率大,可蒸发高熔点材料,成膜质量较好,缺点,：要求高真空 设备成本高,易污染 斑点固定 易“挖坑”,功率和效率都不高,直枪结构示意图（叶志镇,2008,）,优点,：使用方便,功率变化范围广,易于调节,缺点,：设备体积大,结构复杂,成本高 易污染,e,形枪结构示意图（叶志镇,2008,）,优点,：不易污染 功率大,可蒸发高熔点材料 成膜质量较好,缺点,：要求高真空,设备成本高,电子束蒸发特点：,优点,： 直接加热，效率高,能量密度大，蒸发高熔点材料,冷坩埚，避免反应和蒸发 ，,提高薄膜纯度,缺点,：装置复杂,残余气体和部分蒸气电离,对薄膜性能产生影响,高频感应蒸发,工作原理：,线圈在,高频磁场,作用下因产生强大的,涡流损失,和,磁滞损失,而升温，使材料受热蒸发。,高频感应加热（叶志镇,2008,）,优点,：污染少,蒸发速率大,不易产生飞溅,操作简单,缺点,：不能预除气,功率不能微调,装置复杂、昂贵,激光束蒸发,工作原理,：采用,激光束,作为蒸发材料的一种,热源,，让高能量的激光束,透过,真空式窗口，对蒸发材料,加热蒸发,，通过,聚焦,可使激光束功率密度提高到,10,6,w/cm,2,以上。,激光蒸发装置（叶志镇,2008,）,优点,：可蒸发高熔点材料,热源在室外，,简化真空室,非接触加热，无污染,适于超高真空下制取纯洁薄膜,缺点,：费用高,并非所有材料均能适用,反应蒸发,工作原理,：在一定反应气氛中蒸发,金属,或,低价化合物,，使之在淀积过程中发生,化学反应,而生成所需的,高价化合物,薄膜,反应蒸发装置图（叶志镇,2008,）,特点：,产生等离子体，使蒸发材料和反应气体电离活化，提高反应效率,反应蒸发法是真空镀膜方法的一种改进,谢谢大家,