员工培训内容答案课件

2024/8/3员工培训内容答案员工培训内容答案2023/7/26员工培训内容答案11 公司规章制度公司规章制度 公司规章制度包括：用工制度、薪酬、工作制度、加班、请假、法定节假、病假、事假、婚丧假和产假、探亲假、干休假、社会保险及福利、抚恤金、奖励、纪律处分、矿工、迟到和早退、工作鉴定、守则、员工证、安全防护用品、更衣室、员工出入工厂规定、参观工厂规定、自行车和摩托车停放规定、卫生制度、员工业余学习和脱产学习规定、门卫制度、电脑、传真机和复印机等设备的使用规定、电话使用规定、使用车辆的有关规定、南玻公司单身宿舍管理规定、安全措施等。详细条款及其解释请参见中国南玻集团股份有限公司员工手册。1 公司规章制度22 南玻集团南玻集团 精细玻璃事业部精细玻璃事业部总经理副总经理总助总助开发部 加工部 质管办 品质部 成膜二部 抛光部 成膜一部 办公室 财务部 市场部 工程技术部 ITO生产线 右切割线 左切割线 抛光线 经营部 ITO生产线 抛光线 2 南玻集团 精细玻璃事业部总经33 深圳伟光导电膜有限公司 深圳南方超薄浮法玻璃有限公司导电玻璃厂 从92 年开始，南玻集团透过其下属公司先后引进了日本和德国的大型磁控溅射镀膜生产线，生产液晶显示器用的透明导电膜玻璃。投资伊始，一批在真空镀膜领域有多年从业经验的专业人员，开始了又一轮向更高技术和更高质量的不懈追求。秉承南玻集团一贯的经营理念，对生产设备、生产环境和产品及服务质量的严谨控制和精益求精度，使得南玻集团的透明导电膜玻璃自投产以来，广获佳誉，深受用户信赖，同时生产规模不断扩大。98年产量将逾100万平方米，已成为东南业地区最大的透明导电膜玻璃供应商之一。3 深圳伟光导电膜有限公司 4产品类型 ITO导电玻璃的主要特点是透明度高、膜层导电性好、热稳定性、图形加工性。TN型型ITO玻璃：玻璃：基片厚度：0.4mm,0.55mm,0.7mm,1.1mm.ITO厚度：12nm,15nm,20nm,25nm,30nm,35nm,40nm,45nm,50nm,70nm,125nm,150nm,200nm.STN型型ITO玻璃：玻璃：基片厚度：0.4mm,0.55mm,0.7mm,1.1mm.ITO厚度：12nm,15nm,20nm,25nm,30nm,35nm,40nm,45nm,50nm,70nm,125nm,150nm,200nm.触膜屏ITO玻璃：ITO膜厚12nm,基片厚度1.1-2mm.扫描仪玻璃：3mm厚产品类型54 应用领域和上、下游产业应用领域和上、下游产业4 应用领域和上、下游产业6 在显示器领域，据预测，下一世纪平板显示器的市场将超过传统的阴极射线管，进入所谓的平板显示时代。目前，日常生活中所接触到的平板显示器件应用主要有各种电子产品上的液晶显示器、笔记本电脑、可视电话、数码相机、壁挂电视等。这些种类繁多的平板显示器件的制造所需要的基本材料之中，透明导电玻璃是最主要的材料。目前，公司产品主要应用于TN型、STN型液晶显示器件的透明电极和触摸屏的导电层。触摸屏从技术原理上可分五类：电阻技术触摸屏、电容技术触摸屏、表面声波技术触摸屏、红外线扫描技术触摸屏、矢量压力传感技术触摸屏。我们的触摸屏客户主要生产四线电阻和五线电阻触摸屏。上游材料超薄浮法玻璃主要从板硝子、皮尔金顿、旭硝子、格拉威宝、中央硝子等厂商购买；ITO靶材选用LH-ITO和JE-ITO。在显示器领域，据预测，下一世纪平板显示器的市75 镀膜生产线的功能 生产线设备主要由玻璃清洗机、超净百级室和连续溅射镀膜系统组成。玻璃清洗机只是用于玻璃基片的清洗，使玻璃表面清洁以便镀膜。连续溅射系统是生产线的核心设备，连续溅射镀膜系统是一个庞大的真空系统，以德国莱宝-巴尔萨斯工艺系统的Aristo 800镀膜系统为例，其主要由以下部分组成：1 装卸片台 2 进口室 3 缓冲室 4 高频溅射室 5 直流溅射室 6 缓冲室 7 出口室 8 回框线 装卸片台：清洗好的玻璃基片在此装上框架小车，以便输送进真空室镀膜；镀好的成品在此下车，送在线检测。进口室（出口室）：实现大气状态和真空状态的转换。缓冲室：为进口室（出口室）快速破坏真空创造条件，还能避免来自进口室（出口室）频频破坏真空对溅射室的冲击。高频溅射室：高频溅射SiO2阻挡膜层。直流溅射室：溅射ITO膜层。回框线：装有镀膜成品的小车从出口室出来，通过回框线返回装卸片台。5 镀膜生产线的功能8切磨加工线功能把大片玻璃按规定要求切割、清洗、倒直角边或圆边处理。其中2mm-5mm倒角为辨认角，用于标识浮法流向和抛光-镀膜面。在线检查和复检保证原片质量。抛光线功能南玻公司从几个供货商处采购玻璃原片，并按玻璃供应商的标准检验。对从切磨加工线送来的合格样片进行抛光和筛选，使其平整度和表面质量达到STN型LCD的要求。切磨加工线功能9ITO基本知识在显示器领域，平扳显示器件Flat Panel Display(FPD)的市场将很快超过传统的阴极射线管(CRT)显示器，进入“平板显示时代”。目前，日常生产活中所接触到的平板显示器件应用主要有各种电子产品上的液晶显示器（LCD），笔记本电脑，可视电话，数码相机，壁挂电视等，这些种类繁多的平板显示器件的制造所需要的基本材料之中，透明导电玻璃是主要的材料之一。所谓透明导电玻璃，是在厚度为0.4-1.1mm的平板玻璃的表面镀一层透明导电膜，通常透明导电膜的材料是掺氧化铟锡(ITO)，一种n型半导体，故透明导电玻璃通常也称为ITO玻璃。这种ITO膜具有透光性好，面电阻低的特点，其电阻率一般在3x10-14/cm左右，已接近金属的电阻率，是制造平板显示器件的理想材料。ITO基本知识在显示器领域，平扳显示器件Flat Panel10ITO镀膜线工业上，大批量的透明导电膜玻璃的制造技术都是采用溅射成膜技术。生产线设备主要由玻璃清洗机、超净百级室和连续溅射镀膜系统组成，其中连续溅射系统是生产线的核心设备。玻璃清洗机则用于玻璃基片的清洗，使玻璃表面清洁以便镀膜。连续溅射镀膜系统是一个庞大的真空系统，以德国莱宝-巴尔萨斯工艺系统(Balzers Process System)的Aristo 800镀膜系统为例，其主要由以下部分组成：1装卸片台 2进口室 3加热室 4高频溅射室 5直流溅射室 6冷却室 7出口室 8回框线ITO镀膜线工业上，大批量的透明导电膜玻璃的制造技术都是采用11ITO镀膜线说明1.装卸片台(Mod1-2)清洗好的玻璃基片在此装上框架上车，以便输送进真空室镀膜。镀膜好的成品也在此从框架小车上卸下，以送在线质检员检验。2.进口室(Mod3)用于实现大气状态和真空状态的转换，装好玻璃基片的框架小车由装卸片台进入进口室，并在此抽真空，真空度为粗真空，约10-2 mbar数量级。3.加热室(Mod4)当进口室抽到预定的真空度以后，框架小车从进口室进入到加热室，玻璃基片在此预加热到200左右，并去除水分和部分杂质气体。4.高频溅射室(Mod5-8)玻璃基片进入到高频溅射室后，继续得到加热，在200250左右开始进行高频溅射镀膜，此时在玻璃基片上镀上一层二氧化硅(SiO2),约200埃左右的厚度。靶材安装在Mod6和Mod7。5.Mod9过渡加热室。6.直流溅射室(Mod10-12)镀制好SiO2膜的玻璃基片经过一段过渡区域，在此区域，玻璃基片进一步得到加热，基片温度上升到320380左右，然后进入到有八个铟锡合金靶的直流磁控溅射室，每一个靶上加上300400V左右的直流电源，靶为阴极，直流溅射室充入一定的氩气和少量的氧气，氩气和氧气的纯度ITO镀膜线说明1.装卸片台(Mod1-2)12ITO镀膜线说明(续)为99.99%，溅射本底真空度不低于5.010-3 mbar，在电场力和磁场力的作用下，阴极靶材表面产生辉光放电并受到正离子的轰击而产生溅射，溅射出来的原子态铟锡与溅射室中氧发生反应，最后沉积在玻璃基片上形成氧化铟锡(ITO)薄膜，其膜层厚度通过控制直流电源的输出功率来控制，通常ITO膜的厚度为2002000埃。7.冷却室(Mod13-14)由于玻璃基片的温度很高，需要缓慢的冷却，以消除其应力，避免玻璃脆裂，冷却方式为水冷。8.出口室(Mod15)冷却好的玻璃基片在出口室中完成从真空状态到大气状态的转换。9.回框线装有镀膜成品的框架小车从出口室出来后，通过回框线返回装卸片台，供操作工人卸下镀膜好的玻璃基片，玻璃基片的连续溅射镀膜生产至此完成结束。ITO镀膜线说明(续)为99.99%，溅射本底真空度不低于13镀膜线示意图镀膜线示意图14员工培训内容答案课件15溅射原理图冷却系统泵排气Ar辉光放电区基板暗区真空室电源监控 系统基片装卸机械靶材铜背板溅射原理图冷却系统泵排气Ar辉光放电区基板暗区真空室电源监控16溅射镀膜原理ITO镀膜采用的是溅射反应镀膜工艺。要想把ITO靶材溅射出来，必须有“炮弹”去轰击ITO靶面才行，但这种“炮弹”只能起轰击作用，而不能跟ITO靶和金属反应，这只能选择惰性气体，所以称惰性气体为工作气体，而氩气是比较经济的惰性气体，因此ITO镀膜要加氩气。ITO膜为氧化铟锡膜，镀膜过程需发生氧化反应，所以称氧气为反应气体。虽然ITO靶本身含有氧，但在ITO靶的溅射过程中，有部分溅射出氧会被抽走，需要补充氧气，因此ITO镀膜要加氧气。ITO靶材背面要加磁铁形成平行于ITO靶面的磁场，加热器挡板接DC电源正极，ITO靶接DC电源的负极，形成垂直ITO靶面的电场。先抽真空和加热后，放装有玻璃的小车循环，送适当的氧气和氩气到ITO靶区，再开DC电源，则真空中原有的电子在电场和磁场的共同作用下作螺旋状的加速运动，能量不断增加，能量较高的电子与氩原子碰撞后，将其电离成氩离子(Ar+)和电子，当然也有部分Ar+与电子又会复合成氩原子，未被复合的氩离子(Ar+)被电场加速后象“炮弹”似地轰击ITO靶面，使ITO靶材被溅射出来，同时产生二次电子，使放电得以维持。能量较高的电子与氧气碰撞后，将氧分子分解成两个氧原子，这两个氧原子很快捕获电子变成氧离子(O-2)，当然也有部分氧原子又会合成氧分子，而未被复合的氧离子在电场作用下会向玻璃运动与ITO靶材溅射出的粒子反应生成ITO膜。溅射镀膜原理ITO镀膜采用的是溅射反应镀膜工艺。要想把ITO172000A厚的ITO膜表面结构2000A厚的ITO膜表面结构18磁控溅射NSNS为什么要用磁控溅射没有磁场时,电子沿直线运动,只有少部分电子使Ar原子电离,大部分电直接到达阳极.加入磁场后,电子呈螺旋状前进,增加其到达阳极所走的路程,从而提高电子撞击Ar原子的几率,产生更多的Ar离子,同时磁场可以使等离子体向靶材表面靠近,这样可以增加电流,降低电压,提高溅射速率,从而可以高速成膜.磁控溅射NSNS为什么要用磁控溅射没有磁场时,电子沿直线运19ITO玻璃玻璃基板ITOSiO2ITO玻璃的结构为什么要镀SiO2起偏器检偏器玻 璃玻 璃液晶层上电极下电极取向膜取向膜一般LCD用玻璃基片为钙钠浮法玻璃,其内部了钠离子容易析出并穿过ITO膜层进入液晶层.由于液晶是一种高电阻率的有机材料,而钠离子会对液晶分子造成破坏,从而影响显示效果,因此要在基板表面镀一层致密的SiO2层阻止钠离子析出.液晶显示器的结构原理图ITO玻璃玻璃基板ITOSiO2ITO玻璃的结构为什么要镀S20ITO膜层参数及影响因素镀膜工艺的三大参数:1.膜厚 2.面电阻率 3.透过率膜厚 在小车运行速度相同的情况下，ITO膜厚近似与DC电源功率成正比，因此调整ITO膜厚只按正比例关系改变DC电源功率。Ar气量也有一定影响,气量太高则分子密度大,分子(离子)间的碰撞多,降低了Ar离子的速率,从而减小溅射速率.另一方面,气量太低则产生的Ar离子数量少,也会减小溅射速率.因此应将Ar量调节到一个最佳值,使得溅射效率最高.小车的运行速度超快,也就是生产节拍超快,则镀膜的时间超短,膜层也就超薄.面电阻率 ITO膜厚增加时,电阻会降低,但膜厚达到4000埃后,电阻下降就不明显了.O2含量的影响.氧含量太低则氧化不足,使表面电阻率偏高,氧含太高则吸收电子多,使Ar离子数减少,从而减小溅射速率,同样使表面电阻率偏高.同时氧含量也会对膜层晶格结构造成影响,从而影响面电阻率.ITO膜层参数及影响因素镀膜工艺的三大参数:21氧量 0ITO膜层表面结构与氧量的关系(1)氧量 0ITO膜层表面结构与氧量的关系(1)22氧量高则载流子移动速度增加但浓度减小,反之氧量低则载流子移动速度减小但浓度增加,因此要设定一个最适合的氧量.ITO膜层表面结构与氧量的关系(2)ITO膜层表面结构与氧量的关系(2)23加热系统ITO膜为氧化铟锡膜，主要成分为氧化铟，少量的锡是作为杂质掺入的，铟的氧化和锡的掺入均需在一定温度下进行，加热既有利于铟的氧化以获得较高的透过率，又利于锡的掺杂以获得较低的电阻，因此ITO镀膜要加热。成膜温度高则ITO膜的面电阻率低.这是因为电阻率和载流子的移动速度与浓度的乘积成反比,而温度上升使结晶性改善,载流子的移动速度与浓度都会增加。ITO膜的刻蚀速率,非晶膜和晶态膜是完全不同的,非晶膜要快一些.使用溅射法时,由于溅射粒子本身具有能量,即使是室温溅射,也会有微晶存在,完全的非晶膜是很难得到的。因此,为了得到性能良好,构造均匀的完全晶态的膜层,温度应在200OC左右。加热系统ITO膜为氧化铟锡膜，主要成分为氧化铟，少量的锡是作24ITO膜层表面结构与温度的关系ITO膜层表面结构与温度的关系25ITO膜层参数及影响因素(续)基板的温度也会影响膜层的结晶状况,从而影响面电阻率.透过率 我们测量透过率时使用的是550nm的绿光,在膜厚100A-900A范围内,透过率随膜厚增加逐渐降低,之后又逐渐上升,到1500A以后再次逐渐降低,此后再升高,再降低,等等.另外,氧含量也会透过率产生影响.ITO膜层参数及影响因素(续)26勇于开始，才能找到成功的路DC电源与RF电源DC电源用于磁控溅射ITO薄膜DC电源提供直流电压降接交流380V恒功率控制10kW直流晶闸管整流RF电源用于射频溅射SiO2薄膜RF电源提供高频电压信号接交流380V恒功率控制10kW1356MHz高频信号源，电子管功放DC电源与RF电源DC电源用于磁控溅射ITO薄膜RF电源用于27靶材对于磁控溅射,由于磁场对等离子体有集束作用,靶材表面与磁场交界的部分受到等离子体较强的轰击溅射,这部分称为溅刻部分(erosion).在溅射区域,除了等离子体轰击靶材表面产生的溅射particle外,还有二次电子,二粒正负离子,以及带正电的等离子体本身的散乱反射.随着溅射的进行,靶材溅刻部分除了溅射最深的一小部分外,会产生黑色的析出物(突起物),称为Nodule.Nodule的产生不仅使放电阻抗增加从而降低成膜速率,而且会引起ITO膜层表面颗粒.关于Nodule有很多分析报告,基本上都认为它既不是堆积的飞来物,也不是表面的反应物,而是溅射过程中的残留物,是靶材的一部分。解决方法包括:高密度化,使表面平滑,一体化(不是拼割的),防止溅刻部分有Particle附着,防止靶材边缘打弧等。另外,在溅刻以外的地方会有溅射Particle附着形成一层膜,由于靶材是烧结体,此膜层的附着力较弱,容易剥离形成Particle污染玻璃表面.通过移动磁场,使整个靶材表面成为溅刻区可以解决这个问题。靶材的密度高则自身的电阻率低,放电电压也就低,这样不仅镀膜的面电阻率低,而且可以减少打弧并抑制Nodule的产生,从而减少对玻璃表面的Particle污染。常压烧结法ITO的密度，1985年为65%，1990年增加到85%，现在（注：1999年）已经开发了98%以上的靶材，并且有销售。另外，最近开发了烧结密度为99%的靶材。靶材性能要求是，不管它是什么物质都要满足下面的几个项目：高密度；耐热冲击性能好；组织均一且无偏析；微细均一的结晶颗粒；杂质含量少。靶材对于磁控溅射,由于磁场对等离子体有集束作用,靶材表面28真空系统ITO镀膜采用的是平面磁控溅射真空镀膜设备。抽真空的目的是将真空室中不需要和有害的杂质气体(如水气、氮气、二氧化碳等)抽走。这些杂质气体既会造成溅射过程受影响甚至导致不能溅射，还会影响ITO膜质量，甚至失去透明导电性能，附着力也会极差，因此ITO镀膜要抽真空。作为主要真空设备的系统抽粗真空主要由德国莱宝的SV630、D65B旋片泵和WSU2001、WSU1001、WSU501罗茨泵来完成，中真空由TMP1601、TMP1001涡轮分子泵抽得，在加热室系统特别 配置了一台低温冷泵，可降到绝对温度170K以下，主要用来吸附框架小车及玻璃基片带来的水分。除此之外，还配置了许多真空测量仪表，用于监测和控制系统的真空度。真空系统ITO镀膜采用的是平面磁控溅射真空镀膜设备。抽真空的29旋片机械真空泵 旋片机械泵起主要作用的部件有定子（泵壳）、转子（泵轴）、旋片等。转子位于泵壳里面，它与定子不同轴，实际好象两个内切圆。转子槽内装有两块旋片（刮板），两旋片中间装有弹簧，使刮板永远紧贴在泵壳内壁。上图说明旋片机械泵的抽气过程。两个旋片交替地起着两方面的作用，一方面从进气口吸进气体，另一方面压缩已吸进的气体，将它排出泵体。当泵连续顺时针转动时，实现了对容器抽气的目的。旋片机械真空泵 旋片机械泵起主要作用的部件有定30罗茨真空泵罗茨泵结构如图所示。在泵内，有两个“8”字型的转子相互垂直地安装在一对平行轴上，由传动比为一的一对齿轮带动做彼此反向的同步旋转运动。在转子之间，转子与泵壳内壁之间，保持有一定的间隙，可以实现高转速运行。由于转子的不断旋转，被抽气体从进气口吸入到转子与泵壳之间的空间V内，再经排气口排出。由于吸气后，空间V是全封闭状态，所以，在泵腔内气体没有压缩和膨胀。但当转子顶部转过排气口边缘，空间V与排气侧相通时，由于排气侧气体压强较高，则有一部分气体返冲到空间V中去，使气体压强突然增高。当转子继续转动时，气体排出体外。罗茨真空泵罗茨泵结构如图所示。在泵内，有两个“8”字型的转子31涡轮分子泵涡轮分子泵是一种利用高速旋转的涡轮叶片，不断对被抽气体分子施以定向的动量和压缩作用，将气体排走的泵。由动叶轮和静叶轮组成的涡轮排是泵的主要组成部分。动叶轮和静叶轮的形状与尺寸相同，但叶面角相反。每个动叶轮上都开有径向的气槽，构成辐射状的叶片。叶轮旋转时，它和气体间有相对运动速率v,气体分子经第一个动叶轮作用后，除了少数未与叶片相碰撞直接飞过去外，大部分与动叶轮碰撞并获得近于叶轮的切向速率。这些分子如果直接进入第二个动叶轮，由于它们与动叶轮间几乎没有相对速率，因此动叶轮对它们就不起作用。而当它们进入静叶轮后，则因两者有相对速率，就能发生碰撞并有往下飞行的运动分量。动叶轮与静叶轮间隔排列，这就是涡轮分子泵的抽气原理。涡轮分子泵涡轮分子泵是一种利用高速旋转的涡轮叶片，不断对被抽32