电子束光刻基本理论培训ppt课件

Electron Beam Lithography电子束光刻电子束光刻基本理论基本理论Electron Beam Lithography电子束张志勇62755827张志勇传统光学曝光技术传统光学曝光技术电子束曝光技术电子束曝光技术离子束曝光技术离子束曝光技术X X射线曝光技术射线曝光技术极紫外曝光技术极紫外曝光技术纳米压印术纳米压印术曝光技术分类传统光学曝光技术曝光技术分类Conclusion on Lithography techniquesConclusion on Lithography techn利用某些高分子聚合物对电子束敏感形成曝光图形利用某些高分子聚合物对电子束敏感形成曝光图形n光学曝光分辨率受光波长的限制光学曝光分辨率受光波长的限制n电子波长电子波长n电子束直写电子束直写 分辨率高、不需要分辨率高、不需要Mask、曝光效率低、曝光效率低G线I线DUVEUV与电子能量有关100eV电子，波长0.12nm分辨率限制：主要来自电子散射436nm365nm248,193nm利用某些高分子聚合物对电子束敏感形成曝光图形G线I线DUVE1.电子束曝光机2.电子束抗蚀剂3.电子束曝光方式4.电子散射和邻近效应5.电子束光刻流程笔纸怎么写写得好6.电子束曝光技术应用1.电子束曝光机2.电子束抗蚀剂3.电子束曝光方式4.1.电子束曝光机电子枪电子枪电子透镜电子透镜电子偏转器电子偏转器束闸束闸真空系统温控系统计算机激光工件台系统1.电子束曝光机电子枪电子透镜电子偏转器束闸真空系统计算机电子束曝光系统分类按工作方式分 直接曝光 投影式曝光按电子束形状分 高斯圆形束电子束曝光系统 成形束电子束曝光系统（固定、可变）按扫描方式分 光栅扫描电子束曝光系统 矢量扫描电子束曝光系统【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件电子束曝光系统分类按工作方式分【推荐】电子束光刻基本理论培训电子束曝光系统的重要指标最小束直径加速电压电子束流扫描速度扫描场大小工作台移动精度套准精度场拼接精度【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件电子束曝光系统的重要指标最小束直径【推荐】电子束光刻基本理论【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论MEBES4700SETEC MEBES4700S 光栅扫描电子束曝光系统。主要用于0.35m、7英寸及其以下IC生产线的掩模版制造。曝光极限分辨力360nm线宽，有面向90nm主流技术掩模制造领域进军的潜力。【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件MEBES4700SETEC MEBES4700S 光栅扫描几种商用电子束曝光系统对比【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件几种商用电子束曝光系统对比【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论基于SEM改造两台，Raith150一台【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件基于SEM改造两台，Raith150一台【推荐】电子束光刻基【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论2.电子束抗蚀剂对电子束敏感的聚合物大多数的抗蚀剂曝光只需要几个eV能量的电子对抗蚀剂起曝光作用的是二次电子【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件2.电子束抗蚀剂对电子束敏感的聚合物大多数的抗蚀剂曝光只需正抗蚀剂：入射粒子将聚合物链打断正抗蚀剂：入射粒子将聚合物链打断，曝光的区域变得更容易溶解，显影完毕后，曝光图形阴影部分的胶都溶解了。【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件正抗蚀剂：入射粒子将聚合物链打断正抗蚀剂：入射粒子将聚合物链正抗蚀剂【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件正抗蚀剂【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻负抗蚀剂：入射粒子将聚合物链接起来负抗蚀剂：入射粒子将聚合物链接起来，曝光的区域变得更不容易溶解，显影完毕后，曝光图形阴影以外部分的胶都溶解了。【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件负抗蚀剂：入射粒子将聚合物链接起来负抗蚀剂：入射粒子将聚合物负抗蚀剂【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件负抗蚀剂【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻化学放大抗蚀剂优势：高灵敏度、高分辨率和对比度，抗干法刻蚀能力强缺点：对后烘条件要求苛刻，正抗蚀剂的表面易受空气中的化学物质污染。【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件化学放大抗蚀剂优势：高灵敏度、高分辨率和对比度，抗干法刻蚀能对电子束敏感的聚合物【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件对电子束敏感的聚合物【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐抗蚀剂的重要参数灵敏度对比度分辨率抗刻蚀比曝光宽容度工艺宽容度黏度、热流动性、膨胀效应【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件抗蚀剂的重要参数灵敏度【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推灵敏度和对比度【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件灵敏度和对比度【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子高对比度侧壁更陡工艺宽容度更大分辨率更高（不一定总是）对临近效应更不敏感【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件高对比度侧壁更陡【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电抗蚀剂的分辨率【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件抗蚀剂的分辨率【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子抗蚀剂的厚度【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件抗蚀剂的厚度【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束高分辨率高对比度低灵敏度PMMA抗蚀剂多丙稀酸脂聚合物灵敏度随着相对分子质量减小而增加灵敏度随着显影液中MIBK（MIBK:IPA）的比例增加而增加可以用深紫外或者X射线曝光抗刻蚀性能差！【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件高分辨率高对比度低灵敏度PMMA抗蚀剂多丙稀酸脂聚合物灵敏【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论兼有高分辨率、高对比度和高灵敏度，抗刻蚀能力也很强综合实力强！【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件兼有高分辨率、高对比度和高灵敏度，综合实力强！【推荐】电子束【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论多层抗蚀剂工艺多层抗蚀剂工艺【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件多层抗蚀剂工艺【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子3.电子束曝光方式Scan Techniques for E-beam Lithography 1.工件台移动和曝光写场曝光图形被分成许多个小区域(field)电子束偏转范围受限工件台移动切换曝光写场(field)【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件3.电子束曝光方式Scan Techniques for2.矢量扫描&光栅扫描矢量扫描矢量扫描 Vector scanVector scan只在曝光图形部分扫描 分辨率高、速度慢分辨率高、速度慢光栅扫描光栅扫描 Raster scanRaster scan对整个曝光场扫描，束闸（beam blanking）只在图形部分打开速度快、分辨率较低速度快、分辨率较低【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件2.矢量扫描&光栅扫描矢量扫描 Vector scan光3.高斯圆电子束Vs.成形电子束曝光次数：90：10：2高斯圆束固定成形束可变成形束【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件3.高斯圆电子束Vs.成形电子束曝光次数：90：工作方式1高斯束、矢量扫描、固定工作台【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件工作方式1高斯束、矢量扫描、固定工作台【推荐】电子束光刻工作方式2高斯束、光栅扫描、移动工作台【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件工作方式2高斯束、光栅扫描、移动工作台【推荐】电子束光刻工作方式3成形束、矢量扫描【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件工作方式3成形束、矢量扫描【推荐】电子束光刻基本理论培训4.电子散射与邻近效应电子散射电子散射前散射前散射Forward scattering背散射背散射Back scattering 入射电子束入射电子束在抗蚀剂中被展在抗蚀剂中被展宽宽 与入射电子能与入射电子能量有关量有关 电子在抗蚀剂电子在抗蚀剂和基底材料界面和基底材料界面形成反射形成反射 与电子能量、与电子能量、基底材料有关基底材料有关【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件4.电子散射与邻近效应电子散射前散射背散射 入射电子束 电电子散射能量沉积分布电子散射能量沉积分布,depends on the voltage and the substrate,essentially depends on the resist and the voltage【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件电子散射能量沉积分布,depends on the vol【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论电子散射引起的邻近效应电子散射引起的邻近效应1.1.内部临近效应内部临近效应 Inter-proximity2.2.相互临近效应相互临近效应3.3.Intra-proximity照片来源：LPN【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件电子散射引起的邻近效应内部临近效应照片来源：LPN【推荐】电【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论怎样对抗邻近效应怎样对抗邻近效应1.几何尺寸校正几何尺寸校正 2.剂量校正剂量校正 图形分割和剂量分配一般要靠专用的邻近效应校正软件完成。如Sigma-C公司的邻近效应软件Caprox。【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件怎样对抗邻近效应1.几何尺寸校正 2.剂量校正 图形3.Write on membranes很好的克服了电子束在衬底上背散射的问题结合X-ray曝光可获得高分辨率图形【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件3.Write on membranes很好的克服了电子束5.电子束光刻的流程【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件5.电子束光刻的流程【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论6.电子束曝光技术的应用高精度掩模制备的主要手段。高精度掩模制备的主要手段。当今大部分高精度掩模都是用电子束曝光完成。器件尺寸缩小电路集成度提高光刻分辨率提高电子束曝光：电子束曝光：高分辨力高分辨力;控制简单方便，控制简单方便，无掩模直写；无掩模直写；纳米尺度的器件制造纳米尺度的器件制造直写直写WaferWafer制作制作MaskMask【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件6.电子束曝光技术的应用高精度掩模制备的主要手段。器件尺寸1.成立以项目副经理为主的混凝土浇筑施工管理组，主要负责实施混凝土浇筑施工的有关组织管理工作，保证混凝土连续供应和按规范、规定的施工工艺进行施工，从而保证混凝土施工质量。2.混凝土浇筑前，项目总工程师要组织有关人员进行技术交底，明确混凝土浇筑工艺、特点、施工注意事项等，项目付经理要组织施工机具、商品混凝土供应及运输、劳动力布置，技术、质检部门作好质量控制计划。3.派出专人到拌合站负责拌合质量的监察和供应、运输联络。4.浇筑时，项目部组织相关的技术、质检、试验等人员组成现场值班小组，检查、督促混凝土浇筑质量控制计划的落实。5.执行混凝土浇注质量责任制，各浇注区责任到人并做好施工记录，质检人员随时跟班监督，杜绝蜂窝麻面露筋露骨现象的出现.6.实施过程中，严格实行样板制、三检制，实行三级检查制度；达不到标准要求的工序彻底返工，决不留情。7.加强对原材料进场检验和试验的质量控制，加强施工过程的质量检查和试验的质量控制，认真执行工艺标准和操作规程，进一步提高工程质量的稳定性，保证实现质量目标的所有因素都处于受控状态。8.协助业主、监理公司、设计单位和相关的政府质量监督部门，完成对工程的检验、试验和核验工作。9.通过工序质量控制，实现分部、分项工程的质量控制，通过分部、分项工程的质量控制，保证单位工程的质量目标的实现。材料质量的保证措施【推荐】电子束光刻基本理论培训课件【推荐】电子束光刻基本理论培训课件1.成立以项目副经理为主的混凝土浇筑施工管理组，主要负责实施