东南大学物理系半导体物理课程总结ppt课件

第一章半导体中的电子状态晶格结构共有化运动，能带有效质量导电机制、空穴回旋共振一般半导体能带第一章半导体中的电子状态1半导体中的电子状态半导体的物理性质与电子状态有密切联系半导体中的电子与自由电子或单原子电子状态不同受到晶体中周围原子和电子的影响单电子近似：每个电子是在周期性排列且每个电子是在周期性排列且固定不动的原子核势场及其他电子的平均固定不动的原子核势场及其他电子的平均势场中运动势场中运动半导体中的电子状态半导体的物理性质与电子状态有密切联系2n金刚石结构 Si、Ge 闪锌矿结构 SiGe GaAs11 半半导体的晶体体的晶体结构和构和结合性合性质 Crystal Structure and Bonds in Semiconductors共价键共价键混合键混合键纤维锌矿结构 ZnS CdSe 金刚石结构 Si、Ge 闪锌矿312 半导体中的电子状态和能带半导体中的电子状态和能带 Electron States and Relating Bonds in Semiconductors重点重点:电子的共有化运子的共有化运动 导带、价、价带与禁与禁带12 半导体中的电子状态和能带 重点:4原子组成晶体后，由于电子壳层的交叠，电子不再局限在某一个原子上，可以由 一个原子转移到相邻的原子中去，可以在整个晶体中运动。称为电子电子的共有化运动。的共有化运动。晶体的能带晶体的能带 电子共有化运动电子共有化运动原子组成晶体后，由于电子壳层的交叠，电子不再局限在某一个原子5能级的分裂和能带的形成N个原子将分裂成N个能级能级的分裂和能带的形成N个原子将分裂成N个能级6 N3N2N2Na02S 2S N N2p 2p 3N3N原子间距原子间距能量能量价带价带导带导带Eg Eg 禁带禁带金刚石晶体的能带金刚石晶体的能带导带(Conduction band)：由SP3-SP3反成键态产生价带(Valence band):由SP3-SP3成键态产生电子从VB激发到CB相当于打破共价键。SPSP3 杂化 N3N2N2Na02S N2p 3N原子间距能量价带导7（1）自由）自由电子的能子的能带结构构（1）自由电子的能带结构8（2）晶体中的电子的波函数）晶体中的电子的波函数（2）晶体中的电子的波函数91.5 回旋共振自由电子半导体中电子1.3半导体中电子的运动和有效质量有效质量有效质量1.5 回旋共振自由电子半导体中电子1.3半导体中电子的运10111111E k v m*关系Ekvk m*kE k v m*关系Ekvk m*k12134.有效质量的意义有效质量的意义半导体中的电子在外力作用下，描述电子运动规律的是有效质量，而不是电子的惯性质量。电子在外力作用下运动时，同时还和半导体内部原子、电子相互作用，电子的加速度应该是半导体内部势场和外电场作用的综合效果。引进有效质量的意义：概况了半导体内部势场的作用。有效质量可以直接由实验确定。半导体的电导率，迁移率等都与有效质量相关半导体的电导率，迁移率等都与有效质量相关只要Ek关系确定，m*也确定134.有效质量的意义半导体中的电子在外力作用下，描述电子运13满带电子不导电在晶体能带理论中，En(k)=En(-k)同一能带中，k和-k态具有大小相同、方向相反的速度 v(k)=-v(-k)1.4本征半本征半导体的体的导电机构机构 空穴空穴满带电子不导电在晶体能带理论中，1.4本征半导体的导电机构1415在一个完全被电子充满的能带中，每一个电子带一定的电流-qv,在外电场下，k轴上各点以完全相同的速度移动因此不改变均匀填充k态的情况。在布里渊边界A和A处，从A点移动出去的电子实际上同时从A移进来，保持整个能带处于均匀填满的状态，并不产生电流。满带电子不导电=0AA15在一个完全被电子充满的能带中，每一个电子带一定的电流-q1516不满带电子能导电不满带电子能导电无外电无外电场时场时有外电有外电场时场时E无外场时，电子对称地占据能量较低地状态，总电流为0有外场时，电子逆电场方向移动，造成不对称分布，在电场方向上形成电流。部分填充有两种情况导带中少量电子价带中出现少量空状态16不满带电子能导电无外电场时有外电场时E无外场时，电子对称1617空穴空穴如果在价带中缺少一个电子？假设满带上只有一个状态k没有电子。设J(k)表示在这种情况下整个近满带的总电流。当价带状态k空出时，价带电子的总电流，如同一个带正电荷的粒子以k状态电子速度v(k)运动时所产生的电流空穴空穴则则=0k117空穴如果在价带中缺少一个电子？当价带状态k空出时，价带电1718空穴的有效质量价带中的空状态，一般都出现在价带顶附近，而价带顶部附近的电子的有效质量为负值。如果引进mp*表示空穴的有效质量，令 mp*=-mn*空穴是一个具有正电荷和正有效质量的粒子。空穴是一个具有正电荷和正有效质量的粒子。me*电子和空穴共同参与导电电子和空穴共同参与导电是半导体和金属是半导体和金属导电性质的最大区别导电性质的最大区别18空穴的有效质量价带中的空状态，一般都出现在价带顶附近，而18设圆周运动的半径设圆周运动的半径圆周运动的向心加速度圆周运动的向心加速度圆周运动的向心力圆周运动的向心力圆周运动的角频率圆周运动的角频率1.5 回旋共振回旋共振设圆周运动的半径圆周运动的向心加速度圆周运动的向心力圆周运动19有效质量的测量回旋共振频率回旋共振频率 有效质量的测量回旋共振频率 201.6 1.6 常见半导体的能带结构常见半导体的能带结构 1.6 常见半导体的能带结构 21第第2章章 半导体中杂质和缺陷能级半导体中杂质和缺陷能级第2章 半导体中杂质和缺陷能级222.1 掺掺 杂杂 晶晶 体体理想半导体材料理想半导体材料原子静止在具有严格周期性晶格的格点位置上原子静止在具有严格周期性晶格的格点位置上晶体是纯净的，即不含杂质晶体是纯净的，即不含杂质 (没有与组成晶体材料的元素不同的其它化学元没有与组成晶体材料的元素不同的其它化学元素素)晶格结构是完整的，即具有严格的周期性晶格结构是完整的，即具有严格的周期性v实际半导体材料实际半导体材料原子在平衡位置附近振动原子在平衡位置附近振动含有杂质；含有杂质；晶格结构不完整，存在缺陷晶格结构不完整，存在缺陷点缺陷，线缺陷，面缺陷点缺陷，线缺陷，面缺陷2.1 掺 杂 晶 体理想半导体材料实际半导体材料23杂质杂质与组成晶体材料的元素不同的其他与组成晶体材料的元素不同的其他化学元素化学元素v形成原因形成原因原材料纯度不够原材料纯度不够制作过程中有玷污制作过程中有玷污人为的掺入人为的掺入杂质形成原因24分类分类(1)：按杂质原子在晶格中所处位置分按杂质原子在晶格中所处位置分间隙式杂质间隙式杂质替位式杂质替位式杂质杂质原子位于晶格原子的间隙位置杂质原子位于晶格原子的间隙位置要求杂质原子比较小要求杂质原子比较小杂质原子取代晶格原子而位于格点处杂质原子取代晶格原子而位于格点处要求杂质原子的大小、价电子壳层结构等均与晶格原子相近要求杂质原子的大小、价电子壳层结构等均与晶格原子相近两种类型的两种类型的杂质可以同杂质可以同时存在时存在这里主要介这里主要介绍绍替位式杂替位式杂质质分类(1)：按杂质原子在晶格中所处位置分两种类型的杂质可以同25分类分类(2)：按杂质所提供载流子的类型分按杂质所提供载流子的类型分施主杂质施主杂质受主杂质受主杂质第第V族杂质原子替代第族杂质原子替代第IV族晶体材料原子族晶体材料原子能够施放能够施放(Discharge)电子而产生导电电子，并形成正电中电子而产生导电电子，并形成正电中心的杂质（心的杂质（n型杂质）型杂质）n型半导体型半导体 第第III族杂质原子替代第族杂质原子替代第IV族晶体材料原子族晶体材料原子能够接受能够接受(Accept)电子而产生导电空穴，并形成负电中心电子而产生导电空穴，并形成负电中心的杂质（的杂质（p型杂质）型杂质）p型半导体型半导体施施主主杂杂质质受受主主杂杂质质本征半导体本征半导体分类(2)：按杂质所提供载流子的类型分施主杂质受主杂质本征半26施主杂质(IV-V)提供载流子：导带电子提供载流子：导带电子电离的结果：导带中的电离的结果：导带中的电子数增加电子数增加了，这即是掺施主的意义所在了，这即是掺施主的意义所在施主杂质(IV-V)提供载流子：导带电子电离的结果：导带中27受主杂质(IV-III)提供载流子：价带空穴提供载流子：价带空穴电离的结果：价带中的电离的结果：价带中的空穴数增加空穴数增加了，这即是掺受主的意义所在了，这即是掺受主的意义所在受主杂质(IV-III)提供载流子：价带空穴电离的结果：价分类分类(3)：按杂质原子所提供的能级分浅能级杂质浅能级杂质深能级杂质深能级杂质如第如第IV族材料中加入第族材料中加入第III或或V族杂质族杂质杂质能级离导带或者价带很近杂质能级离导带或者价带很近晶格中原子热振动的能量就足以将浅能级杂质电离晶格中原子热振动的能量就足以将浅能级杂质电离影响半导体载流子浓度，从而改变半导体的导电类型影响半导体载流子浓度，从而改变半导体的导电类型如第如第IV族材料中加入非族材料中加入非III、V族杂质族杂质杂质能级离导带或者价带很远杂质能级离导带或者价带很远常规条件下不易电离常规条件下不易电离起一定的杂质补偿作用；起一定的杂质补偿作用；对载流子的复合作用非常重要，是很好的复合中心对载流子的复合作用非常重要，是很好的复合中心分类(3)：按杂质原子所提供的29l杂质浅能级的简单计算杂质浅能级的简单计算*类氢原子模型类氢原子模型的计算的计算氢原子基态电子的电离能氢原子基态电子的电离能:施主杂质电子的电离能施主杂质电子的电离能:*施主杂质电子的玻尔半径施主杂质电子的玻尔半径:氢原子基态电子的玻尔半径氢原子基态电子的玻尔半径室温 kBT 26 meV几十个meV25A硅-硅间距5.4A锗，硅的介电常数为 16，12施主杂质电子的玻尔半径施主杂质电子的玻尔半径修正修正杂质浅能级的简单计算施主杂质电子的电离能:施主杂质电子的玻尔30（A）NDNA时：时：n型半导体型半导体 有效的施主浓度有效的施主浓度 ND*=ND-NA杂杂 质质 的的 补补 偿偿 作作 用用（B）NAND时：时：p型半导体型半导体 有效的施主浓度有效的施主浓度 NA*=NA-ND（C）NAND时：杂质的高度补偿时：杂质的高度补偿 多种杂质存在的情况下多种杂质存在的情况下（A）NDNA时：n型半导体 31III-VIII-V族化合物半导体中的浅能级杂质族化合物半导体中的浅能级杂质在在III-V族化合物中掺入不同类型杂质：族化合物中掺入不同类型杂质：*IIII族元素族元素GaAs:GaAs:铍铍(Be),(Be),镁镁(Mg),(Mg),锌锌(zn),(zn),镉镉(Cd)E(Cd)EA A=Ev+0.02-0.03 eV=Ev+0.02-0.03 eV*VIVI族元素族元素GaAs:GaAs:硫硫(S),(S),硒硒(Se)E(Se)ED D=Ec-0.006 eV=Ec-0.006 eV*IVIV族元素族元素GaAs:GaAs:硅硅(Si)Ev+0.03eV,Ec-0.006 eV (Si)Ev+0.03eV,Ec-0.006 eV （杂质的双性行为）（杂质的双性行为）锗锗(Ge)Ev+0.03eV,Ec-0.006 eV(Ge)Ev+0.03eV,Ec-0.006 eV*等电子杂质等电子杂质GaP:GaP:氮氮(N)Ec-0.01 eV (N)Ec-0.01 eV (等电子陷阱引起）等电子陷阱引起）III-V族化合物半导体中的浅能级杂质32等电子杂质等电子杂质与基质晶体原子具有同数量价电子的杂质原子称为等电子杂质与基质晶体原子具有同数量价电子的杂质原子称为等电子杂质（同族原子杂质）（同族原子杂质）v等电子陷阱等电子陷阱形成条件形成条件等电子杂质替代格点上的同族原子后，基本仍是电中性的。但是，掺等电子杂质替代格点上的同族原子后，基本仍是电中性的。但是，掺入原子与基质晶体原子在电负性、共价半径等方面有较大差别，等入原子与基质晶体原子在电负性、共价半径等方面有较大差别，等电子杂质电负性大于基质晶体原子的电负性时，替代后，它能俘获电子杂质电负性大于基质晶体原子的电负性时，替代后，它能俘获电子成为负电中心，电子成为负电中心，这个带电中心就成为等电子陷阱。这个带电中心就成为等电子陷阱。v杂质的双性行为杂质的双性行为硅在砷化镓中既能取代镓而表现出施主杂质，又能取代砷表现出硅在砷化镓中既能取代镓而表现出施主杂质，又能取代砷表现出受主杂质受主杂质等电子杂质杂质的双性行为3334第三章第三章 半导体中的载流子统计分布半导体中的载流子统计分布半导体的电子状态，能带半导体的杂质能级半导体的电子分布34第三章 半导体中的载流子统计分布半导体的电子状态，能带3435状态密度状态密度 g(E)定义：E E+dE 范围内有范围内有dZ 个量子态个量子态g(E):在能带中能量在能带中能量E附近每单位能量间隔内的量子态数。附近每单位能量间隔内的量子态数。3.1 状状态密度密度Density of States(DOS)k 空间的量子态密度空间的量子态密度=在K空间中，电子的允许能量状态密度状态密度是V/83，如果计入自旋，电子的允许量允许量子态密度子态密度是2V/8 3。每个量子态最多只能容纳一个电子。每个量子态最多只能容纳一个电子。35状态密度 g(E)定义：E E+dE 范围内有dZ35由此可知，状态密度与能量成抛物线关系，能量越大，状态密度越大。和有效质量由此可知，状态密度与能量成抛物线关系，能量越大，状态密度越大。和有效质量也有关。也有关。各向同性由此可知，状态密度与能量成抛物线关系，能量越大，状态密度越大3637 3.2 费米能级和载流子的统计分布费米能级和载流子的统计分布费米分布函数玻尔兹曼分布函数导体中的电子浓度和价带中的空穴浓度37 3.2 费米能级和载流子的统计分布费米分布函数37381o T=0 K2o T 0 K实际上，当实际上，当 E-EF 5kBT 时，时，f 0.007 当当 E-EF 0.993 室温室温kbT26meVf(EF)=1/2在EF以下kT量级范围内的电子被热激发到EF以上，出现由f1到f 0的过渡区域。费米(Fermi)分布函数381o T=0 K2o T 0 K实际上，当 E-3839玻耳兹曼玻耳兹曼(Boltzmann)分布函数分布函数当当 E-EF k0T（实际只要（实际只要 几个几个k0T）f0 玻耳兹曼分布函数玻耳兹曼分布函数一般半导体材料的禁带宽度远大于一般半导体材料的禁带宽度远大于k0T 39玻耳兹曼(Boltzmann)分布函数当 E-EF 3940Fermi-Dirac 统计律和统计律和Boltzmann统计律的差别统计律的差别Fermi统计律受到泡利不相容原理的限制。在E-Efk0T的条件下，量子态被电子所占据的几率很小，泡利原理失去作用，Bolzman统计律和费米统计律相同。在半导体中，EF位于禁带内，而且于导带底和价带顶底距离远大于k0T，所以，对于导带中的电子分布可以用电子的boltzmann统计律来描写。简并（统计简并）：服从费米统计率的电子系统称为简并性系统。EFEcEv40Fermi-Dirac 统计律和Boltzmann统计律4041载流子浓度电子浓度：单位体积内导带中的电子数(单位：1/cm3)电子：电子：空穴：空穴：电子浓度41载流子浓度电子浓度：单位体积内导带中的电子数(单位：1/41其中其中其中42本征半本征半导体体载流子分布流子分布对于任何半于任何半导体体(本征，本征，n型，型，p型）型）本征半导体载流子分布对于任何半导体(本征，n型，p型）4344导带中电子都聚集在导带中电子都聚集在导带底导带底价带中空穴都聚集在价带中空穴都聚集在价带顶价带顶44导带中电子都聚集在导带底价带中空穴都聚集在价带顶44(1)电子占据施主能子占据施主能级的几率的几率(2)空穴占据受主能空穴占据受主能级的几率的几率gD,gA 为施主/受主能级的基态兼并态，简并因子，对于硅，锗来说 gD=2,gA=4费米分布米分布3.4杂质半导体的载流子浓度(1)电子占据施主能级的几率(2)空穴占据受主能级的几率45施主能施主能级上的上的电子子浓度度 nD（未未电离的施主离的施主浓度度）电离施主离施主浓度度nD+（向向导带激激发电子的子的浓度度）同理，受主能同理，受主能级上的空穴上的空穴浓度（度（未未电离的受主离的受主浓度度）电离受主离受主浓度（度（向价向价带激激发空穴的空穴的浓度度）施主能级上的电子浓度 nD（未电离的施主浓度）电离施主浓度n46东南大学物理系半导体物理课程总结ppt课件47电中性条件假定只有一种施主假定只有一种施主杂质，ED，ND，则电中性条件中性条件导带电子子浓度度电离施主离施主浓度度总的的负电荷荷浓度度价价带空穴空穴浓度度总的正的正电荷荷浓度度即即只要只要 T 确定，确定，EF 也随着确定也随着确定.电中性条件假定只有一种施主杂质，ED，ND，则电中性条件导带48只有一种施主电中性条件电子浓度费米能级低温弱电离 n0=nD+强电离区 n0=nD+n0=ND过渡区本征激发区(NDni)只有一种施主电中性条件电子浓度费米能级低温弱电离 n0=49Semiconductor Physics 2003由电离程度控制杂质完全离化本征区域 n0=NDSemiconductor Physics 2003由电离程50(6)p型半导体的载流子浓度 (类似推似推导）(6)p型半导体的载流子浓度 (类似推导）51单位体积内的正电荷数等于负电荷数。电中性条件中性条件多种施主、多种受主并存多种施主、多种受主并存 电中性条件中性条件3.5一般情况下的载流子统计分布单位体积内的正电荷数等于负电荷数。电中性条件多种施主、52 n0NA n0NA n0 ni施主杂质全部电离饱和区和和单一施主一施主n型半型半导体体类似，将似，将 ND 替替换为 ND-NA2.强电离区ND-NA ni施主杂质全部电离饱543.过渡区：过渡区：(ND-NA)ni电中性条件和和单一施主一施主n型半型半导体体类似，将似，将 ND 替替换为 ND-NA3.过渡区：(ND-NA)ni电中性条件和单一施主554.本征激发区本征激发区本征激发的电子和空穴占绝对主导地位：和和单一施主的一施主的n型半型半导体以及体以及 本征半本征半导体情况体情况类似。似。4.本征激发区本征激发的电子和空穴占绝对主导地位：56单一一杂质，n 型半型半导体，体，处于于强电离区（离区（饱和区）和区）当当 ND NC 时，EF EC，玻耳，玻耳兹曼曼统计不适用不适用必必须用用费米米统计，必，必须考考虑泡里不相容原理泡里不相容原理 载流子流子简并化并化 简并半并半导体体在EF以下的所有能级，都充满自旋相反的两个电子。E-Ef kbT 条件不再成立3.6 简并半导体单一杂质，n 型半导体，处于强电离区（饱和区）当 ND 57简并化程度的划分并化程度的划分非非简并并弱弱简并并(强)简并并玻玻尔兹曼分布曼分布时简并化程度的划分非简并弱简并(强)简并玻尔兹曼分布时58结论：1o 发生生简并并时，ND NC2o ND 之之值与与 ED，me*有关有关3o ND 之之值与与 T 有关有关掺P的NSi,ED=0.044eV,mn*=1.02m0 ND2.3X1020cm-3 NC2.8X1019cm-3 ED越小，在杂质浓度较小时，就可以发生简并。mn*越小，有效质量小，容易发生简并达到达到简并并时所需的所需的掺杂浓度度 ND.结论：1o 发生简并时，ND NC2o ND 之值与59