镀膜问题总汇

真空镀膜工艺问题汇总1. A12O3打底已增加粘贴性，怎样镀A12O3溅射镀怎么镀？请问旋转靶磁场加在哪里？2. 一.多弧离子镀做TiAIN膜1.靶材，材质？尺寸？2.偏压，一脉冲，直流对膜有无影响？二.高建钢材质刀具，1.立铣刀的锋利与镀膜前的酸洗工艺存在矛盾。三.多弧炉中结合了磁控柱靶在TiAIN膜制作过程中，可采用或利用其磁控靶的优点进行，四.用高偏压加氢气的辉光放电，是否用对硬膜的形成不利，会影响其硬度吗？是否用离子轰由（加热）来取代此工艺吗？五靶材中Ti的纯度,对膜质（硬度，外观，粗糙毒等）有无关系？Ti是否对工具镀膜来说是否足够？六.真空杂志中有文章介绍，多弧离子镀中用部分铬靶使TiN膜层中含有铬成分，有助于提高膜的硬度和外观的光亮度等那么能否采用钛铬合金靶，达到其效果？七.TiAl拔能否使其合金化，是否合金化后，在蒸发靶材时，清除或减少熔滴的产生？使其多弧离子镀，并产出的TiAIN膜质光亮，致密。3. 相对来说磁控溅射技术比较深奥些，听的不是太懂之前中设接触过磁控技术书面知识比较理论看不透彻，因为专业知识有限喜欢听笼统一点通俗易懂的。4.1. 如何防止靶的电弧放电问题2.Si靶Ti靶的氧气是否一定要用压电阀来控制吗？3.做高反射钳时Si靶Ti靶的氩气，氧气的比例是多少？4.靶的电弧放电与亮孔是否有联系？5.在同样的工艺条件下，为什么有些会出现膜脱落，有时会出现SiTi膜脱落。5.镀铝制镜，基片两头打弧，为什么？怎么解决？镀过铝后如何保护？6.1. 由于重复使用的玻璃进行了多次镀膜以后在玻璃表面残存物沉积且由于多次清洗造成玻璃表面划痕增加，最终造成散射光增加反射率降低，如何在不抛光的情况下，改善（提高）反射率？在镀膜工艺上有何可行性的解决方案等！为了增加铅膜和玻璃的粘合度，一般采用什么方法？如果镀一层介质膜，可采用什么材料，不影响反射率？7.目前国内的膜厚控制技术均多采用国外进口请问国内外的差距在什么地方，如何攻克?TiO2在40WA时的反射铝会下降如果我们镀Al需要照顾到红外和紫外线有什么方法使得反射率增高，S2O2好象只能作为保护膜用本身并不能提高反射率。8汽车的热弓钢化Low-E怎样解决膜裂的问题?9.TiO2的沉积温度？350C或可在更低温度下执行，最低温度多少？达到高反射率.TiO2的膜层厚度要多少？10.请介绍一下应用于手机外壳（塑料基材）上的不导电真空镀的成膜原理。如何控制生产过程中同一种产品之间的色差和不导电性差异。请介绍一下金属膜层与塑胶基材之间提高结合力的介质及附差原理。11为什么控制氧气流量可以防止靶中毒大面积膜设备中靶样间距，靶的设置密度如何确定？孪生靶斜放更稳定，其放置方向角度如何？孪生靶设计两靶间距如何确定？ITO膜中靶材利用，提高靶材利用率移动靶面磁场，如何移动？12. 中频孪生靶对靶间距有没有要求，最佳距离是多少？如何确定？中频孪生靶之间有角度放置，放置的角度是否无限加大对靶放置？ITO透明电玻璃镀刷时对温度要求大于350C温度高低对膜的均匀性影响有多大，基本的受热均匀性是否也对膜质有影响，该如何解决？镀大型基片时出现结射现象在不浪费材料时该如何解决为好？所说的阳极消失是否是指基片被不导电膜附着而消失？13. 在镀汽车风挡玻璃及LOW-E膜时并没有讲到镀膜的抗拉伸效果在弯曲的过程中，膜层不会产生变化么？有什么方式来检测？我从老没接触过ITO的行业，很想知道ITO靶材的具体成分的构成，以及他的合格指标。14. 真空不导电的检测，真空不导电镀膜最好的方法，不导电镀膜带用哪些金属？哪种最稳定最好？磁控溅射颜色不稳定如何解决？镀膜层发黄的原因有哪些？真空度对镀膜品质有哪些影响？到何种程度为最低？镀膜层厚度如何控制，测量厚度与外观物性有何关系？能否邀请高工教授来厂家彻底培训？需多少费用？15. 氢质谱检漏仪在真空镀膜中有哪些是何应用？如：什么地方需要检漏？大概漏率是多少？16. 我司在用电频交流电源后生产TiO2时发现其溅射率仅于DC反应溅射相当，其原因是什么？有没有可钢代双银LW后在市场上出现？有没有实现可能？17. 如何消除或减少有磁控溅射方法获得的铝合金膜层的脆性？在磁控溅射过程中伴随开一定的基片负偏压与所谓的磁控溅射离子镀有何区别？因为有此专箸上将前者视为偏压溅射而大连理工大学的一篇专利的名称为后者。18. 孪生靶中两个靶距离对镀膜影响？孪生靶的靶基距？汽车玻璃中PVB是热压上作粘合用？.19.L0W-E玻功的典型膜系。玻功SnO2(ZnO)-Ag-NiCrOx-SnO2镀银后在镀保护层NiCrOx时是否用氧气参与生成反应膜层？如有是怎样避免银的不膜层15氧仕，真空镀膜车间环境对镀膜质量的影响？如湿度，温度洁净度等一般控制多少合适于镀膜纯金属膜产生的储存？20.多弧离子镀与磁控溅射几蒸发镀之间的区别？21.我公司生产高反射镜，膜系为Al-SiTiO2目前使用脉冲溅射做SiO2和TiO2电源使用AE电源，但脉冲溅射率最大为20KHz，请问这个频率是否太小了？我们在镀AL过程中，为改善膜层粘贴性，对AL靶充入少量02请问这样是否会引起电弧放电。注：02和A2流量比约为2%22. 靶材的用率？引进方法措施？圆柱靶伏缺点？23. 在反应溅射过程中溅射速率与氧气流量之间的迟回线关系，对于每一种具体的工艺（靶材与反映气体种类）是否相对固是不变的？如果是则可否编制数据库，合理控制反应气体流量底上限，以人采证尽量大的流量而又不至于“靶中毒”建立“靶中毒”的预防系统。24. 塑胶产品CPC或ABS材料表面装饰性镀膜采用蒸发镀还是磁控溅射更好？25.1000A的电流可使钨丝产生多少温度？电阻钨丝投入多少是否取决于投入的产品多少是怎样的匹配蒸发镀材后镀材的分布是怎样的？26. 蒸发镀膜时，镀材的粒子有没有运行规则外界温度对镀膜前后2件性能或外观的影响？27. 有没有一些资料，用什么资料（六素）搭配镀出一些比较花样的颜色。有透明的也有不透明的（我们土话叫矿金，矿银，矿灰古铜等是不是真空蒸发镀也能镀得出来（配电子枪）镀玻璃上。28. 镀膜材料进行去气如何进行？需注意哪些问题？镀膜过程中产生的X射线如何预防？29. 用什么样的方法来清洗真空室内壁？30磁控溅射和蒸发镀，哪一种工艺使玻璃表面针孔更少，针孔的多少和C2靶材有什么关系？还和哪几种因素有关？蒸发镀膜的玻璃效率还是磁控溅射效率高我们98年用过贵公司镀膜机（平面磁控溅射卧式12米长，先发现效率低已满足不了我们需求，请问我们需要在添一台设备，需再添一台什么样的设备（我们主要做汽车反光镜磁控溅射镀膜用循环水电阻率是多少，有什么具体要求？铬和氢化铬在玻璃上面的反射率最高能达到多少？31. 如何控制加热器的加热均温区有什么好的方法，移动基片的测温方法？对卷绕镀膜中的跑偏和褶皱现象该如何解决？卷绕中的平靶是否是附带旋转的？32. 真空不导电膜层电性能的检测方法，真空不导电常用哪些金属？哪几种最稳定？产品进行盐雾实验时（附着力差）为什么会这样？33. 对于升华的膜材如S2O2ZnS,在蒸发前去气应以多长时间为宜，在蒸发深度去气时？如果提高膜材蒸发温度，提高蒸发速度是可以提高生产速度的，但对成膜质量有何影响？34. 真空蒸镀膜层不太均匀可通过加何种修正装置改善？原理为何？蒸发强如何进行对膜材的去气？精确控制蒸发温度的方法为何？加热电阻如螺旋钨丝上残留的镀材如锡，对产品上镀层的均匀性的影响如何？加离子源的主要作用是什么？原来的设备上没有离子源可增加吗？是否还要同时配电子枪？请介绍一下组分蒸发指什么？35. DC磁控溅射能否与多弧相结合，深镀硬膜？或能否在DC磁控溅射的基础上改进后加以利用？镀膜前的处理对水质有无严格的要求？.酸洗过程是否对所刀具都必要？高压辉光清洗是否越高越好？36. 膜层的色差问题怎样解决？玻璃反射率和透过率标准是多少？在生产汽车后视镜时，充02需要中频电源吗？腔体内针孔问题更样解决，DC磁控溅射，生产汽车后视镜.罗茨泵旁边阀一旦打不开怎么办,能不能失去作用?在罗茨泵前真空泵是要比罗茨泵高,还是要低,还是平衡,三者之间关系有影响吗?扩散泵与加热器的关系？37. 多弧离子镀的膜层不均匀,有色差,跟离子溅射无关吗?那么是否与偏压有关?38. 反应膜在做各种颜色方面有什么好的方法?在镀基材时有什么要求?如镁合金，锌合金等可以吗?在做高反射膜时为什么会有雾斑?在做IT0导电玻璃时也经常有这种现象？39. 靶与产品的距离怎样确定运近有什么距离?溅镀汰时,为什么会出现裂纹将如何解决？40. 影响到镀摸附着力的因素镀材设备与被镀物件之间的相互和影响