清洗机原理及设备结构介绍课件

,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,2020/3/30,#,单击此处编辑母版标题样式,成都中光电科技有限公司,#,清洗机原理及设备结构介绍,清洗机原理及设备结构介绍,清洗目的及环境要求,目的：基板经过切割裂片后，在玻璃表面容易残留玻璃碎屑，清洗的主要目的是在短时间内将玻璃碎屑冲掉，避免玻璃屑重新附着在基板上，造成玻璃异物，不容易去除。,环境要求：环境温度：,22,+,2,，相对湿度：,45%,+,10%,；洁净等级：,5000,级，与相邻加工区保持微正压，与相邻检查区保持,5Pa,微负压。,2,清洗目的及环境要求目的：基板经过切割裂片后，在玻璃表面容易残,清洗工艺流程,WDT,：预湿机,CLE1,：输入传送带,CLE2,：盘刷清洗,CLE3,：超声波清洗,CLE4,：二流体清洗,1,CLE5,：滚刷清洗,CLE6,：二流体清洗,2,CLE7,：最终喷淋,CLE8,：风刀干燥,CLE9,：输出传送带,3,清洗工艺流程WDT：预湿机3,WDT,预湿机,预湿机的作用：对玻璃进行预湿；对研磨后的玻璃进行抽检；投入玻璃进行二次清洗。,预湿机的结构：机架、传送滚轮、喷淋装置、护罩、水槽、升降机构。,水平传送滚轮（小滚轮）：直径,60mm,。,抽检传送滚轮（大滚轮）：直径,150mm,。,小滚轮材质：,UPE,。,大滚轮材质：,POM,。,升降机构是由气缸带动机架升降，旁边有,4,个导向轴，上面是大滚轮。,喷淋管上面,7,排，下面,2,排水管，由,1#,水箱供水。,共有,4,个传感器：入口、出口、中间两侧。,超高分子链聚乙烯,聚甲醛,4,WDT预湿机预湿机的作用：对玻璃进行预湿；对研磨后的玻璃,DWT,抽检,（,1,）水平传送部分：通过电机减速机带动大滚轮转动，水平传送与预湿机连接处设有小滚轮过渡。,（,2,）翻转部分：通过左右端,2,个汽缸带动齿条直线运动来带动齿轮转动，从而带动机架翻转,73,，（翻转架子上装有,2,个光电传感器检测玻璃），架子下部设有,2,个缓冲器。,研磨机,WDT,清洗机,DWT,5,DWT抽检（1）水平传送部分：通过电机减速机带动大滚轮转动，,预湿机及,DWT,抽检示意图,进入传感器,抽检传感器,二次投入传感器,大滚轮,输出传感器,过渡小滚轮,翻转架,对射光电传感器,玻璃输入,玻璃输出,抽检玻璃输出投入,6,预湿机及DWT抽检示意图进入传感器抽检传感器二次投入传感器大,预湿机抽检传送流程,预湿机抽检传送动作流程：,玻璃通过预湿机需要抽检时，经过入口磁性传感器传送带开始减速，当玻璃经过中间一侧的磁性传感器时，传送滚轮停止，同时气缸带动机架上升,20mm,停止，垂直传送滚轮开始运行，此传感器检测到玻璃离开后，机架开始下降，回到原位，水平传送带又开始水平输送玻璃。,7,预湿机抽检传送流程预湿机抽检传送动作流程：7,输入 传送带（,CLE1,）,（,1,）传送带设有定位装置，两侧各,1,个汽缸定位玻璃。,（,2,）滚轮的材质是尼龙，挡边轮材质是,UPE,。,（,3,）设有,2,组滚刷，上下各,2,排，滚刷转动方向与玻璃前进方向相反。,（,4,）传送带出口处设有,1,组海绵滚筒，抹干玻璃上的水份。,（,5,）喷淋用的是,6#,水箱的水，水经,10m,过滤器进行过滤。,工作原理：,玻璃进入输送传送带，上下各,7,排喷淋系统对玻璃进行初始清洗，三菱的变频电机驱动轴上的斜齿轮组来带动传送带，当磁性传感器检查到玻璃通过时，两侧的汽缸驱动定位块对玻璃定位，来矫正玻璃的位置,。,8,输入 传送带（CLE1）（1）传送带设有定位装置，两侧各1个,输入传送带结构示意图,其结构示意图如下：,磁性传感器,Substrate,9,输入传送带结构示意图其结构示意图如下：磁性传感器Substr,盘刷清洗（,CLE2,）,设备结构,：,盘刷区共有,4,组盘刷，盘刷的间距和转速都可以调节。,盘刷区还有喷淋装置，喷淋装置上的喷嘴方向可以调节，上有压力表和调节阀门，还有观测流量计。,盘刷清洗水需,加入清洗剂,，由,2,，,3#,水箱（一用一备）提供，由于加入了清洗剂废水不能被其他区域利用，只能自身循环利用，且水需要加热到,4045,。清洗剂：,PK-LCG211,，水的,PH,值为,1214,。,10,盘刷清洗（CLE2）设备结构：10,盘刷清洗,刷毛：,=0.1mm,，尼龙材质。,上下盘刷：交叉,12mm,。,升降调节方式：锥齿轮,+,螺旋升降,+,前后同步。,驱动方式：交流变频电机（滚轮驱动），盘刷轴驱动为直流电机。,盘刷：直径,85mm,。,转速：,200,300r/min,（可调）。,11,盘刷清洗刷毛：=0.1mm，尼龙材质。11,盘刷传送带示意图,盘刷,盘刷,盘刷,12,盘刷传送带示意图盘刷盘刷盘刷12,盘刷清洗水箱示意图（,CLE3,）,高液位传感器,低液位传感器,浓度测量仪,温度传感器,加热管,取样管,13,盘刷清洗水箱示意图（CLE3）高液位传感器低液位传感器浓度测,超声波清洗（,CLE4,）,超声波介绍：,（,1,）,有,7,个振板，每个振板共有,16,个振子,每个振子功率,50W,。,（,2,）,超声波发生的频率为,40-90KHZ,。频率、功率可调。,（,3,）水箱有两个一用一备（,4#,、,5#,水箱）。,（,4,）水箱有加热装置、浓度、温度传感器。,（,5,）水箱中,有,4,个浮球式传感器检测液位。,（,6,）强碱性清洗剂，,PH,值,12-14,。,（,7,）,1,个清洗剂箱。,注：玻璃是浸泡在水中进行传送和清洗的。,14,超声波清洗（CLE4）超声波介绍：14,超声波传送带示意图,由超声波发生器发出的高频振荡信号，通过换能器转换成高频机械振荡而传播到介质,清洗溶剂中，超声波在清洗液中疏密相间的向前辐射，使液体流动而产生数以万计的直径为,50m-500m,的微小气泡，这些气泡在超声波纵向传播的负压区形成、生长，而在正压区迅速闭合，在这种被称之为空穴作用的过程中，气泡闭合可形成几百度的高温和超过,1000,个气压的瞬间高压，连续不断产生瞬间高压就像一连串小“爆炸”不断地冲击物体表面，使物体的表面及缝隙中的污垢迅速剥落，从而达到物件表面净化的目的。,超声波水槽,注：水槽内有两个液位器，以保证水的液面超过玻璃的表面，玻璃浸泡在水中清洗,B,面。,15,超声波传送带示意图 由超声波发生器发出的高频振荡信号，通过换,二流体一清洗（,CLE5,）,二流体清洗介绍：,（,1,）二流体组成,:,洁净压缩空气（,CDA,）和纯水（,DI Water,）的混合体。,（,2,）,CDA,过滤器,0.01um,、,DI Water,过滤器,1.2um,。,（,3,）上下各,1,个二流体喷淋体，长度,830mm,，二流体喷体上进入处有,5,个孔，分别通入,CDA,和,DI Water,，喷口处为,0.1mm,液刀口。,（,4,）玻璃通过二流体清洗后，有喷淋管对玻璃进行清洗，上面有,4,排喷水管，下面有,3,排喷水管，每排,6,个喷嘴。,（,5,）二流体,1,清洗用水利用的滚刷使用后的废水，,7,号,水箱供水；二流体,2,利用的是最终喷淋使用后的废水，,9,号,水箱供水,。,16,二流体一清洗（CLE5）二流体清洗介绍：16,通气,通水,170mm,二流体一喷淋体结构示意图,倾斜约,10,，倾斜角度可调。,17,通气通水170mm二流体一喷淋体结构示意图倾斜约10，倾斜,滚刷清洗（,CLE6,）,滚刷段介绍：,一共设有,3,组滚刷，,上下有各,7,排喷淋嘴。,滚刷上、下间距可调。,设有一个水箱，供水管安装有,0.45m,过滤器，装有,4,个光电液位传感器。,清洗水是利用二流体,2,使用后的废水，,8,号,水箱供水。,滚刷转速：,400500r/min,。,19,18,滚刷清洗（CLE6）滚刷段介绍：1918,二流体二清洗（,CLE6,）,二流体二清洗,介绍：,二流体清洗大于,2m,的污染物,二,流体组成,:,洁净压缩空气（,CDA,）和纯水（,DI Water,）的混合体，上下二流体喷嘴间距,80mm,左右。,二流体二上面,4,排下面,3,排喷淋管。,上下各,1,个二流体喷淋体，二流体喷体上进入处有,5,个孔，分别通入,CDA,和,DI Water,，喷口处为,0.1mm,液刀口。,二流体二利用的是最终喷淋使用后的水，,9,号水箱,供水。,二流体喷体,CDA,DI Water,19,二流体二清洗（CLE6）二流体二清洗介绍：二流体喷体CDA,最终喷淋（,CLE7,）,最终喷淋介绍：,（,1,）液刀的作用是把玻璃表面上多余的水切出，液刀在喷淋的末端。,（,2,）喷淋装置上面,6,排喷嘴，下面有,5,排喷嘴。,（,3,）,10#,水箱供水，供水管道安装有,0.2m,过滤器，水箱安装有加热装置，有温度传感器，装有,4,个光电液位传感器。,（,4,）清洗是,18M,超纯水，温度要求,40-45,。,（,5,）用过的超纯水经过滤后供二流体,2,使用。,20,最终喷淋（CLE7）最终喷淋介绍：20,风刀干燥（,CLE8,）,风刀干燥介绍：,（,1,）有两组风刀，风刀结构类似于液刀，上下各有一把风刀，刀风口,0.1mm,；,（,2,）风刀角可调，每片上都有四个进风口，风刀与水平面的夹角,20,。,（,3,）为了避免风刀吹出的高速气流在该区产生涡流，在区域上安装了,EFU,高 效空气过滤器，向下面吹过滤空气，防止该区产生涡流。,21,风刀干燥（CLE8）风刀干燥介绍：21,EFU,结构,EFU,结构示意图：,风刀,风扇,HEPA,过滤器,22,EFU结构EFU结构示意图：风刀风扇HEPA过滤器22,风刀干燥结构示意图,由于两组风刀对滚轮轴有一定的阻隔，所以滚轮传输需要两根驱动轴,回风管,23,风刀干燥结构示意图由于两组风刀对滚轮轴有一定的阻隔，所以滚轮,输出传送带（,CLE9,）,该区和输入传送带一样设有气缸定位装置，另一个功能是设有离子风棒去除玻璃表面的静电，离子风泵采用的是放电针放电，正负两种电荷交替使用在玻璃表面中和静电离子，达到去静电的目的。离子风泵采用洁净压缩空气供气。,24,输出传送带（CLE9）该区和输入传送带一样设有气,清洗机供水及抽雾示意图,25,清洗机供水及抽雾示意图25,循环水系统,纯水循环利用：,10#,水箱供给,最终喷淋,最终喷淋,回水,9#,水箱,9#,水箱供给,二流体二 二流体二,回水,8#,水箱,8#,水箱供给,滚刷 滚刷回水回水,7#,水箱,7#,水箱供给,二流体一 二流体一回水,6#,水箱,6#,水箱供给,输入传送带 输入传送带回水,1#,水箱,1#,水箱供给,预湿机,4#5#,水箱供给,超声波,2#3#,水箱供给,水箱供给,盘刷 超声波 盘刷各有一个清洗剂补给箱,水箱液位计：最高报警位、停止补水位、低位补水位、最低报警位,。,26,循环水系统纯水循环利用：26,抽雾系统示意图,压差表,阀门,过滤器,27,抽雾系统示意图 压差表阀门过滤器27,各清洗制程比较,清洗过程,目的,特征,毛刷,除去有机物,利用界面活性剂产生亲水性及亲油性除去油脂,除去,5um,以上,particle,基板便面直接摩擦,二流体,除去,1um5umparticle,利用空气与水混合后，在基板表面产生气体爆炸,超声波,除去,1umparticle,利用液体在基板上产生共振效果,风刀,玻璃基板干燥,除去表面液体,28,各清洗制程比较清洗过程目的特征毛刷除去有机物利用界面活性剂产,清洗能动性能指标,用水要求：,18M,（电导率）超纯水；,TOC,（有机碳总和）：,100PPb,（十亿分之一）；,SiO,2,：,50PPb,。,CDA,：温度：,25,+,5,，,露点：,-50,不凝水，,Particle,：,0.3um,，,30ea/cm,2,。,29,清洗能动性能指标用水要求：18M（电导率）超纯水；29,谢谢观赏！,30,30,