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采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物IMIM消影玻璃镀消影玻璃镀膜技术工艺膜技术工艺IM消影玻璃镀膜技术工艺1采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物内内 容容 提提 要要v什么是消影ITOv消影ITO的膜层结构v消影ITO的特性v消影ITO技术指标v消影ITO的工艺控制参数vIM膜层调试方法内 容 提 要什么是消影ITO2采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物什么是消影什么是消影ITOv消影ITO玻璃:是通过在ITO膜和玻璃之间镀上一层IM膜(INDEXMARGIN层)，使ITO玻璃在刻蚀制作电容屏线路之后，可见光波长500nm650nm区间,ITO层蚀刻前后反射率R%0.5%,减少ITO区域和非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，线路的图案在常光下看不见图案线条，起到消除图案的效果的IM+ITO玻璃。v消影消影ITOITO与普通与普通ITOITO比较，具备同样导电性的同时还以下优点比较，具备同样导电性的同时还以下优点:1.1.玻璃透过率增加，反射率减小具有玻璃透过率增加，反射率减小具有ARAR膜功能，在同等膜功能，在同等 背光源的前提下，能通过背光源的前提下，能通过减少环境光影响获得更好的视觉亮度；减少环境光影响获得更好的视觉亮度；2.2.减少减少ITOITO区域和刻蚀后非区域和刻蚀后非ITOITO区域的视觉反差，使得电容屏区域的视觉反差，使得电容屏ITOITO刻蚀线条变淡，提刻蚀线条变淡，提高视觉效果。高视觉效果。什么是消影ITO 消影ITO玻璃:是通过在IT3采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物消影消影ITO的膜层结构的膜层结构v膜层组合GLASSITO层IM层膜系组成：IM(NB2O5/SiO2)+ITO根据ITO阻值不同，IM层厚度也需要做不同的调整。目前常用的消影ITO阻值为80120/ITO膜厚范围20-27nm消影ITO的膜层结构膜层组合GLASSITO层IM层4采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物消影消影ITO的特性的特性v透过曲线比较普通 ITO消影 ITO消影ITO的特性透过曲线比较普通 ITO消影 ITO5采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物消影消影ITO的特性的特性v反射曲线比较消影ITO的特性反射曲线比较6采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物消影消影ITO的特性的特性1.ITO消影玻璃在=500650nm范围，ITO刻蚀前反射R%与刻蚀后反射r%的差小于0.5是最佳的消影效果即符合公式2.CIE L*a*b*反射颜色值符合公式：(UV-2401PC)消影ITO的特性1.ITO消影玻璃在=500650nm范7采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物消影消影ITO工艺指标（内控）工艺指标（内控）透过与反射透过与反射 IM层550nm透过率最佳控制在90.5%0.2%，反射率控制在8.8%0.2%。类别类别400nm450nm550nm650nmT%刻蚀前刻蚀前89%89%90%90%R%刻蚀前刻蚀前11.%9.8%9%9%t%刻蚀后刻蚀后89.591%89.591%90.391%9091.5%r%刻蚀后刻蚀后89.1%8.39.5%8.59%8.39.0%消影ITO工艺指标（内控）透过与反射 IM层550nm8采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物消影消影ITO工艺指标工艺指标颜色指标颜色指标vCIE L*a*b*范围（反射颜色）反射550nm颜色值控制：标准值：-1.0a*0-3.0b*1.0内控值：-1.0a*-0.5-2.0b*0.5注意：CIEL*a*b*颜色坐标值，a*与b*尽可能控制在负值范围内，所做出来的产品颜色才保证不会发黄。消影ITO工艺指标颜色指标CIE L*a*b*范围（反9采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物消影消影ITO的工艺控制参数的工艺控制参数靶材：NB,SiAl靶+ITO靶（连镀）阴极靶位：NB靶（1个）SiAl靶（5个）；ITO靶（2个）温度设置：设定200C-450 C气体及功率详细工艺根据设备不同而定消影ITO的工艺控制参数靶材：NB,SiAl靶+ITO靶10采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物消影消影ITO的工艺控制参数的工艺控制参数vIM层膜厚控制：（总膜厚75-78nm）NB2O5 4.86nm（DT或康宁玻璃5.66.4nm）SiO2 6672nm （DT或康宁玻璃6064nm）说明：各层膜厚准确控制，是消影效果的保证，设计膜系厚度NB/6；SIO2/64；配合ITO/24是理想的膜厚。消影ITO的工艺控制参数IM层膜厚控制：（总膜厚75-78n11采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物IM膜层调试膜层调试v按工艺指导书参考工艺卡，设定各层使用的功率试镀，工艺片采用0.7mm薄片，基板采用客户报废的原基片玻璃。vF20检测薄的膜层时偏差较大，因此，第一层NB2O5膜厚并不准确，调试过程只做光谱曲线参考，主要依据UV2450扫描光谱曲线对照各波段反射指标控制。IM膜层调试按工艺指导书参考工艺卡，设定各层使用的功率试镀，12采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物IM膜层调试膜层调试v膜厚变化调整规律：膜厚变化调整规律：v 当NB2O5层膜偏厚时反射曲线会以中部为点整体上抬，反射率增大，反之，偏薄则会整体下降，趋向平直，反射率减小。u 当SiO2层偏厚，反射曲线随着膜厚的增加而下降，且450nm以下越向下弯，反射率减小。超过90nm厚度后，400nm反而向上翘起。膜厚偏薄时，反射率增大，随着厚度减小，450nm以下的曲线逐步向上抬高。u 当两层都薄时，曲线变为从400nm向700nm倾斜；当两层都厚时曲线从550nm处前端开始向下弯曲。IM膜层调试膜厚变化调整规律：13采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物IM膜层调试（颜色控制膜层调试（颜色控制)颜色值控制负值范围方法：1 1、当发现颜色值出现正值，说明、当发现颜色值出现正值，说明600nm600nm之后的之后的反射增加了，查看反射曲线，如反射率在控制范反射增加了，查看反射曲线，如反射率在控制范围，只需将第二层膜厚减小，使反射曲线的反射围，只需将第二层膜厚减小，使反射曲线的反射率从率从450nm450nm向向650nm650nm递减，一般情况都可以纠正过。递减，一般情况都可以纠正过。2 2、假如反射率曲线都很低，除了减少第二层膜厚之、假如反射率曲线都很低，除了减少第二层膜厚之外，第一层适当的增加膜厚。外，第一层适当的增加膜厚。IM膜层调试（颜色控制)颜色值控制负值范围方法：14采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物参考附件：参考附件：正常工艺曲线正常工艺曲线参考附件：正常工艺曲线15采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物参考附件：正常工艺曲线参考附件：正常工艺曲线vUV-2450曲线参考附件：正常工艺曲线UV-2450曲线16采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物参考附件：异常参考附件：异常SIO2偏厚参考附件：异常SIO2偏厚17采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物参考附件：异常参考附件：异常NB2O5/SIO2两层都薄参考附件：异常NB2O5/SIO218采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物参考附件：异常参考附件：异常NB2O5厚参考附件：异常NB2O5厚19采用PP管及配件：根据给水设计图配置好PP管及配件，用管件在管材垂直角切断管材，边剪边旋转，以保证切口面的圆度，保持熔接部位干净无污物谢谢谢谢谢谢20
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