薄膜问题讨论课件

SLIDE#1Film IssuesDoug Pelleymounter&Ken Nauman高级应用工程师SLIDE#2薄膜问题和其它系统的最优方案 用于反应溅射的闭环控制 Lambda 探测仪 残余气体分析仪（RGA）等离子体发射监控器(PEM)外部电压控制 新的 Crystal 电压控制 带有多倍射频供应的公共激励振荡器(CEX)和相移 交流阳极下降 气流均匀性 薄膜应力和粘着力 溅射速率 SiO2二氧化硅 结晶控制 厚度 AZO氧化锌铝 vs.ITO 氧化铟锡vs.CdSte 每种陶瓷的成本(合金,联合溅射,等等.)SLIDE#3薄膜问题提问与解答时间SLIDE#4SLIDE#4订阅 AE 的 Flat Panel FocusSM 电子新闻 订阅AE的 Flat Panel FocusSM、PV Sun TimesSM 和 Sputter SpotlightSM电子新闻，可以随时掌握当今制造业领域中最迫切的问题，订阅地址：www.advanced- www.advanced-NasdaqGM:AEISwww.advanced-energy.co.kr www.advanced-energy.co.jpwww.advanced-energy.de www.advanced-.tw ENG-FilmIssues-150-039/24/2008Specifications are subject to change without notice.Advanced Energy,Crystal,Flat Panel FocusSM,PV Sun TimesSM,and Sputter Spotlight are U.S.trademarks of Advanced Energy Industries,Inc.2008 Advanced Energy Industries,Inc.All Rights Reserved.