真空镀膜基础知识

了解PECVD设备及工艺需要对真空镀膜有一个了解。我们先对薄膜的概念做一个粗略的了解。薄膜。认为只有聚集厚度小于某一特征厚度的材料才是真正的薄膜。否则便是一般的薄材料。特征厚度。真 空 及 薄 膜 基 础 我 们 生 产 的 为 非 晶 硅 薄 膜 太 阳 能 电 池。

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1、真空及薄膜基础 麦田乌鸦.,我们生产的为非晶硅薄膜太阳能电池,了解PECVD设备及工艺需要对真空镀膜有一个了解,并且对半导体物理及薄膜知识有一定的认识。 我们先对薄膜的概念做一个粗略的了解。 薄膜:在严格的学术意义上,认为只有聚集厚度小于某一特征厚度的材料才是真正的薄膜,否则便是一般的薄材料。 特征厚度:是利用物质的某些基本性质在物质聚集厚度很薄的情况下会发生异常变化的现象而确定的,即当被。

2、真 空 及 薄 膜 基 础 我 们 生 产 的 为 非 晶 硅 薄 膜 太 阳 能 电 池 , 了 解 PECVD设 备 及 工 艺 需 要 对 真 空 镀 膜 有 一 个了 解 , 并 且 对 半 导 体 物 理 及 薄 膜 知 识 有。

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