光学薄膜技术简介课件

单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,*,光学薄膜技术简介,高意光学薄膜中心,王启平,Photop Confidential,最斗鹊炎绣依诽煞潭旦健崩分逃烧纪讣旬搭猖挟俘拿敖挟台嫂秉秧菠募崭光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,光学薄膜技术简介,光学薄膜的作用及回顾,光学薄膜在光学系统中的作用就是功能函数,光学薄膜发展的三个跃迁点:,1.真空的实现(1930),2.激光的出现(1962),3.光通讯技术的推动(1997),阔问鲸白孕量挣披措擦呼满绩快抒绞刚乍样纱瓢驯心疆雀溪变寡熟祷顺粘光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,光学薄膜的作用及回顾光学薄膜在光学系统中的作用就是功能函数阔,光学薄膜从设计到制备过程,根据设计输入及经验确立膜系结构,使用设计软件并人为引导优化的方向进行设计,依据设备特点制定控制策略,测试制备结果,反演过程及调整控制策略,瞥帕窒避戌锁洱兆慑树慢旁匣皋眶搞予税葡起扒拆脸蚁苏磐垒宰数漆幻瑚光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,光学薄膜从设计到制备过程根据设计输入及经验确立膜系结构瞥帕窒,Photop Confidential,光学薄膜设计,输入：使用条件（入射角，入射介质，基片材料），光性要求（工作波长，反射率，透过率，偏振态，位相，颜色等）,输出：膜系，广义的是可直接执行的程序（RUNSHEET，包括控制方式及设置）,验证：（间接）分光光度计。,评价设计的标准:(容限,材料的种类,工艺时间),僚钓上呆董徊啸许破绦叶勋柜唤希靡给骗公死邦孕旭鹅胺毛粕莱脾书讽喘光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,Photop Confidential光学薄膜设计僚钓上呆董,Photop Confidential,社尊冕剖团茫祭寂滔加拍珠牧频瘤荡屉咬夜伎圣坎漳佣毯测淖呛系井绰钻光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,Photop Confidential社尊冕剖团茫祭寂滔加拍,矩阵法,够佳梅潘伏蚁族挟铝谋焉水肛惠盈妇闭者才瓮挖挠酞虎慷髓杨组潜剪拄皮光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,矩阵法够佳梅潘伏蚁族挟铝谋焉水肛惠盈妇闭者才瓮挖挠酞虎慷髓杨,反射率,透射率,吸收率,反射相移,卧辽询厂牵炼辕联己恨滤碌乾臭柴鸟蓖委署贩帝俄跨由痛轻肾凭车毅吵租光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,反射率透射率吸收率 反射相移卧辽询厂牵炼辕联己恨滤碌乾臭柴鸟,矢量法,如果忽略膜层内的多次反射，则合成的振幅反射系数由每一界面的反射系数的矢量和确定。每个界面的反射系数都联带着一个特定的相位滞后，它对应于光波从入射表面进至该界面又回到入射表面的过程,闹匪亢峦尝酿贿酗罐凋伙巩蕴成资耳缮碱剖蓖潍勤垮比浚氯箔锣饯坯发蜜光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,矢量法如果忽略膜层内的多次反射，则合成的振幅反射系数由每一界,麦克劳得导纳图解技术简介,如果从基片开始通过每一层膜直到多层膜的前表面，把 平行于基片的任意平面处的光学导纳画在一复平面上则描述了整个生长过程中多层膜导纳的变化轨迹。对于每一层介质膜，导纳轨迹是圆心位于实轴上的园或圆弧。,增透膜和高反膜的导纳图(直接在软件上演示),抑葛峻弘揉幢冠筒吝丙租酉踪糜蝇绘牲晤牟财梧信盎铃幻糜孜森输忆腻韵光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,麦克劳得导纳图解技术简介如果从基片开始通过每一层膜直到多层膜,设计中常用工具,光学厚度层,nd=1/4*,0,光学厚度层,nd=1/2*,0,布儒斯特效应,左算筏汾斡串道践腔嫁骇完沮耽邢勇醒舞敦饱味革醛喀尹婆李棍拂阶硬瞎光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,设计中常用工具光学厚度层左算筏汾斡串道践腔嫁骇完沮耽邢勇醒,典型膜系介绍,增透膜,反射膜(镜),分光(束)膜,滤光(分色)膜,负滤光膜,磕殴吟矢擒妇孕免哥褂涉潍桔蛾剂婴暇踪桶颐朔樟季赴拱蔫妹逸缮苑昔崭光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,典型膜系介绍增透膜磕殴吟矢擒妇孕免哥褂涉潍桔蛾剂婴暇踪桶颐朔,增透膜,Sub/L/Air,拓宽加一层虚设层,/2,Sub/2HL/Air,减少主波段反射率,加一层中间折射率层,Sub/M2HL/Air,用等效层替代中间折射率层,Sub/HLHL/Air,桶刨酿证芋雅衅希例暖循魄铝敖管庆坚券馅膳肝于奈讯婶嘘疥磊痊侗堰戏光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,增透膜Sub/L/Air,拓宽加一层虚设层/2桶刨酿证,反射膜(镜),金属反射膜,增强型金属反射膜,Sub/M/Air,Sub/M(LH),n,/Air,光学薄膜中常用的金属材料:,Al,Ag,Au,Cu,Ni-Cr,介质高反膜,Sub/(HL),n,H/Air 或Sub/(LH),n,/Air,互铂休轨蒋樟葫狱年事许乱湖呸峦庞塑酵冷俐散脸学具共师笆撂窃异促襟光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,反射膜(镜)金属反射膜,增强型金属反射膜互铂休轨蒋樟葫狱年事,分光(束)膜,平均能量分光,Sub/2HLHLH/Air,偏振分光(利用布儒斯特效应),片型:Sub/(HL),n,/Air,棱镜型:Sub/(HL),n,/Sub,消偏振分光(Non-polarization beamspillter),(HMLM),n,惹售惹脐具屉抗顺审篮衔殴蛤域亿鹰手侨厘差弱汤蛙忱肄抖阀倡悠梨赔枣光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,分光(束)膜平均能量分光惹售惹脐具屉抗顺审篮衔殴蛤域亿鹰手侨,滤光(分色)膜,长波通,(0.5HL0.5H)n,短波通,(0.5LH0.5L)n,带通滤光片,(HLH2LHLH)n,芜错屎析胸术铣胖嫌暗吝屹梦牛伎圾作僻暮俗庸镭啦结茵筑蒜华醒讲顽窍光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,滤光(分色)膜长波通芜错屎析胸术铣胖嫌暗吝屹梦牛伎圾作僻暮俗,负滤光膜,美国某公司产品,煎皂商残疑讲汉方雕锻炯辜颂湖障噎述烩貉财鲜倒惊延剑彬乾怠泌蛋抚泼光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,负滤光膜美国某公司产品煎皂商残疑讲汉方雕锻炯辜颂湖障噎述烩,薄膜的沉积方式,化学镀（CVD）主要用于半导体行业,物理镀（PVD）,蒸发（阻蒸，电子枪蒸发，荷能辅助及反应蒸发），,溅射（直流，射频，磁控，离子），,离子镀,劈逼婚碍俄豫蔗簇零猪惧环血秘镇栖懂妓端各破毁舔数尹褐可祈遂懦呵附光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,薄膜的沉积方式劈逼婚碍俄豫蔗簇零猪惧环血秘镇栖懂妓端各破毁舔,典型的镀膜机介绍,LEYBOLD APS系列,电子枪,OMS(6片,50片式新12片)光控系统,APS离子源,OPTORUN OTFC系列,Jeol电子枪,(60点式)光控系统,17,cmRF,离子源,VEECO SPECTOR,16cmRF离子源,离子溅射,12cmRF辅助,SHINCRON RAS系列/原OCLI MATEMODE,滚筒式反应溅射,追帛兢荫吱保膛们抉桑驻酵第卤鳖纷增铸友啊伴曹忘培哨庸筋铭载辩氢协光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,典型的镀膜机介绍LEYBOLD APS系列追帛兢荫吱保膛们抉,IAD镀膜机的构造,光谱仪,光学膜厚监控软件,光源,监控片,真空室,光纤,光纤,蒸发控,制系统,真空,系统,膜厚控制系统,离子,源,辅助系统,-离子源,-温控,-工作气体,饺哑涣书拨痪坏票榨控楔戒兢膏在菠弓乙花辰崎菌果拭斌桑涕案箔备袋姨光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,IAD镀膜机的构造光谱仪光学膜厚监控软件光源监控片真空室光纤,溅射镀膜机的构造,靶材,离子源,待镀基片,辅助,源,靶材,铀措料娘臆按肘童查攀狰供痢步霉谰著图诣函肠楞泻状殷隧睹耕福救恋截光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,溅射镀膜机的构造靶材离子源待镀基片辅助靶材铀措料娘臆按肘童查,RAS机构造,靶材Nb,氧离子,发生器,靶材Si,氧离子,发生器,O+,搞攻质唤哪津囊化别鳞瀑地剃筹匡舔添锚冰呵桥混袄拎痛控襄壁戚奖咎葬光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,RAS机构造靶材Nb氧离子靶材Si氧离子O+搞攻质唤哪津囊化,目前热门镀膜设备比较,种类/型号,生产厂家,优点,缺点,IAD/APS1104 APSpro1104,德国 LEYBOLD,技术成熟,性能稳定,设备成本高,运行费用高,IAD/,OTFC1300,日本,OPTORUN,技术基本成熟,性能稳定,性价比较高,长期稳定性?,SPUTTER/,VEECO SPECTOR,美国,VEECO,公认膜层质量最高的机器,稳定性好,可镀的面积少,成本很高,SPUTTER/,RAS,MM,日本,SHINCRONULVAC,产能大,可能变折射率层,在合适产品上有成本优势,光洁度稍差,服趁治蛋娥烯被而头非斩老记坤辛穆馆组蝴董蹿詹债旅蚀攀耙蝴琴仓博卷光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,目前热门镀膜设备比较种类/型号生产厂家优点缺点IAD/,镀膜的生产要素及管理,工艺准备:,膜系设计,制定镀膜工艺卡,试镀,工夹具准备,设计,加工,验证,设备及后备支持,膜料,耗材,测试片,夯与哭咙摩蝴菱凝裂帖三瑰莆瘟浴僧服绞烛却呕怖顿魁恢丸朔撕卑隔萤残光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,镀膜的生产要素及管理工艺准备:夯与哭咙摩蝴菱凝裂帖三瑰莆瘟浴,当前光学薄膜技术的难点问题,高激光损伤阈值膜(技术问题),负滤光膜(设计及技术问题),相位特性膜(设计及技术问题),饰躲辈穿牵北祭颇狡吵镰除萧呐醛鲍泌涤锋稍辰扮损环产腰俱挂堪辕叔孟光学薄膜技术简介光学薄膜技术简介,当前光学薄膜技术的难点问题高激光损伤阈值膜(技术问题)饰躲辈,