曝光机维护

,单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,*,PM,是预防性维护的缩写,就是要针对容易出现故障的部分进行检查,和保养,预防故障的发生,最大限度的延长机器的寿命,.,下面将从,track,设备和,曝光机,设备这两个方面对设备,PM,进行总结。,第三章 设备的,PM,第一部分,TRACK,机的,PM,TRACK,机的,PM,包括每月,PM,季度,PM,，半年,PM,和年终,PM.,工作主要是清洗设备，上润滑油，更换使用到期的部件,将,Coater U/D,Chamber U/D,Chuck VAC,三个阀门调至,MANUAL,档。,2.,降下,Coater Chuck.,3.,降下,Chamber.,将,Spin Chamber Arm Swatch,调至,MAINT,档,并固定开关,防止人员作业时,Chamber,落下伤人。,5.,升起,Chamber.,6.,关闭,ER Stage CAB OFF SW,然后移动,CAB,，使清洗时有更大空 间。,7.,去掉,Load Cup,上的八个螺丝，去掉,Load Cup.,8.,记住,Load Cup,上标记的位置，安装位置不对的话会出现摇摆的现象。,9.,拧下固定,Thinner,的螺丝，去掉,Outer Cup.,10.,使用丙酮清洗,Cup,内部的,PR,。,注意,:1.,一般不能用,Acetone,清洗,Chuck,但当,Chuck,上有,PR,胶时，需要用,Acetone,清洗，但清洗后必须再用,IPA,清洗一遍。,2.,一次用三张以上,Wiper,，以防被吸进排管中。,ER,清洗：,1,将,ER Arm Switch,关闭。,2,用丙酮冲洗,Nozzle,，同时用,Wiper,吸取废液。,3,用,IPA,清洗一下,Lift Pin,Vacuum Pin,和载台。,PR Nozzle,清洗,1.,升起,Scan Arm.,2.,用,Acetone,冲洗喷嘴和嘴槽,3.,恢复,Scan Arm,的位置,注意：长时间不清洗,PR Nozzle,，凝固的,PR,将堵住喷嘴，,喷嘴有可能突然喷出,Thinner,液体，溅射到玻璃上，,把,PR,胶溶解掉，造成不良。,Cup and Spin Chuck,清洗：,1.,将设备的外盖和内盖打开,2.,将,Chuck,盖上，进入设备用,DIW,冲洗内部,3.,用,IPA,进行擦拭,4.,再用,DIW,冲洗,5.,拿走,Chuck,并清洗,Chuck,和四壁,第二部分 曝光机的,PM,概述：,目前曝光机进行的,PM,主要是月度的,PM,它包括,:,1.PRESSURE GAUGE INDICATION,2.ILLUMINATION INTENSITY,ILLUMINATION UNIFORMITY,3.FOCUS,4.STITCHING ACCURACY;OVERLAY ACCURACY;SDC CHECK,5.GREASE UP AND CLEANING,更详细的,PM,请见下表,2 PM,项目说明,:,PRESSURE GAUGE INDICATION,这个项目所做的内容就是检查机器的输入输出气体的压力,他们是,:,1 dry air:,正常值,:600-900kpa,2 clean air:,正常值,:600-900kpa,3 cooling are:,正常值,:400-900kpa,4 N2:,正常值,:600-900kpa,5 VACUUM:,正常值,:67,kpa,6 LAMP EXHUAST:,正常值,:1.5,kpa,7 PCW:,正常值,:20l/min,8 C-OIL:,正常值,:0.07-0.21,Mpa,曝光机内部的清洁：,曝光机内部的清洁对象是：,plate stage,mask stage,以及他们对应的导轨，反射板，,MASK,储存台。为什么要清洁这些部件呢？我分析了这些部件共同特点就是：移动频繁，而且和,MASK,或者是,PLATE,靠的很近。我想，之所以需要清洁这些部件，就是因为这个特点吧。,因为我们的最终目的是不让灰尘落到,MASK,或者是,PLATE,上面，如果在这些离,MASK,或者,是,PLATE,很近的运动部件上积累了一定量的灰尘，那么在运动的时候很容易就把灰尘激起,了来了，而且因为这些部件靠,MASK,或者是,PLATE,很近，所以这些激起来的灰尘落到,MASK,或者是,PLATE,上的几率也就很高了。,清洁步骤：,1.,在控制台上的控制面板上关闭,MAINBODY,电源,2.,对于,mask stage,以及他对应的导轨，,plate stage,对应的反射板，导轨，清洁方法相同，,就是使用,IPA,和无尘布擦拭，无尘布的使用按照前边写的,PM,基本功进行。只是清洁的时,要注意不要碰到曝光机内部的设备。,3.,对于,MASK,储存台的清洁，则是使用的棉棒和,IPA,。,4.,对于,PLATE CHUCK,，有三种清洁方式，,IPA+WIPPER;ACETONE+WIPPER;,采用,hard oil stone,在,PLATE CHUCK,的表面轻轻的摩擦,第三种方法是针对非常明显而且,采用前两种方法难以去除的异物的。这种异物会造成,MURA,LAMP CHANGE,曝光机是使用水银灯作为光源的，水银灯的寿命有限，一般超过,900,小时,就应该更换，如果不及时更换的话，可能会在玻璃基板曝光的中途熄灭，,导致整个基板作废，还会因为照度变化大而造成不良。所以需要及时更换,灯，标准是：,900,小时以上，或者功率,5.5KW,以上。,灯的能量的检测，包括灯的电压，电流和电功率。还有使用时间,确认曝光机没有任务在进行,切断灯的电源,冷却,30,分钟。,灯的交换，目前我们使用的灯的型号是,USHIO 5000CL/HL,，交换的,时候有一个需要注意的点：就是灯的电源线在装在的时候不能扭曲，,否则可能会出现烧毁的情况。,关好,LAMP HOUSE,，将计时器置零，打开灯的电源,等待,30,分钟，原因：灯是水银灯，要灯水银全部蒸发且均匀分散，灯,的照度才会均匀。,灯的位置的调整，一共有三个调节扭，它们分别是调节灯在,X Y Z,三个,方向的位置的，分别调节这三个调节扭，调节的原则是使每个方向的,照度值最大。,9.,进行照度检测和调整。,照度检测和调整：,曝光机发出的光的照度的均匀性是非常重要的机器参数，如果出现照度不均匀的情况，,就可能导致曝光的时候光的能量分布不均匀，从而导致,MURA,的出现。正常情况下应该,是每天都对照度进行检查，在换灯结束以后也要对照度进行检查，发现照度不均匀的话，,就需要及时作出调整。,照度检测和调节方法：,将目前执行的任务挂起。,在,MPA5000,主菜单中选：,MAINT-SPECIAL FUNCTION-,ILLUMINANCE MEASURE,。当,ILLUMINANCE MEASURE,操作菜单出现以后，,MASK,自动从,MASK STAGE,推出。,3.,在,ILLUMINANCE MEASURE,的操作菜单中选取测量，一共可以得到,15,点照度数据,根据上一步的数据，找出照度偏差在,2,或者以上的，进行进一步调整。,使用,adjusting rod,对,slit imagine system,进行手工调整，这里要注意一点，不要使,Adjusting rod,碰到机器内部的线路和器件。,6.,转动,adjusting rod,调整照度，我的经验是,adjusting rod,转动一圈，照度变动是,0.5,，,转动完成以后，重新进行照度测试，就这样反复测试，调整，测试，调整，直到,所有的照度值进入正常范围。,7.,记录下调整完成后的各点照度值，以及点灯的电压，电流和电功率。,ILLUMINANCE MEASURE,菜单,曝光机的,PM,使用,adjusting rod,对,slit imagine system,进行手工调整,曝光机的,PM,DR0 CHECK,由于曝光机的光路系统之中，并不是所有的光学元件都是固定的，而且在日常的运转当,中，光学系统也会改变位置，因此，曝光时候的光路也会相应的发生变化，为了弥补这,个偏差，系统设置了自动的补偿系统，正常情况下我们只需要激活这项功能就可以了：,在,MPA CONTROL,的菜单中，将,DR COMPENSATION,设置为,COMPENSATION.,如果,偏差过大，机器不能识别，那么就需要我们直接在机器上进行调整。,DR0 CHECK,正是,为了检测这个偏差而进行的。,DR0 CHECK,步骤,：,将机器正在进行的,JOB,挂起。,在,MPA CONTROL,的菜单中，将,DR COMPENSATION,设置为,NONE,。这样才能,确保检测出来的偏差量是最原始的偏差量,装入,CANON TEST MASK 1,以及,CANON TEST PLATE,并且在,PROCESS DATA,中选择,DISTORTION MEASUREMENT job,。,调出在,EXECUTE MONITOR,菜单中的,AA MONITOR,，执行,TV FINE AA.,观察,PLATE,上的,FINE MARK,和,MASK,投射在,PLATE,上的,FINE MARK,，如果他们,之间的差别不大，则可以打开,MONITOR,中的,ADC MEASUREMENT,菜单，否则,需要进行机械调整，就是用转柄转动,UM,上的,DR,调节结点。,曝光机的,PM,在,ADC MEASUREMENT,菜单执行完,TV-FINE AA,以后，接着执行,ADC-ALL,，将测试,数据记录在纸上。,采用以下公式对取得的数据进行计算，计算完成以后，根据计算值再次调整,UM,上的,DR,调节结点。,DR0=(XLP3+XRP3)/2-(XLP1+XRP1)/2-CP/VS(YLP2-YRP2),CP:carriage position(P1-P3,间距,),VS:viewing span,8.,所有调整结束以后，回到,MPA CONTROL,菜单，并且将,DR COMPENSATION,设置为,COMPENSATION,，恢复原来的运行模式。,曝光机的,PM,DR0,现象,DR0,的机械调整,曝光机的,PM,FOCUS CHECK:,Mask,Plate,defocus,由于曝光机的光路系统之中，并不是所有的光学元件都是固定的，而且在日常的运转当中，光学系统也会改变位置,在这样的情况下,就会出现对焦不良的情况,如右图所示,对焦不良可以引起曝光图像模糊,刻蚀错误,.,因此我们需要定期对这个光学系统的对焦能力进行测试,并根据测试结果调整,ZSENSOR.,曝光机的,PM,FOCUS CHECK,的基本原理,光束,基板,最佳聚焦,对焦极限,在,FOCUS CHECK,的时候,基板会倾斜,这时候光束对于基板的聚焦情况是以最佳对焦点为中心成对称分布的,.,通过这个测试就可以得到最佳的聚焦点,再通过相应的公式就可以得到,Zsensor,调节量了,光束,光束,对焦极限,曝光机的,PM,检测方法,:,在任务设置中设置,37F;tilt;mask canon test mask 1 in slot 1,Track recipe,确认为,focus,在,track,机器一边设置,AGV Local;online-offline,5,次曝光,将曝光完成的基板显影,并送到,Micro/Macro machine,曝光机的,PM,Vertical,Sagittal,Meridian,Horizontal,Check mark,在,MICRO/MACRO,Machine,上,检测已经显影的玻璃基板,通过,MARK,上的相应数字得到检测结果,.,曝光机的,PM,(new)P1=(old)P1+A,(new)P2=(old)P2+B,(new)P3=(old)P3+C,曝光机的,PM,