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按一下以編輯母片標題樣式,按一下以編輯母片,第二層,第三層,第四層,第五層,*,LCD 培訓教材(一),圖案制作,1,LCD基本構造(其斷面如下圖),2,塗佈光阻劑,Photoresist Coating,顯 影,Developing,蝕 刻,Etching,剝 膜,Stripe,配向膜塗佈,Polyimide Coating,灌 液,LC Injection,定 向,Rubbing,印 框,Screen Printing,印 點,Cross-over Printing,預 烤,Pre-Curing,塗 佈,Spacer Spray,組 合,Glass Assembly,曝 光,Exposure,清 洗,Clean,清 洗,Clean,貼 片,Polarizer,Assembly,LCD製程流程圖,塗佈光阻劑,Photoresist Coating,顯 影,Developing,蝕 刻,Etching,剝 膜,Stripe,配向膜塗佈,Polyimide Coating,灌 液,LC Injection,定 向,Rubbing,印 框,Screen Printing,印 點,Cross-over Printing,預 烤,Pre-Curing,撒 佈,Spacer Spray,組 合,Glass Assembly,曝 光,Exposure,清 洗,Clean,貼 片,Polarizer,Assembly,3,清 洗,Clean,顯 影,Developing,蝕 刻,Etching,剝 膜,Stripe,配向膜塗佈,Polyimide Coating,灌 液,LC Injection,定 向,Rubbing,印 框,Screen Printing,印 點,Cross-over Printing,預 烤,Pre-Curing,撒 佈,Spacer Spray,組 合,Glass Assembly,曝 光,Exposure,塗佈光阻劑,Photoresist Coating,塗佈光阻劑,Photoresist Coating,貼 片,Polarizer,Assembly,4,清 洗,Clean,塗佈光阻劑,Photoresist Coating,顯 影,Developing,蝕 刻,Etching,剝 膜,Stripe,配向膜塗佈,Polyimide Coating,灌 液,LC Injection,定 向,Rubbing,印 框,Screen Printing,印 點,Cross-over Printing,預 烤,Pre-Curing,撒 佈,Spacer Spray,組 合,Glass Assembly,曝 光,Exposure,曝 光,Exposure,5,清 洗,Clean,塗佈光阻劑,Photoresist Coating,蝕 刻,Etching,剝 膜,Stripe,配向膜塗佈,Polyimide Coating,灌 液,LC Injection,定 向,Rubbing,印 框,Screen Printing,印 點,Cross-over Printing,預 烤,Pre-Curing,撒 佈,Spacer Spray,組 合,Glass Assembly,曝 光,Exposure,顯 影,Developing,顯 影,Developing,貼 片,Polarizer,Assembly,6,清 洗,Clean,塗佈光阻劑,Photoresist Coating,顯 影,Developing,剝 膜,Stripe,配向膜塗佈,Polyimide Coating,灌 液,LC Injection,定 向,Rubbing,印 框,Screen Printing,印 點,Cross-over Printing,預 烤,Pre-Curing,撒,佈,Spacer Spray,組 合,Glass Assembly,曝 光,Exposure,蝕 刻,Etching,蝕 刻,Etching,貼 片,Polarizer,Assembly,7,清 洗,Clean,塗佈光阻劑,Photoresist Coating,顯 影,Developing,蝕 刻,Etching,配向膜塗佈,Polyimide Coating,灌 液,LC Injection,定 向,Rubbing,印 框,Screen Printing,印 點,Cross-over Printing,預 烤,Pre-Curing,撒 佈,Spacer Spray,組 合,Glass Assembly,曝 光,Exposure,剝 膜,Stripe,剝 膜,Stripe,貼 片,Polarizer,Assembly,8,導電玻璃材料,就是在普通玻璃(不導電)的一個膠面層鍍上透明導電膜的玻璃.目前常用的導電玻璃是氧化銦,氧化錫玻璃,通常簡稱ITO玻璃,在生產過程中,每片玻璃都必經過万用電表檢 測,導電面為ITO正面,不導電面無ITO面為背面.,一、 ITO玻璃的結构,如圖,1,SIO,玻璃,ITO,圖1,9,二、LCD制造用的ITO導電玻璃規格,玻璃厚度: 0.5mm 0.7mm 1.1mm,玻璃面積: 14 * 16 (或355.6mm * 406.4mm),300*350,SiO2 阻擋層: 200 500A (1 A= 10,10,米 ),ITO層厚: 250 2000 A,SiO2 絕緣層厚: 500 1000 A,ITO導電玻璃的主要技術,透光率8%,方塊電阻,R,R,10,、,1,5,、,30 ,、,80 相對R 越小越好,若R 10/ 膜厚1000 2000 A R 100-300/ 膜厚200-300 A,10,ITO玻璃的技術要求,平整度好,一般要求平整度0.5um/20mm,机械強度与化學抗蝕性能,ITO層對玻璃(SiO2)表面的粘附力要強,不易脫落,抗划傷強.ITO膜能抗強鹼,但易被酸腐蝕.,11,光刻膠性能的主要指標.,感光度.光刻膠對光敏感的性能.,所以說,對于固定光強的曝光机,光刻膠的感光度越高,則曝光時間越短,反之,則差.,分辯率.,光刻精度的標志.它不僅与光刻膠本身有關.還与光刻工藝條件和操作技術等因素有關.,抗蝕性 只是在針孔密度小,粘附性能良好的情況下,才能有較強的抗酸.鹼能力.,12,接上,粘附力 光刻膠与ITO面之間沾附的牢固程度也直接影響光刻后的精度,光刻膠的沾附力与光膠本身性質有關.而且与玻璃面有密切關系.平整.清洁.干燥.無油質污染的表面有利于光刻膠的粘附.此外.光刻膠的配比,前烘條件,顯影液配方因素有關.,13,穩定性 光刻膠在常溫和暗房內(黃色光).光刻膠不發生暗反應.,針 孔 視其光刻膠膜上針孔形成密度盡可能低,它將直接影響光膠質量.,粘度和含固率 光刻膠越濃, 粘度就越大,涂膜就越厚,反之.就越薄, 因此.我們常采用改變光膠濃度調節粘度,控制膜厚度.例中: 光刻細小圖表時,為了提高分辯率,膠層相對薄些故采用濃度較稀的光刻膠.,溫度高.固含率低.粘度變小,膜薄,反之則厚,.,14,光刻膠的分類,負性膠 在襯底表面將得到与光刻掩蓋版遮光圖形完全相反的圖形(不适用LCD制造業).,正性膠 這种膠在曝光前對某些溶劑是不可溶的,而曝光后就變成可溶性,能与掩模遮光圖形相同的圖案.,15,接上,此膠分辨率高,邊緣整齊,邊緣陡度好,以及反刻時易對准等优點,較易顯影,常被LCD制造業采用.,正性膠經強紫外線照射后,發生光合反應,經光照后的生成物能溶解于弱鹼性水溶液中, 而顯示出正圖形.,16,主要不良影響：,工位,缺陷,不良原因,后制程產生不良,PR,涂,布,PR臟點,1.玻璃表面臟物,2.涂膠輪本身臟,3.環境太,差（粒子濃度偏高）,4.PR被污染,針孔、開路,PR空洞,1.玻璃表面有水汽和油污,2.涂膠輪上有臟物和凸點,針孔、開路,亮線,1.涂膠輪浸潤不夠,2.玻璃清洗不干凈,3.水汽未干,針孔、開路,PR不均 (厚薄不均),1.涂膠輪與勻,均膠輪間的間隙不一致,2.玻璃表面局部有水汽,、,油污）,3.膠的粘度大小直接與PR膜的厚薄有關,開路與短路，對下一工序造成顯影、蝕刻工位的不足,、過度,膠泡,1.PR中本身有汽泡,2.攪拌中產生汽泡,3.涂膠輪上有亮線,短路、針孔,17,主要不良影響：,18,主要不良影響：,工位,缺陷,不良原因,后制程產生不良,蝕,刻,針孔、缺口、斷線、短路、多餘物,同顯影,同顯影,蝕刻不足,1、噴淋支數太少,2、蝕刻溫度、濃度太低,3、傳送速度太快,短路、多餘物,蝕刻過度,1、噴淋支數太多,2、蝕刻溫度、濃度太高,3、傳送速度太快,開路,19,主要不良影響：,工位,缺陷,不良原因,后制程產生不良,剝膜,殘留PR,1剝膜濃太低,2傳送太快,3堅膜溫度過高,PI臟點,臟物,1DI水太臟,2濾芯效果太差,3機臺內未定期清洗,PI臟點,水未干,1吹干將置風量太小,2烘干溫度太低,PI空洞、PI涂覆不干,20,共同,進步,21,
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