《ECVD印刷工艺简述》PPT课件

PECVD&印刷工艺简述姚骞2010-1-10 管式PECVD系统板式PECVD系统PECVD技术分类 PECVD沉积镀膜主要有两种方式：直接沉积法和间接沉积法PECVD直接法直接法间接法间接法管式PECVD系统板式PECVD系统微波法直流法Centrotherm、四十八所、七星华创日本岛津Roth&RauOTBRoth&Rau属于板式间接法沉积方式_直接法和间接法直接沉积法 间接沉积法 PECVD过程示意图板式PECVD（Roth&Rau)管式PECVD（Centrotherm)PECVD原理示意图板式PECVD（Roth&Rau)管式PECVD（Centrotherm)PECVD工艺简述PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）即等离子增强化学气相沉积技术是在硅片表面沉积一层氮化硅薄膜SiNx:H，其主要作用有两个：一是减反射（ARC），另外就是钝化作用。减反射减反射单层减反射膜是利用光在减反射膜层两侧反射光存在相位差的干涉原理而达到减反射的效果，如下所示：根据光的波动理论和干涉理论，光束通过膜层时，在膜层两侧得到两束相干光，两束相干光的振幅接近相等，再控制薄膜厚度，使两相干光的光程差满足干涉极小条件，此时反射光能量将完全消除或大大减弱。反射能量的大小是由光波在介质膜表面的边界条件确定，适当条件下可完全没有反射光或只有很弱的反射光。单层减反射膜只能对某个波长和它附近的较窄波段内的光波起增透作用，为在较宽的光谱范围达到更有效的增透效果，常使用多层介质膜。图.太阳能电池模拟（L）、太阳能光谱（R）钝化钝化钝化指的就是减少载流子复合速率和减少复合中心，以提高光生载流子的收集率。什么是载流子复合处于热平衡状态下的半导体在温度一定的条件下载流子浓度是一定的，处于一个相对的平衡状态。当对该半导体施加外加作用的时候，处于相对平衡状态的载流子浓度就失去平衡，处于一个动态的非平衡状态，而当外界的作用撤销以后，处于非平衡状态的载流子就会回到原来的热平衡状态，这个过程就称之为载流子的复合过程。为什么要减少复合太阳电池的效率损失的原因之一就是光生载流子电子和空穴在被P-N结分离前复合。复合既可以在表面发生，也可以在内部发生。)exp(kTqVJqWUqWUJJoESRHrecLHareon Solar，Process Department