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材料构造分析一、名词解释：1、球差：球差是由于电子透镜的中心区域和边沿区域对电子的会聚能力不同而导致的。电子通过透镜时的折射近轴电子要厉害的多，以致两者不交在一点上，成果在象平面成了一种满散圆斑。色差：是电子能量不同，从而波长不一导致的2、 景深：保持象清晰的条件下，试样在物平面上下沿镜轴可移动的距离或试样超越物平面 元件的距离。焦深：在保持像清晰的前提下，象平面沿镜轴可移动的距离或者说观测屏或照相底板沿镜轴所容许的移动距离 3、辨别率： 所能辨别开来的物平面上两点间的最小距离，称为辨别距离4、明场像：采用物镜光阑将衍射束挡掉，只让透射束通过获得图像衬度得到的图像。5、暗场像：用物镜光阑挡住透射束及其他衍射束，而只让一束强衍射束通过光阑所的图像。中心暗场像： 入射电子束相对衍射晶面倾斜角，此时衍射斑将移到透镜的中心位置，该衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为中心暗场成像。衬度：试样不同部位由于对入射电子作用不同，经成像放大系统后，在显示装置上显示的强度差别。 6、消光距离：衍射束的强度从0逐渐增长到最大，接着又变为0时在晶体中通过的距离。7、菊池把戏：由入射电子经非弹性不相干散射，失去很少能量，随后入射到一定晶面时，满足布拉格定律，产生布拉格衍射，衍射圆锥与厄瓦尔德球相交，其交线放大后在底片投影出的由亮暗平行线对构成的把戏。8、衍射衬度：由于晶体试样满足布拉格反射条件限度差别以及构造振幅不同而形成的电子图像反差，它仅属于晶体构造物质。9、双光束条件：假设电子束穿过样品后，除了透射束以外，只存在一束较强的衍射束精确地符合布拉格条件，其他的衍射束都大大偏离布拉格条件。作为成果，衍射把戏中除了透射斑以外，只有一种衍射斑的强度较大，其他的衍射斑强度基本上可以忽视，这种状况就是所谓的双光束条件。10、电子背散射衍射：当入射电子束在晶体样品中产生散射时，在晶体内向空间所有方向发射散射电子波。如果这些散射电子波河晶体中某一晶面之间正好符合布拉格衍射条件将发生衍射，这就是电子背散射衍射。11、二次电子：在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表面的样品的核外电子叫做二次电子。12、背散射电子：被固体样品中原子反射回来的一部分入射电子，又分弹性背散射电子和非弹性背散射电子。二、简答1透射电镜重要由几大系统构成?各系统之间关系如何? 答：电镜一般是由电子光学系统、真空系统和供电系统三大部分构成。其中电子光学系统是其核心，其她系统为辅助系统。2 照明系统的作用是什么?它应满足什么规定? 答：照明系统涉及电子枪和聚光镜2个重要部件，它的功用重要在于向样品及成像系统提供亮度足够的光源。电子束流，对它的规定是输出的电子束波长单一稳定，亮度均匀一致，调节以便，像散小。它应满足明场和暗场成像需求。（刘：产生发射会聚出一定能量的电子束，发射的电流稳定性要好，电流组打狗，电子束能量集中，电子束相干性好，单色性好。）3 成像系统的重要构成及其特点是什么? 答：成像系统重要由物镜、中间镜和投影镜及物镜光阑和选区光阑构成物镜：强激磁短焦距，放大倍数高，100300倍中间镜：弱激磁长焦距，放大倍数020倍，当放大倍数不小于1，用来进一步放大物象，不不小于1用来缩小物象投影镜：强激磁短焦距，激磁电流固定，景深焦长很大物镜光阑：装在物镜后焦面，直径20-120um，无磁金属制成。选区光阑：装在物镜像平面上，直径20-400um.4 分别阐明成像操作与衍射操作时各级透镜(像平面与物平面)之间的相对位置关系，并画出光路图。 答：成像：试样在物镜的物平面上，物镜的像平面是中间镜的物平面，中间镜的像平面是投影镜的物平面。 衍射：试样在物镜的物平面上，物镜的后焦面是中间镜的物平面，中间镜的像平面是投影镜的物平面。5阐明多晶、单晶及非晶衍射把戏的特性及形成原理。答：单晶：明锐，周期性排布的衍射斑点，可以找到一种平行四方形，通过平移这个平行四边形，可得所有像每一种斑点相应一种面，可视为倒易面的投影，因此具有周期性。多晶：样品中各晶粒同名晶面倒易点集合形成倒易球面，倒易球面与反射球相交为圆环，因此各晶粒同名面形成以入射电子束轴2为半锥角的衍射圆锥，各圆锥与感光平板相交，形成衍射圆环像。明锐的衍射环，或由斑点构成的环，同一组晶面倒易矢量因位相不同形成倒易球，与反射球相交成环。非晶：模糊的环带，晶面随机分布，衍射无规律性。6制备薄膜样品的基本规定是什么?具体工艺过程如何?双喷减薄与离子减薄各合用于制备什么样品?答：样品的基本规定：1）薄膜样品的组织构造必须和大块样品相似，在制备过程中，组织构造不变化；2）样品相对于电子束必须有足够的透明度3）薄膜样品应有一定强度和刚度，在制备、夹持和操作过程中不会引起变形和损坏；4）在样品制备过程中不容许表面产生氧化和腐蚀。样品制备的工艺过程 1) 切薄片样品2) 预减薄3) 终减薄离子减薄：1）不导电的陶瓷样品2）规定质量高的金属样品3）不适宜双喷电解的金属与合金样品双喷电解减薄：1）不易于腐蚀的裂纹端试样2）非粉末冶金试样3）组织中各相电解性能相差不大的材料4）不易于脆断、不能清洗的试样7 什么是衍射衬度?它与质厚衬度有什么区别?答：由于样品中不同位相的衍射条件不同而导致的衬度差别叫衍射衬度。它与质厚衬度的区别：（1) 质厚衬度是建立在原子对电子散射理论基本上的，而衍射衬度则是运用电子通过不同位相粒时的衍射成像原理而获得的衬度，运用了布拉格衍射角。（2) 质厚衬度运用样品薄膜厚度的差别和平均原子序数的差别来获得衬度，而衍射衬度则是运用不同晶粒的晶体学位相不同来获得衬度。（3) 质厚衬度应用于非晶体复型样品成像中，而衍射衬度则应用于晶体薄膜样品成像中。（衍射衬度：由于晶体薄膜的不同部位满足布拉格衍射条件的限度有差别以及构造振幅不同而形成电子图像反差。它仅属于晶体物质，对于非晶体试样是不存在的。质厚衬度：由于试样的质量和厚度不同，各部分对入射电子发生互相作用，产生的吸取与散射限度不同，而使得透射电子束的强度分布不同形成反差。 区别：衍射衬度运用不同晶粒晶体学位相不同获得衬度，运用于晶体薄膜样品中；质厚衬度运用薄膜样品厚度差别和原子序数差别来获得衬度，运用于非晶体复型样品成像中）8图阐明衍衬成像原理，并阐明什么是明场像、暗场像和中心暗场像。（图）答：设薄膜有A、B两晶粒B内的某(hkl)晶面严格满足Bragg条件，或B晶粒内满足“双光束条件”，则通过(hkl)衍射使入射强度I0分解为Ihkl和IO-Ihkl两部分A晶粒内所有晶面与Bragg角相差较大，不能产生衍射。在物镜背焦面上的物镜光阑，将衍射束挡掉，只让透射束通过光阑孔进行成像（明场），此时，像平面上A和B晶粒的光强度或亮度不同，分别为IA I0IB I0 - IhklB晶粒相对A晶粒的像衬度为明场成像： 只让中心透射束穿过物镜光栏形成的衍衬像称为明场镜。 暗场成像：只让某一衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为暗场像。 中心暗场像：入射电子束相对衍射晶面倾斜角，此时衍射斑将移到透镜的中心位置，该衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为中心暗场成像。 9 什么是消光距离?影响晶体消光距离的重要物性参数和外界条件参数是什么?（公式）答：消光距离：由于透射波和衍射波强烈的动力学互相作用成果，使I0和Ig在晶体深度方向上发生周期性的振荡，此振荡的深度周期叫消光距离。（衍射束的强度从0逐渐增长到最大，接着又变为0时在晶体中通过的距离。）影响因素：晶胞体积，构造因子，Bragg角，电子波长。（刘：物性参数：晶胞体积 操作反射的构造振幅外界参数：入射电子波波长（加速电压） 电子流与晶面形成半衍射角）10 衍衬运动学的基本假设及其意义是什么?如何做才干满足或接近基本假设?答：（1）、忽视样品对电子束的吸取和多重散射 。（2）、不考虑衍射束和透射束间的交互作用。即对衬度有奉献的衍射束，其强度相对于入射束强度是非常小的 。（3）、双光束近似意味着：a) 存在一种S值； b) 具有互补性基本假设：（4）柱体近似。试样下表面某点所产生的衍射束强度近似为以该点为中心的一种小柱体衍射束的强度，柱体与柱体间互不干扰。满足或接近基本假设得做到：（1）试样取向应使衍射晶面处在足够偏离布拉格条件的位置，即S0（2）要采用足够薄的样品（刘：采用双光束近似，只考虑透射束和一束衍射束成像，且两者强度互补。（2） 觉得衍射波振幅远不不小于透射波振幅，试样各处入射电子波振幅与强度都保持不变，只需计算衍射波的振幅与强度变化。（3） 假定电子束在晶体内多次反射和吸取忽视不计。（4） 假设相邻两入射束之间无互相作用，可将入射范畴看作一圆柱体，只可考虑沿柱体轴向上的衍射强度的变化，柱体出射角衍射强度只与考虑的柱体内构造内容与衍射强度有关。 当试样很薄，电子速度不久，布拉格反射角2很小时接近假设条件。）11 举例阐明抱负晶体衍衬运动学基本方程在解释衍衬图像中的应用。当偏离矢量为定值时，Ig随t的变化，按余弦周期变化形成明暗相间的条纹，同一条纹相应的厚度是相似的，深度周期为1/s。12什么是缺陷不可见判据?如何用不可见判据来拟定位错的布氏矢量?答：缺陷不可见判据是指：=0拟定位错的布氏矢量可按如下环节：找到两个操作反射g1和g2，其成像时位错均不可见，则必有g1b=0，g2b=0.这就是说，b应当在g1和g2所相应的晶面（h1k1l1）和（h2k2l2）内，即b应当平行于这两个晶面的交线，b=g1g2，再运用晶面定律可以求出b的指数。至于b的大小，一般可取这个方向上的最小点阵矢量。13 写出电子束入射固体晶体表面激发出的三种物理信号，它们有哪些特点和用途?答：重要有六种：1)背散射电子:能量高；来自样品表面几百nm深度范畴；其产额随原子序数增大而增多.用作形貌分析、成分分析以及构造分析。2)二次电子:能量较低；来自表层510nm深度范畴；对样品表面化状态十分敏感。不能进行成分分析.重要用于分析样品表面形貌。6)俄歇电子:各元素的俄歇电子能量值很低；来自样品表面12nm范畴。它适合做表面分析。非表面3)吸取电子:其衬度正好和SE或BE信号调制图像衬度相反;与背散射电子的衬度互补。吸取电子能产生原子序数衬度，即可用来进行定性的微区成分分析.4) 透射电子：透射电子信号由微区的厚度、成分和晶体构造决定.可进行微区成分分析。5)特性X射线: 用特性值进行成分分析，来自样品较深的区域 14扫描电镜的成像原理与透射电镜有何不同? 答：扫描电镜成像原理：扫描电镜运用聚焦电子束在样品表面逐点扫描，与样品作用产生多种物理信号，如俄歇电子，二次电子，背散射电子，特性X射线等，这些信号经检测器接受，放大，并转换成调制信号，最后在荧光屏上显示反映样品表面多种特性的图像，不会产生衍射像。透射镜成像原理：1）因此从同一点出发的不同方向的电子，经透镜作用后，交于像平面一点，构成相应像。2）从不同物点出发的同方向同样相位的电子，经透镜作用后，会聚于焦平面上一点，构成与试样像相应的散射把戏，运用透过样品并携带其构造信息的电子逐渐放大成像。（TEM：入射电子与试样中原子互相作用，发生弹性散射或非弹性散射，最后离开试样，并通过各层透镜的作用最后在显示屏上显示出不同的放大了的把戏和象。SEM：电子束打在试样上你，激发出多种信号，信号强度取决于试样表面形貌、受激区域成分和晶体取向，在试样附近的探测器接受这些信号，经解决放大后，输送到显像管调制亮度。SEM的成像过程与TEM的成像原理是完全不同的。TEM是运用透射电子经电磁透镜成像；SEM的成像不需要成像透镜，它是采集电子束激发样品的信息（重要是二次电子）和反弹回来的背散射电子，类似于电视显像过程，其图像按一定期间空间顺序逐点形成，并在镜体外显像管上显示。）15二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相似与不同之处? 答：二次电子像显示表面形貌衬度时：1）凸出的尖棱，小粒子以及比较陡的斜面处SE产额较多，在荧光屏上这部分的亮度较大。2）平面上的SE产额较小，亮度较低。3）在深的凹槽底部尽管能产生较多二次电子，使其不易被控制到，因此相应衬度也较暗。背散射电子像显示表面形貌衬度时：1）用BE进行形貌分析时，其辨别率远比SE像低。2）BE能量高，以直线轨迹逸出样品表面，对于背向检测器的样品表面，因检测器无法收集到BE而变成一片阴影，因此，其图象衬度很强，衬度太大会失去细节的层次，不利于分析。因此，BE形貌分析效果远不及SE，故一般不用BE信号。16 当电子束入射重元素和轻元素时，其作用体积有何不同?各自产生的信号的辨别率有何特点?答：1.轻元素：电子束进入轻元素样品表面后会导致一种滴状作用体积。入射电子束在被样品吸取或散射出样品表面之前将在这个体积中活动。俄歇电子和二次电子因其自身能量较低以及平均自由程很短，只能在样品的浅层表面内逸出，在一般状况下能激发出俄歇电子的样品表层厚度约为0.5-2nm，激发二次电子的层深为5-10nm范畴。入射电子束进入浅层表面时，尚未向横向扩展开来，因此，俄歇电子和二次电子只能在一种和入射电子束斑直径相称的圆柱体内被激发出来，由于束斑直径就是一种成像检测单元（像点）的大小，因此这两种电子的辨别率就相称于束斑的直径。2.重元素：电子束入射重元素样品中时，作用体积不呈滴状，而是半球状。电子束进入表面后立即向横向扩展，因此在分析重元素时，虽然电子束的束斑很细小，也不能达到较高的辨别率，此时二次电子的辨别率和背散射电子的辨别率之间的差距明显变小。17二次电子像景深很大；样品凹坑底部都能清晰地显示出来，从而使图像的立体感很强，其因素何在?答：二次电子像立体感很强这是由于1）凸出的尖棱，小粒子以及比较陡的斜面处SE产额较多，在荧光屏上这部分的亮度较大。2）平面上的SE产额较小，亮度较低。3）在深的凹槽底部尽管能产生较多二次电子，使其不易被控制到，因此相应衬度也较暗。18. 要在观测断口形貌的同步，分析断口上粒状夹杂物的化学成分，选用什么仪器?用如何的操作方式进行具体分析?答：要在观测断口形貌的同步，分析断口上粒状夹杂物的化学成分，应选用配备有波谱仪或能谱仪的扫描电镜。具体的操作分析措施是：先扫描不同放大倍数的二次电子像，观测断口的微观形貌特性，选择并圈定断口上的粒状夹杂物，然后用波谱仪或能谱仪定点分析其化学成分（拟定元素的种类和含量）。19举例阐明电子探针的三种工作方式(点、线、面)在显微成分分析中的应用。答：（1）电子探针定点分析： 将电子束固定在要分析的微区上用波谱仪分析时，变化分光晶体和探测器的位置，即可得到分析点的X射线谱线；用能谱仪分析时，几分钟内即可直接从荧光屏（或计算机）上得到微区内所有元素的谱线（2）电子探针线分析： 将谱仪（波、能）固定在所要测量的某一元素特性X射线信号（波长或能量）的位置把电子束沿着指定的方向作直线轨迹扫描，便可得到这一元素沿直线的浓度分布状况。变化位置可得到另一元素的浓度分布状况。 （3）电子探针面分析： 电子束在样品表面作光栅扫描，将谱仪（波、能）固定在所要测量的某一元素特性X射线信号（波长或能量）的位置，此时，在荧光屏上得到该元素的面分布图像。变化位置可得到另一元素的浓度分布状况。也是用X射线调制图像的措施20. 电子探针仪与扫描电镜有何异同?电子探针仪如何与扫描电镜和透射电镜配合进行组织构造与微区化学成分的同位分析?答：相似点：（1） 两者镜筒和样品室无本质区别。（2） 都是运用电子束轰击固体样本产生的信号进行分析。 不同点：（1） 电子探针检测的是特性X射线，扫描电镜可以检测多种信号，一般运用二次电子信号进行形貌分析。（2） 电子探针得到的是元素分布的图像，用于成分分析；扫描电镜得到的是表面形貌的图像。电子探针用来成分分析，透射电镜成像操作用来组织形貌分析，衍射操作用来晶体构造分析，扫描电镜用来表面形貌分析。21. 波谱仪和能谱仪各有什么优缺陷?答：波谱仪：用来检测X射线的特性波长的仪器。能谱仪：用来检测X射线的特性能量的仪器。长处：（1）能谱仪探测X射线的效率高。 （2）在同一时间对分析点内所有元素X射线电子的能量进行测定和技数，在几分钟内可得到定性分析成果，而波谱仪只能逐个测量每种元素特性波长。 （3）构造简朴，稳定性和重现性都较好。 （4）不必聚焦，对样品表面无特殊规定，适于粗糙表面分析。缺陷：（1）辨别率低。 （2）能谱仪只能分析原子序数不小于11的元素，而波谱仪可测定原子序数从4到92之间的所有元素。 （3）能谱仪的Si（Li）探头必须保持在低温态，因此必须时时用液氮冷却。 22. 某多晶体的电镜衍射图中，有八个衍射环，R从小到大读数依次等于628、727、1029、1205、1257、1462、1587、1631mm，若该晶体属于立方晶系，能否判断该样品的点阵类型?答：衍射环半径平方之比为3:4:8:11:12:16:19:20，对面心点阵而言只有h、k、l为全奇或全偶时才干发生衍射，该比例符合面心立方的衍射规律，因此比该样品应为面心立方。23.透射电镜的电子光学系统（镜筒）涉及哪几种部分，分别指出电子枪、聚光镜、物镜、中间镜、投影镜和照相机各属于哪个部分；指出物镜光阑和选区光阑所在的位置。答：电子光学系统涉及照明部分、成像放大部分和显像部分。电子枪聚光镜属于照明部分，物镜、中间镜和投影镜属于成像放大部分，照相机属于显像部分。物镜光阑位于物镜的后焦面，选区光阑位于物镜的像平面。24.电磁透镜的像差涉及哪几种，分别阐明它们产生的因素及消除的措施。答：像差分为球差,像散,色差.球差是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的. 增大透镜的激磁电流可减小球差.像散是由于电磁透镜的周向磁场不非旋转对称引起的.使用附加弱磁场的电磁消象散器来矫正。色差是电子波的波长或能量发生一定幅度的变化而导致的. 使用薄试样和小孔径光阑将散射角大的非弹性散射电子挡掉，将有助于减小色散、 稳定加速电压和透镜电流可减小色差25.透射电镜中有哪些重要光阑，在什么位置？其作用如何？答：重要有三种光阑：聚光镜光阑。在双聚光镜系统中，该光阑装在第二聚光镜下方，作用：限制照明孔径角。物镜光阑。安装在物镜后焦面。作用：提高像衬度：减小孔径角，从而减小像差：进行暗场成像。选区光阑：放在物镜的像平面位置。作用：对样品进行微曲衍射分析。27.试分析位错线像总是出目前它的实际位置的一侧或另一侧的成因。答：位错的衬度是由位错线附近点阵畸变引起的，而位错线自身偏移矢量不发生变化，只有在其附近某处晶面的偏离矢量为0，产生位错线的像，从而偏离位错线的实际位置。27. 试分析位错线像总是出目前它的实际位置的一侧或另一侧的成因。如果(hkl)是由于位错线D而引起局部畸变的一组晶面,并以它作为操作反射用于成象.其该晶面于布拉格条件的偏移参量为S0,并假定S00,则在远离位错线D的区域(如A和C位置,相称于抱负晶体)衍射波强度I(即暗场中的背景强度).位错引起它附近晶面的局部转动,意味着在此应变场范畴内,(hkl)晶面存在着额外的附加偏差S.离位错线愈远, S愈小,在位错线右侧S0,在其左侧SS0,使衍衬强度IBI; 而在左侧,由于S0与S符号相反,总偏差S0+SS0,且在某个位置(例如D)碰巧使S0+S=0,衍射强度I D=Imax. 这样,在偏离位错线实际位置的左侧,将产生位错线的象(暗场中为亮线,明场相反).六、 扫描电镜的成像原理与透射电镜有何不同？请写出二种重要可以用作扫描电镜成像的信号，比较这二种信号成像时的辨别率有何不同？并用图示的措施解释引起辨别率差别的因素。答：扫描电镜运用电子束与样品作用激发多种物理信号，如俄歇电子，二次电子，背散射电子等，反映样品表面形貌，而透射电镜运用穿过样品的电子束的会聚等反映样品内部构造，二次电子，背散射电子，二次电子反映样品形貌衬度，背散射电子反映原子序数，二次电子信号的辨别率更高，如图所示，在入射电子轰击下，只有表层下510A0厚度内激发出的二次电子才有也许逸出表面，这样的深度内电子基本上还是按入射方向迈进，因此二次电子发射的广度与入射电子束直径相差不多，而被散射电子则否则，它是入射电子在试样内通过一次或几次大角度散射后离开试样表面的电子，具有较高能量，因此可以从试样较深部位射出，它在试用内部接近完全扩散广度较入射电子束直径大若干倍，因此二次电子像辨别率比背散射电子象高的多。七、 根据衍衬成像的运动学理论可知，衍射束强度为。试从衍衬运动学角度来解释在样品观测时，为什么会浮现等厚条纹现象？解：= 由上式得，在抱负晶体中，当偏离矢量为常数时，电子衍射强度随传播深度作余弦变化，在衬度相上观测到明暗相间的条纹，即等厚条纹。八、 根据衍衬成像的运动学理论可知，衍射束强度为。试从衍衬运动学角度来解释在样品观测时（当样品厚度不变），为什么会浮现等倾条纹现象？解：当样品厚度不变时，Ig随偏离矢量的变化，如图所示，随着绝对值的增大，Ig发生周期性的振荡，Ig有极大值，但随着绝对值增大，极大值峰强度迅速减小。 因此，在衍射像可观测到明暗相间的条纹，且峰值强度迅速削弱，条纹数目不会太多。（波线图没画）九、试比较电子衍射与X射线衍射的优缺陷。答：电子衍射与X射线衍射相比的长处：1、电子衍射能在同一试样上将形貌观测与构造分析结合起来。2、电子波长短，单晶的电子衍射把戏婉如晶体的倒易点阵的一种二维截面在底片上放大投影，从底片上的电子衍射把戏可以直观地辨认出某些晶体的构造和有关取向关系，使晶体构造的研究比X射线简朴。3、物质对电子散射重要是核散射，因此散射强，约为X射线一万倍，曝光时间短。局限性：电子衍射强度有时几乎与透射束相称，以致两者产生交互作用，使电子衍射把戏，特别是强度分析变得复杂，不能象X射线那样从测量衍射强度来广泛的测定构造。此外，散射强度高导致电子透射能力有限，规定试样薄，这就使试样制备工作较X射线复杂；在精度方面也远比X射线低。分别从原理、衍射特点及应用方面比较X射线衍射和透射电镜中的电子衍射在材料构造分析中的异同点。答：原理: X射线照射晶体，电子受迫振动产生相干散射；同一原子内各电子散射波互相干涉形成原子散射波；晶体内原子呈周期排列，因而各原子散射波间也存在固定的位有关系而产生干涉作用，在某些方向上发生相长干涉，即形成衍射。特点: 1）电子波的波长比X射线短得多2）电子衍射产生斑点大体分布在一种二维倒易截面内3）电子衍射中略偏离布拉格条件的电子束也能发生衍射4）电子衍射束的强度较大，拍摄衍射把戏时间短。应用：硬X射线合用于金属部件的无损探伤及金属物相分析，软X射线可用于非金属的分析。透射电镜重要用于形貌分析和电子衍射分析（拟定微区的晶体构造或晶体学性质）什么是双光束衍射？电子衍衬分析时，为什么规定在近似双光束条件下进行？答：假设电子束穿过样品后，除了透射束以外，只存在一束较强的衍射束精确地符合布拉格条件，其他的衍射束都大大偏离布拉格条件。作为成果，衍射把戏中除了透射斑以外，只有一种衍射斑的强度较大，其他的衍射斑强度基本上可以忽视，这种状况就是所谓的双光束条件。因素：在近似双光束条件下，产生强衍射，有助于对样品的分析
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