资源描述
、单项选择题(共249小题）1、 ,答案：A。Pro/E软件是（ ）将参数设计理论应用于实际工程的应用软件。A、第一套 B、第二套C、第三套 D、第四套2、 ,答案：d。Pro/E系统包括（ ）的三维软件。A、CAD B、CAD/CAMC、CAD/CAE D、CAD/CAM/CAE3、 ,答案：C。Pro/E有（ ）个数据库。A、4 B、2C、1 D、34、 ,答案：b。创建和编辑三维实体模型时用（ ）A、草绘模块 B、零件模块C、装配模块 D、曲面模块5、 ,答案：a。用于绘制和编辑二维平面草图时（ ）A、草绘模块 B、零件模块C、装配模块 D、曲面模块6、 ,答案：d。单击鼠标左键用于（ ）图形。A、平移图形 B、旋转C、放缩图形 D、选取7、 ,答案：b。（ ）是Pro/E软件的重要特色。A、参数化设计思想 B、特征建模的基本思想C、全相关的单一数据库 D、同步工程功能8、 ,答案：d。创建二维工程图用（ ）A、零件模块 B、零件装配模块C、曲面模块 D、工程图模块9、 ,答案：b。用于组装零件用（ ）A、草绘模块 B、零件装配模块C、曲面模块 D、工程图模块10、 ,答案：c。用于创建各种类型的曲面特征（ ）A、草绘模块 B、零件装配模块C、曲面模块 D、工程图模块11、 ,答案：a。Pro/MANUFACTURING的意思（ ）A、制造 B、模具设计C、布线系统 D、仿真12、 ,答案：a。建模过程中，以下哪项操作可以旋转图形（ ）A、按下鼠标中键 B、单击右键C、单击左键 D、shift+中键13、 ,答案：d。在零件建模中，若要平移图形，可进行如下哪项操作（ ）A、按下鼠标中 B、单击右键C、单击左键 D、shift+中键14、 ,答案：RetEncryption(B)。CAD是指（ ）。A、计算机辅助工程分析B、计算机辅助设计C、计算机辅助工艺过程设计D、计算机辅助制造15、 ,答案：d。Pro/E 2003的操作界面不包括（ ）A、视窗标题栏 B、下拉菜单C、导航栏 D、螺旋扫描16、 ,答案：d。在进行文件操作时，可使用快捷键或组合键进行操作，问“文件新建”可用以下哪项操作代替（ ）A、Ctrl+s B、Ctrl+oC、Ctrl+p D、Ctrl+N17、 ,答案：b。在进行文件操作时，可使用快捷键或组合键进行操作，问“文件打开”可用以下哪项操作代替（ ）A、Ctrl+s B、Ctrl+oC、Ctrl+p D、Ctrl+N18、 ,答案：c。在进行文件操作时，可使用快捷键或组合键进行操作，问“文件打印”可用以下哪项操作代替（ ）A、Ctrl+s B、Ctrl+oC、Ctrl+p D、Ctrl+N19、 ,答案：a。在进行文件操作时，可使用快捷键或组合键进行操作，问“文件保存”可用以下哪项操作代替（ ）A、Ctrl+s B、Ctrl+oC、Ctrl+p D、Ctrl+N20、 ,答案：d。模型树位于绘图区的（ ）A、上面 B、下面C、右边 D、左边21、 ,答案：a。下列命令中，存在于“视图”菜单中有（ ）A、可见性 B、新建C、打开 D、保存22、 ,答案：b。以下命令，存在于“文件”下拉菜单中有（ ）A、重画 B、新建C、着色 D、方向23、 ,答案：d。下列命令中，“文件”下拉菜单中没有的一项为（ ）A、新建 B、打开C、保存 D、草绘24、 ,答案：d。（ ）是用作用户和计算机信息交互的。A、视窗标题栏 B、下拉主菜单C、导航栏 D、信息提示区25、 ,答案：b。用于显示系统当前打开文件的名称的是（ ）A、下拉主菜单 B、视窗标题栏C、导航栏 D、信息提示区26、 ,答案：d。对用户当前的每一步操作用简明的文字说明的是（ ）A、下拉主菜单 B、视窗标题栏C、导航栏 D、命令解释区27、 ,答案：RetEncryption(C)。参数化设计是指参数化模型的尺寸是用参数变量和对应的关系来表示，而不许要确定的数值，如果一个参数值变化，所有与它相关的尺寸（ ）A、有时改变B、不改变C、自动改变D、不确定28、 ,答案：a。草绘指的是（ ）A、二维草绘 B、三维实体建模C、零件设计模块 D、加工设计模块29、 ,答案：d。以下哪一项不是二纬草绘的基本几何图元？A、直线 B、圆C、矩形 D、圆锥体30、 ,答案：b。proe系统三维实体造型的基础是（ ）A、装配模块 B、二维草绘模块C、三维实体模块 D、工程图模块31、 ,答案：c。以下哪一种不属于绘制圆的方法？（ ）A、通过选取圆心和圆上一点来创建圆 B、通过拾取三个点来创建圆C、创建同心弧 D、创建与三个图元相切的圆32、 ,答案：d。绘制圆的方法有几种？（ ）A、2 B、3C、4 D、533、 ,答案：c。创建和三个图元相切的圆时，选择图元的个数是（ ）A、1 B、2C、3 D、434、 ,答案：c。绘制锥形弧时，要依次点击几个点?A、1 B、2C、3 D、435、 ,答案：C。绘制文字时，如果要使输入文字为正向的，则绘制双点画线的方向为（ ）A、由左往右 B、由右往左C、由下往上 D、由上往下36、 ,答案：b。能够实现将图元在平面内平移的功能的选项是（ ）A、镜像几何图元 B、移动几何图元C、复制几何图元 D、旋转几何图元37、 ,答案：a。下面哪一项能将一个图元变为两个？（ ）A、复制几何图元 B、移动几何图元C、缩放几何图元 D、旋转几何图元38、 ,答案：b。要将一个图元分为两个，应该用以下哪一个功能？（ ）A、拐角 B、分割C、删除段 D、偏移39、 ,答案：b。以下哪一个约束能使两条线段长度相等。（ ）A、中心对称 B、等长约束C、平行约束 D、正交约束40、 ,答案：a。以下哪一项不属于长度标注？（ ）A、半径标注 B、线段长度标注C、两点距离标注 D、点与线之间距离的标注41、 ,答案：b。进行半径标注时，鼠标所选取的对象是（ ）A、圆心 B、圆C、半径 D、直径42、 ,答案：b。标注尺寸时，最终应单击哪个键确认尺寸标注？（ ）A、鼠标左键 B、鼠标中键C、鼠标右键 D、鼠标左键加右键43、 ,答案：d。能够实现两图元关于中心线对称功能的是（ ）A、复制几何图元 B、移动几何图元C、缩放几何图元 D、镜像几何图元44、 ,答案：d。将指定窗口切换为当前的活动窗口应该使用（ ）A、关闭窗口 B、最大化窗口C、恢复窗口 D、激活窗口45、 ,答案：c。要找回因为断电来不及保存的文件应该使用（ ）A、映射键 B、组件设置C、播放跟踪/培训文件 D、模型剖切46、 ,答案：d。在尺寸标注时，被选中的对象会变成（ ）A、绿色 B、紫色C、白色 D、红色47、 ,答案：c。以下哪种标注标注的是角度值？（ ）A、半径标注 B、直径标注C、角度标注 D、长度标注48、 ,答案：b。创建同心弧时，鼠标选取的对象是（ ）A、圆心 B、圆弧C、半径 D、直径49、 ,答案：b。绘制矩形时，鼠标点击点的个数为（ ）A、1个 B、2个C、3个 D、4个50、 ,答案：RetEncryption(B)。Pro/e有多个模块，当修改某一模块中的尺寸参数时，其他相关模块中的相关尺寸（ ）。A、有时改变B、不改变C、自动改变D、不确定51、 ,答案：RetEncryption(B)。以下命令，在“文件”下拉菜单中的有（ ）。A、重画 B、新建C、着色 D、方向52、 ,答案：RetEncryption(D)。以下命令，哪一项在“文件”下拉菜单中没有（ ）。A、新建B、 打开C、保存D、草绘53、 ,答案：RetEncryption(C)。Pro/E有（ ）个数据库。A、4 B、3 C、1 D、354、 ,答案：RetEncryption(C)。对于特征可进行距离测量操作，“测量-距离”的命令在以下哪个菜单中（ ）。 A、文件B、编辑C、分析D、插入55、 ,答案：RetEncryption(D)。对文件可执行文件保存、保存副本或另存为等操作，问对于保存副本命令以下哪项说法正确（ ）。A、只能更改文件名称B、只能更改文件保存路径C、只能更改文件名称、路径中的任意一个D、文件名称和路径都可以更改。56、 ,答案：RetEncryption(A)。Pro/E软件中有多个模块，问创建二维草绘要选择（ ）模块。A、草绘 B、零件 C、绘图 D、装配57、 ,答案：RetEncryption(A)。“保存副本”命令在以下哪个菜单下（ ）。A、文件 B、编辑 C、窗口 D、插入58、 ,答案：RetEncryption(B)。Pro/E有多个模块，问创建和编辑三维实体模型时用（）。 A、草绘模块 B、零件模块 C、装配模块 D、曲面模块59、 ,答案：A。在Pro/E系统中，特征分为（ ）A、实体特征、曲面特征、基准特征。 B、实体特征，放置实体特征、曲面特征C、基础实体特征、放置实体特征、基准特征。 D、实体特征、放置实体特征、基础实体特征。60、 ,答案：B。下面特征中属于基础实体特征的是（ ）A、圆孔 B、拉伸C、圆角 D、管道61、 ,答案：c。下列特征中属于放置实体特征的是（ ）A、旋转 B、拉伸C、圆角 D、扫描62、 ,答案：d。下列放置实体特征可以独立于基础实体特征而存在的是（ ）A、圆孔 B、倒角C、圆角 D、管道63、 ,答案：a。下列放置实体特征必须在已有实体特征上创建的是（ ）A、圆孔 B、管道C、部分扭曲特征 D、以上说法都不对64、 ,答案：d。下列特征中是通过添加材料生成放置实体特征的是（ ）A、圆孔 B、圆角C、倒角 D、筋65、 ,答案：a。选取已有实体特征表面作为草绘平面时（ ）A、必须是平面 B、必须是曲面C、可以是曲面 D、可以是曲面也可以是平面66、 ,答案：b。在进行草绘时，选取的“参考平面”与“草绘平面”之间的关系为（ ）A、平行 B、正交C、斜交 D、没有确定的关系要求67、 ,答案：b。创建基准平面时，若选取的参照其约束条件是“穿过”，则表明（ ）A、基准平面垂直于所选参照 B、基准平面穿过选定参照C、基准平面平行选定的参照 D、基准平面相切选定的参照68、 ,答案：a。创建基准平面时，若选取的参照其约束条件是“法向”，则表明（）A、基准平面垂直于所选取的参照 B、基准平面穿过选定的参照C、基准平面平行选定的参照 D、基准平面于选定的参照相切69、 ,答案：c。创建基准平面时，若选取的参照其约束条件是“平行”，则表明（ ）A、基准平面垂直于所选定的参照 B、基准平面穿过选定的参照C、基准平面平行于选定的参照 D、基准平面于选定的参照相切70、 ,答案：c。创建基准平面时，若选取的参照其约束条件是“偏移”，则表明（ ）A、基准平面垂直于所选的参照 B、基准平面穿过选定的参照C、基准平面由选定的参照平移所得到 D、基准平面相切于选定的参照71、 ,答案：c。创建基准平面时，若选取的参照其约束条件是“角度”，则表明（ ）A、基准平面垂直于所选的参照 B、基准平面穿过选定的参照C、基准平面由选定的参照旋转生成 D、基准平面相切于选定的参照72、 ,答案：d。创建基准平面时，若选取的参照其约束条件是“相切”，则表明（ ）A、基准平面垂直于所选定的参照 B、基准平面穿过选定参照C、基准平面由选定的参照旋转生成 D、基准平面相切于选定的参照73、 ,答案：RetEncryption(D)。以下哪一项不是二维草绘的基本几何图元。（ ） A、直线B、圆C、矩形D、圆锥体74、 ,答案：RetEncryption(C)。以下哪一种不属于绘制圆的方法？（ ） A、通过选取圆心和圆上一点来创建圆 B、通过拾取三个点来创建圆C、创建同心弧D、创建与三个图元相切的圆75、 ,答案：RetEncryption(B)。能够实现将图元在平面内平移的功能的选项是（）。 A、镜像几何图元 B、移动几何图元 C、复制几何图元 D、旋转几何图元76、 ,答案：RetEncryption(A)。下面哪一项能将一个图元变为两个？（）。A、复制几何图元B、移动几何图元C、缩放几何图元D、旋转几何图元77、 ,答案：RetEncryption(D)。螺旋扫描中螺距的定义既可以是常数也可以是变量。（） A以下不需要绘制中心线的操作为（）。 CA、草绘孔的截面B、旋转特征的草绘截面C、拉伸特征的草绘截面D、螺旋扫描外形线的绘制截面要生成装配件的默认分解视图，需要在装配模式下在主菜单中选择（ ）。视图-分解-分解视图B、文件-分解-分解视图C、编辑-分解-分解视图D、插入-分解-分解视图测量距离命令在“分析”菜单下在对特征进行“特征操作复制”过程中，以下哪项命令不能改变特征的形状尺寸（）A、新参考B、相同参考C、镜像D、移动 C在曲面操作过程中，利用其他曲面、曲线、基准平面等来切割另一个曲面，属于曲面编辑中的哪项命令（ ）A、加厚B、合并C、修剪D、延伸 C需要转化为实体的曲面模型必须完全封闭，不能有缺口，或曲面不能与实体表面相交，并组成封闭的曲面空间。（ ） A所有的曲面首先要合并成一个封闭的面组，才能对整体面组实体化。（ ） A对没有封闭的草绘截面进行拉伸操作时，其默认生成的特征为曲面。（ ） A1111螺旋截面的直径（或沿轨迹线方向的长度）应（ ）螺距。 A、大于等于 B、大于 C、小于 D、等于 C变截面扫描中，若各轨迹线的长度不同，则以长度（ ）的轨迹线确定扫描终点。A、最长 B、最短 C、最长或最短 D、不确定 B变截面扫描是多个截面沿多条轨迹线扫描。 A78、 ,答案：RetEncryption(B)。按住（ ）键并单击鼠标左键，可以同时选择多个项目。A 、ShiftB、CtrlC、Shift+CtrlD、Shift或Ctrl79、 ,答案：RetEncryption(D)。单击鼠标左键表示（）。A、平移图形B、旋转图形C、放缩图形D、选取80、 ,答案：RetEncryption(B)。绘制直线要选取（ ）个点。A、1 B、2C、3D、481、 ,答案：RetEncryption(B)。绘制中心线要选取（ ）个点。A、1B、2C、3D、482、 ,答案：RetEncryption(C)。3相切圆就是绘制与（ ）个图素相切的圆。 A、1 B、2 C、3 D、483、 ,答案：RetEncryption(D)。二维图形编辑包括（ ）。A、镜像、移动 B、镜像、复制 C、镜像、复制、移动 D、镜像、复制、移动、裁剪、缩放与旋转84、 ,答案：RetEncryption(B)。镜像是将图形以（ ）为基准进行对称复制。A、直线 B、中心线 C、圆弧 D、直线或中心线都可以85、 ,答案：RetEncryption(B)。进入草绘的途径有（ ）种方式。A、1 B、2 C、3 D、4 86、 ,答案：RetEncryption(D)。绘制同心圆时，要先选取已有的（），以确定所绘圆的中心。A、圆 B、圆弧 C、直线 D、圆或圆弧87、 ,答案：RetEncryption(B)。在草绘界面下，可以绘制（ ）种类型的倒圆角。A、1 B、2 C、3 D、488、 ,答案：RetEncryption(C)。在二维图形编辑中，不能镜像的图素是（ ）。A、直线 B、圆角 C、中心线 D、圆89、 ,答案：RetEncryption(A)。在二维编辑中，复制与旋转缩放操作方法类似，只是（ ）后原操作图形保留。A、复制 B、旋转 C、缩放 D、旋转与缩放90、 ,答案：RetEncryption(C)。在草绘中，裁剪几何图形有（ ）种形式。A、1 B、2 C、3 D、491、 ,答案：RetEncryption(B)。在标注尺寸时，用鼠标双击圆或圆弧，标注的是（）。A、半径 B、直径 C、半径或直径 D、半径和直径92、 ,答案：RetEncryption(B)。在标注尺寸时，按鼠标（ ）键放置尺寸。A、左 B、中 C、右 D、左右都可93、 ,答案：RetEncryption(B)。在草绘中，修改尺寸值有（ ）种方法。A、1 B、2 C、3 D、494、 ,答案：RetEncryption(A)。按下选取按钮，用鼠标拖动圆的圆心可以改变圆的（ ），拖动圆的边线可以改变圆的（ ）。A、位置 大小 B、位置 位置 C、大小 位置 D、大小 大小95、 ,答案：RetEncryption(B)。结构线（）作为实体或生成特征的边线。A、能 B、不能 C、有时能 D、不确定96、 ,答案：RetEncryption(C)。（ ）约束是使两图素相互垂直。A、垂直 B、水平 C、正交 D、相切97、 ,答案：RetEncryption(B)。进行对称约束，必须先画一条（ ）。A、直线 B、中心线 C、圆弧 D、直线或中心线都可以98、 ,答案：RetEncryption(A)。标注点到直线的距离，要单击（ ）。A、点和直线 B、点 C、直线 D、点或直线99、 ,答案：RetEncryption(C)。标注两条平行线的间距，要单击（ ）。A、点和平行线 B、点和直线 C、两平行线 D、两点100、 ,答案：RetEncryption(A)。标注线段长度，要单击（ ）。A、线段 B、两点 C、点 D、点和直线101、 ,答案：d。以下命令，哪一项不属于三维基础实体特征的创建方法（ ）A、拉伸 B、旋转C、扫描 D、放置筋板102、 ,答案：b。在进行拉伸操作中，以下哪项深度定义方式是让草绘截面位于拉伸实体深度的中间位置（）A、单方向拉伸 B、双方向拉伸C、拉伸到指定平面 D、拉伸到指定曲面103、 ,答案：d。以下哪一项不能用作拉伸时的草绘平面？（ ）A、系统默认的三个基准平面 B、新建的基准平面C、已建实体特征的平面 D、标准坐标系104、 ,答案：a。拉伸时，拉伸实体的方向能否改变？（ ）A、任何条件下都可以 B、任何条件下都不可以C、在特定条件下可以 D、不确定105、 ,答案：b。以去除材料的方式进行拉伸时，左下方工具条区域会出现几个改变方向的符号？（ ）A、1个 B、2个C、3个 D、4个106、 ,答案：a。创建旋转实体特征时，旋转轴可以是（ ）A、中心线 B、X轴C、Y轴 D、直线107、 ,答案：a。对于旋转实体的截面图形，以下说法正确的是（ ）A、图形必须是封闭的 B、图形可以开放也可以封闭C、图形可以绘制在中心线的两侧 D、图形必须是开放的108、 ,答案：d。如果要创建一个圆柱体，可以用以下哪种方法？（ ）A、旋转混合 B、可变剖面扫描C、一般混合 D、旋转109、 ,答案：d。扫描轨迹在被选中后变为（ ）A、绿色 B、紫色C、白色 D、红色110、 ,答案：c。以下哪种方法不能创建圆柱体？（ ）A、拉伸 B、旋转C、倒直角 D、恒定剖面扫描111、 ,答案：a。拉伸、旋转和扫描的共同特征是（ ）A、都是将草绘截面沿指定的轨迹曲线运动而成 B、都是固定截面沿直线运动生成的C、都是固定截面沿圆周运动生成的 D、都是固定截面沿曲线运动生成的112、 ,答案：D。以下哪种不是混合实体特征的创建方法？（ ）A、平行方式 B、旋转方式C、一般方式 D、扫描方式113、 ,答案：b。如果想让混合实体特征中各个截面之间采用样条曲线连接，那么应该选择（ ）选项。A、直的 B、光滑C、开放 D、闭合114、 ,答案：b。在绘制截面时，必须要放置坐标系的是（ ）A、平行混合 B、旋转混合C、拉伸 D、旋转115、 ,答案：a。在用去除材料方式拉伸实体时，表示去除材料方向的箭头颜色是（ ）A、黄色 B、红色C、绿色 D、蓝色116、 ,答案：RetEncryption(D)。第一个旋转实体的截面（ ）。A、有时需要封闭 B、必须不封闭 C、开放和封闭都行 D、必须封闭117、 ,答案：RetEncryption(C)。旋转曲面特征的截面（ ）。A、必须不封闭 B、必须封闭 C、封闭开放都可以 D、不确定118、 ,答案：RetEncryption(C)。扫描曲面特征的草绘截面（）。A、必须不封闭 B、必须封闭 C、封闭开放都可以 D、不确定119、 ,答案：RetEncryption(B)。旋转曲面特征的截面（ ）。A、必须开放 B、必须有中心线 C、草绘截面图形可与旋转轴线交叉 D、草绘截面在中心线两侧120、 ,答案：RetEncryption(B)。参考平面与草绘平面（ ）。A、平行 B、垂直 C、平行或垂直 D、不确定121、 ,答案：RetEncryption(B)。拉伸是沿着截面的（ ）方向移动截面，截面扫过的体积构成拉伸特征。A、平行 B、垂直 C、平行或垂直 D、平行和垂直122、 ,答案：RetEncryption(A)。对称拉伸方式，是在草绘的两侧以总拉伸深度的（ ）进行拉伸。 A、1/2 B、1倍 C、2倍 D、4倍123、 ,答案：RetEncryption(C)。扫描的轨迹线（ ）。A、必须封闭 B、必须开放 C、封闭和开放都可 D、必须有中心线124、 ,答案：c。以下哪种不属于放置实体特征？（）A、圆孔特征 B、倒圆角特征C、旋转特征 D、壳特征125、 ,答案：d。以下哪种不属于圆孔特征？（ ）A、简单孔 B、草绘孔C、标准孔 D、管道126、 ,答案：b。放置简单孔时，要选择的孔参考平面的个数是（ ）个。A、1 B、2C、3 D、4127、 ,答案：d。在绘图区中要连续选取多个图元时，必须按住哪个键才能继续选择？（ ）A、鼠标右键 B、鼠标中键C、shift D、ctrl128、 ,答案：a。在绘制实体零件时，长度单位应采用（ ）A、毫米 B、米C、分米 D、厘米129、 ,答案：c。创建标准孔时，表示标准螺纹类型的是（ ）A、UNC B、UNFC、ISO D、UFO130、 ,答案：c。ISO在创建螺纹孔时表示（ ）A、粗牙螺纹 B、细牙螺纹C、标准螺纹 D、左旋螺纹131、 ,答案：a。同一圆角特征的半径（）改变。A、能够 B、不能C、不可以 D、不确定132、 ,答案：b。创建倒角特征时，如果选择DXD选项，则倒角角度是（ ）A、30度 B、45度C、60度 D、90度133、 ,答案：b。创建倒角特征时，如果选择D1XD2选项，则输入的尺寸值为（ ）个A、1 B、2C、3 D、4134、 ,答案：c。拔模处理常用在（ ）行业。A、锻压 B、焊接C、铸造 D、热处理135、 ,答案：a。圆柱体曲面能否拔模？（ ）A、能够 B、不能C、不可以 D、不确定136、 ,答案：b。创建壳特征时，被选中的抽壳表面呈（ ）A、绿色 B、红色C、紫色 D、蓝色137、 ,答案：a。创建筋特征时，草绘截面是（ ）A、开放的 B、封闭的C、不确定 D、半开放半封闭138、 ,答案：c。圆孔特征能否单独创建？（ ）A、能够 B、可以C、不可以 D、不确定139、 ,答案：c。实体零件中时间的单位制是（ ）A、小时 B、分钟C、秒 D、天140、 ,答案：a。创建实体零件时的单位制是（ ）A、毫米、牛顿、秒 B、毫米、牛顿、分C、厘米、牛顿、秒 D、厘米、牛顿、分141、 ,答案：d。以下哪个不是孔的放置类型？（ ）A、线性 B、径向C、同轴 D、半径142、 ,答案：b。在创建标准螺纹孔时，单位应该（ ）A、不统一 B、统一C、默认 D、不确定143、 ,答案：c。在放置草绘孔时，应该选择（ ）A、零个参考平面 B、一个参考平面C、两个参考平面 D、三个参考平面144、 ,答案：b。倒圆角时，鼠标选择的对象是（ ）A、实体 B、要倒角的边C、边上的点 D、曲面145、 ,答案：c。拔模枢轴选择的对象是（ ）A、实体上的点 B、基准平面C、实体的一个平面 D、坐标系146、 ,答案：c。拔模角度的值为（ ）A、正值 B、负值C、可以为正，可以为负 D、依特定条件而定147、 ,答案：C。创建拐角倒角特征时，选择的边的条数为（ ）A、1 B、2C、3 D、4148、 ,答案：a。草绘圆孔特征中，截面图形的旋转轴是（ ）A、草绘中心线 B、草绘直线C、坐标轴 D、实体的一条边149、 ,答案：RetEncryption(B)。基准平面是一种（ ）维的平面。A、1 B、2 C、3 D、4150、 ,答案：RetEncryption(C)。Pro/E系统有（ ）个默认的基准平面。A、1 B、2 C、3 D、4151、 ,答案：RetEncryption(D)。新建基准平面使用以下哪个下拉菜单。A、文件 B、编辑 C、视图 D、插入152、 ,答案：RetEncryption(B)。在建立基准平面时，如果需要添加多个参照，应在鼠标选取的时候同时按下（ ）键。A、Shift B、Ctrl C、Tab D、Shift+Ctrl153、 ,答案：RetEncryption(A)。特征轴是（ ）。A、实体本身包含的特征 B、单独的特征 C、可以重新定义 D、可以单独删除154、 ,答案：RetEncryption(B)。基准轴是（ ）。A、实体本身包含的特征 B、单独的特征 C、不能重新定义 D、不能单独删除155、 ,答案：RetEncryption(C)。基准轴是（ ）。A、实体本身包含的特征 B、不能重新定义 C、单独创建生成 D、不能单独删除156、 ,答案：RetEncryption(D)。新建基准轴使用以下哪个下拉菜单（）。A、文件 B、编辑 C、视图 D、插入157、 ,答案：a。拉伸曲面特征的截面特点（ ）A、可以是封闭的也可以是不封闭的 B、必须是封闭的C、必须是不封闭的 D、以上说法都不对158、 ,答案：a。旋转曲面特征的截面特点（ ）A、可以是封闭的也可以是不封闭的 B、必须是封闭的C、必须是不封闭的 D、以上说法都不对159、 ,答案：a。不论是创建旋转曲面特征还是创建旋转实体特征，旋转轴线必须是（ ）A、中心线 B、直线C、样条曲线 D、以上说法都不对160、 ,答案：b。扫描曲面特征的截面和轨迹特点（ ）A、截面和轨迹必须都封闭 B、截面和轨迹可以都不封闭C、截面和轨迹的其中之一封闭 D、以上说法都不对161、 ,答案：c。在创建可变剖面扫描曲面特征时，用于生成扫描特征的轨迹曲线（）。A、只能1条 B、只能两条CC、可以多于三条 D、以上说法都不对162、 ,答案：d。不是通过曲面特征创建实体特征的（ ）。A、直接使用曲面特征来生成实体特征 B、使用曲面特征为边界移除实体材料C、使用曲面特征替换实体的指定表面 D、镜像曲面特征163、 ,答案：a。使用面组为边界移除实体材料时（ ）A、曲面边界必须完整的将实体分成两部分 B、曲面边界位于实体内部C、去面边界可位于内部也可位于外部 D、以上说法都不对164、 ,答案：c。使用曲面替换的方法创建实体特征时（ ）A、曲面边界必须完全在实体内部 B、去面边界必须完全在实体外部C、曲面边界必须与实体的边界对齐 D、以上说法都不对165、 ,答案：a。使用曲面生成实体特征时（ ）A、曲面必须是封闭的 B、曲面必须是不封闭的C、曲面可以封闭也可以不封闭 D、以上说法都不对166、 ,答案：A。创建曲面拔模特征时（ ）A、曲面必须是封闭的 B、曲面必须是不封闭的C、曲面可以封闭也可以不封闭 D、以上说法都不对167、 ,答案：d。曲面特征的裁剪方法不正确的是（ ）A、使用拉伸方法裁剪 B、使用旋转方法裁剪C、使用面组方法裁剪 D、使用混合方法裁剪168、 ,答案：a。下列操作指令中不用选中特征就能使用的（ ）A、拉伸 B、合并C、裁剪 D、延伸169、 ,答案：a。复制后的新特征与原有特征独立是指（ ）A、原有特征的尺寸修改不影响到新特征 B、原有特征的尺寸修改影响到新特征C、原有特征的尺寸修改可以影响也可以不影响新特征 D、以上说法都不对170、 ,答案：b。使用移动方式进行旋转特征的复制时的关键（ ）A、指定参照 B、指定旋转的轴线C、指定尺寸 D、指定实体171、 ,答案：a。创建阵列特征时，输入阵列成员数（ ）A、包括了原有特征 B、不包括原有特征C、可以包括也可以不包括 D、以上说法都不对172、 ,答案：c。模型树窗口中的编辑选项（ ）A、用于删除选定的项目 B、用于隐藏选定的项目C、对所选取的项目进行编辑 D、对所选取的项目进行重命名173、 ,答案：c。模型树窗口中的编辑定义选项（ ）A、用于删除选定的项目 B、用于隐藏选定的项目C、对所选取的项目进行重定义编辑 D、对所选取的项目进行重命名174、 ,答案：d。模型树窗口中的重命名选项（ ）A、用于删除选定的项目 B、用于隐藏选定的项目C、对所选取的项目进行重定义编辑 D、对所选取的项目进行重命名175、 ,答案：c。尺寸阵列分为（ ）A、只有平移阵列 B、只有旋转尺寸阵列C、平移尺寸阵列和旋转尺寸阵列 D、以上说法度都不对176、 ,答案：c。平移阵列包括（ ）A、只有单项阵列 B、只有双向阵列C、单项阵列和双向阵列 D、以上说法都不对177、 ,答案：b。当选取多个表面时，必须按住（ ）A、shift B、ctrlC、空格 D、Enter178、 ,答案：RetEncryption(D)。以下为放置实体特征的是（ ）。A、拉伸特征 B、旋转特征 C、混合特征 D、孔特征179、 ,答案：RetEncryption(D)。孔特征的尺寸包括孔的（ ）。A、直径 B、深度 C、直径或深度 D、直径和深度180、 ,答案：RetEncryption(D)。孔特征有（ ）种防置方式。A、1 B、2 C、3 D、4181、 ,答案：RetEncryption(A)。孔特征的径向放置方式，标注的是孔相对参考轴的（ ）。A、半径 B、直径 C、半径或直径 D、不确定182、 ,答案：RetEncryption(B)。孔特征的直径放置方式，标注的是孔相对参考轴的（ ）。A、半径 B、直径 C、半径或直径 D、不确定183、 ,答案：RetEncryption(A)。在创建草绘孔时，其草绘平面必须具有（ ）。A、中心线 B、垂直线 C、直线 D、水平线184、 ,答案：RetEncryption(B)。在创建草绘孔时，其截面图形必须（ ）。A、开放 B、封闭 C、开放或封闭 D、不确定185、 ,答案：RetEncryption(C)。在圆弧面上创建孔，只能采用（ ）放置方式。A、线性 B、同轴 C、径向 D、直径186、 ,答案：RetEncryption(B)。在倒圆角时，若要使选取的多条边属于同一设置，可按住（ ）。A、Shift B、Ctrl C、Tab D、Shift+Ctrl187、 ,答案：RetEncryption(B)。完全倒圆角（ ）输入圆角半径。A、需要 B、不需 C、有时需要 D、不确定188、 ,答案：RetEncryption(B)。Pro/E提供了（ ）种倒角功能。A、1 B、2 C、3 D、4189、 ,答案：RetEncryption(B)。壳特征属于（ ）特征。A、基础实体 B、放置实体 C、基准 D、基础和放置实体190、 ,答案：RetEncryption(A)。孔的草绘平面必须具有与旋转轴相（ ）的图素。A、垂直 B、平行 C、垂直或平行 D、垂直和平行191、 ,答案：RetEncryption(C)。特征复制中的移动包括（ ）。A、平移 B、旋转 C、平移和旋转 D、平移或旋转192、 ,答案：RetEncryption(D)。尺寸阵列可以作为驱动尺寸的有（ ）。A、线性尺寸 B、角度尺寸 C、线性尺寸或角度尺寸 D、线性尺寸和角度尺寸193、 ,答案：RetEncryption(B)。阵列的个数（ ）原始特征在内。A、不包含 B、包含 C、有时包含 D、不确定194、 ,答案：RetEncryption(A)。（ ）特征不能移到（ ）特征之（ ）。A、子 父 前 B、子 父 后 C、父 父 前 D、子 子 前195、 ,答案：RetEncryption(A)。（ ）特征不能移到（ ）特征之（ ）。A、父 子 后 B、子 父 后 C、父 父 前 D、子 子 前196、 ,答案：RetEncryption(B)。特征操作在以下哪个菜单下（ ）。A、文件 B、编辑 C、窗口 D、插入197、 ,答案：RetEncryption(B)。视图管理器在以下哪个菜单下（ ）。A、文件 B、视图 C、窗口 D、插入198、 ,答案：RetEncryption(D)。镜像拉伸特征时，需要选择（ ）作为镜像参考。A、中心线 B、曲面 C、轴线 D、基准平面199、 ,答案：B。装配设计主要有（）两种方法。A、由底向下和由顶向下的装配设计 B、由底向上和由顶向下的装配设计C、由底向上和由顶向上的装配设计 D、由底向下和由顶向上的装配设计200、 ,答案：a。空间定位约束中，匹配约束选项是将空间两个平面定位于一个平面上，并且这两个平面的法线方向（）。A、相反 B、相同C、相反和相同 D、相反或相同201、 ,答案：b。空间定位约束中，对齐约束选项是将空间两个平面定位于一个平面上，并且这两个平面的法线方向（）。A、相反 B、相同C、相反和相同 D、相反或相同202、 ,答案：a。将空间两个平面定位于一个平面上，并且这两个平面的法线方向相反，是哪种空间定位约束类型（）A、匹配 B、对齐C、插入 D、相切203、 ,答案：b将两个平面定位于一个平面上，并且这两个平面的法线方向相同，是哪种空间定位约束类型（）A、匹配 B、对齐C、插入 D、相切204、 ,答案：c。在装配模块中，若要快速放置零件，对零件进行包装，应使用的命令是（）A、插入元件装配 B、插入元件创建C、插入元件封装 D、插入元件包括205、 ,答案：d。为了将轴插入到孔中，通常选用的空间约束选项为（）A、匹配 B、偏移匹配C、对齐偏移 D、插入206、 ,答案：c。（）约束是将两个旋转特征的轴线对齐。A、匹配 B、曲面上的点C、插入 D、相切207、 ,答案：a。零件在装配件中的放置状态有（）A、没有约束、部分约束、完全约束三种 B、没有约束、完全约束两种C、部分约束、完全约束两种 D、完全约束一种208、 ,答案：c。由零件设计意图到组件装配体设计意图再到装配体设计意图的设计装配方式为（）A、由顶向下的装配设计方式 B、由顶向上的装配设计方式C、由底向上的装配设计方式 D、由底向下的装配设计方式209、 ,答案：a。由装配体设计意图到组件装配体设计意图再到零件设计意图的设计装配方式为（）A、由顶向下的装配设计方式 B、由顶向上的装配设计方式C、由底向上的装配设计方式 D、由底向下的装配设计方式210、 ,答案：D。自顶向下的设计过程的最末端是（），它们可以建立在它们所属的最低级的部件内。A、装配体 B、组件C、装配体和组件 D、零件211、 ,答案：d。在装配件中，没有完全确定放置位置的零件的移动类型有哪些（）A、平移 B、旋转C、调整 D、平移、旋转、调整212、 ,答案：b。在Pro/e里，要进入装配模块，需要选择（）模式。A、零件 B、组件C、制造 D、绘图213、 ,答案：b。在Pro/e里，要进入装配模块，在新建对话框里选择的类型是（）A、零件 B、组件C、制造 D、绘图214、 ,答案：a。参数化装配体的元件是（）A、完全约束 B、自由放置C、部分约束 D、没有约束215、 ,答案：d。在Pro/e里，要生成零件的装配布局，在新建对话框里需要的类型是（）A、零件 B、组件C、制造 D、布局216、 ,答案：a。要将零件声明到生成的布局中，使用的命令是（）A、文件声明 B、编辑声明C、插入元件 D、编辑元件217、 ,答案：a。在Pro/e里，要生成装配件的骨架模型，在新建对话框里需要的类型是（）A、零件 B、组件C、制造 D、布局218、 ,答案：a。要生成装配件的默认分解视图，需要在装配模式下在主菜单中选择（）A、视图分解分解视图 B、文件分解分解视图C、编辑分解分解视图 D、插入分解分解视图219、 ,答案：d。利用骨架图生成装配件的方法，实质上属于（）A、由底向下的装配设计 B、由底向上的装配设计C、由顶向上的装配设计 D、由顶向下的装配设计220、 ,答案：c。先根据设计初期的设计轮廓制定产品的装配布局关系，然后根据设计好的装配布局关系进行装配的设计方法是（）A、由底向下的装配设计 B、由底向上的装配设计C、由顶向下的装配设计 D、由顶向上的装配设计221、 ,答案：b。在工程图中，比例选项允许用户为视图指定一个显示比例，这个选项可使用于以下哪种视图。()A、辅助视图 B、一般视图C、投影视图 D、旋转视图222、 ,答案：c。在工程图中，下列哪种视图可以进行比例设置。（）A、辅助视图 B、投影视图C、详细视图 D、旋转视图223、 ,答案：c。在进行视图的移动时，一般视图可沿着移动的方向为（）A、上下 B、左右C、任意 D、上下左右224、 ,答案：A。进入工程图模式后，要生成工程图，使用的命令是（）A、插入绘图视图 B、编辑绘图视图C、文件绘图视图 D、视图绘图视图225、 ,答案：b。在工程图中，投影视图可沿着（）方向进行移动。A、任意 B、投影观察方向C、上下 D、左右226、 ,答案：b。工程图中，随着任何一个视图的变化，其他视图（）。A、不变 B、随之改变C、变大 D、不定227、 ,答案：b。以下视图不遵守投影规则的是（）。A、辅助视图 B、详细视图C、投影视图 D、部分视图228、 ,答案：a。对于投影视图，若要创建俯视图，需要在父视图的哪个方向放置。（）A、下方 B、上方C、左面 D、右面229、 ,答案：a。对于投影视图，俯视图可沿着哪个方向移动。（）A、上下 B、左右C、任意 D、上下左右230、 ,答案：d。采用第一视角创建投影视图，若要创建左视图，需要在父视图的哪个方向放置。（）A、下方 B、上方C、左面 D、右面231、 ,答案：c。在建立剖视图时，定义剖截面时，在视图中要选择一个平面作为剖截面，剖截面必须在生成截面图的视图中与屏幕（）。A、垂直 B、垂直或平行C、平行 D、平行和垂直232、 ,答案：b。工程图严格地与零件的三维实体模型相关，三维实体模型改变，平面工程图（）。A、不变 B、随之改变C、不定 D、变大233、 ,答案：d。在工程图中，要显示零件的尺寸，使用的命
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