透射电镜成像分析课件

单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,*,单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,*,概述,光学显微镜及扫描电镜均只能观察物质表面的微观形貌，无法获得物质内部的信息。,透射电镜入射电子透射试样后，将与试样内部原子发生相互作用，从而改变其能量及运动方向。显然，不同结构有不同的相互作用。这样，就可以根据透射电子图像所获得的信息来了解试样内部的结构。,由于试样结构和相互作用的复杂性，因此所获得的图像也很复杂。它不像表面形貌那样直观、易懂。,概述,如何对一张电子图像获得的信息作出正确的解释和判断，不但很重要，也很困难。必须建立一套相应的理论才能对透射电子像作出正确的解释。如前所述电子束透过试样所得到的透射电子束的强度及方向均发生了变化，,由于试样各部位的组织结构不同，因而透射到荧光屏上的各点强度不均匀，这种强度的不均匀分布现像就称为,衬度,，所获得的电子像称为,透射电子衬度像,概述,衬度（,contrast,）定义：两个相临部分的电子束强度差,当电子逸出试样下表面时，由于试样对电子束的作用，使得透射到荧光屏上的强度不均匀，这种强度不均匀的电子像称为,衬度像,四种衬度,质量厚度衬度:,由于非晶样品不同微区间存在的原子序数或厚度的差异而形成的衬度.,衍射衬度:,衍射衬度是由于晶体薄膜的不同部位满足布拉格衍射条件的程度有差异而引起的衬度,相位衬度:,电子束照射薄试样，试样中原子核和核外电子产生的库伦场会使电子波的相位有起伏，如果把这个相位变化转变为像衬度，则称为相位衬度,。,原子序数衬度:,由于试样表面物质原子序数（或化学成分）差别而形成的衬度。利用对试样表面原子序数（或化学成分）变化敏感的物理信号作为显像管的调制信号，可以得到原子序数衬度图像。,概述,金属材料中存在大量的缺陷，如：空位、杂质原子、位错、层错等，它们与金属材料中的扩散、相变、再结晶、塑性变形等密切相关,金属薄膜可以薄到,2000,以下，足以让电子束穿过成像，因此，可以将内部结构显示出来,铝合金,铜铝硅金属化薄层,应用举例金属组织观察,.8 m,1 m,应用举例 Si纳米晶的原位观察,纳米金刚石的高分辨图像,3.4.1,薄膜样品的制备,透射电镜在材料研究中所用的试样分三类：,超显微颗粒样品,试样的表面复型样品,薄膜样品,透射电镜常用的,75200KV,加速电压，样品厚度控制在,100200 nm,3.4.1,薄膜样品的制备,由金属材料本身制成的金属薄膜样品具有以下优点：,（,1,）观察和研究金属与合金的内部结构和缺陷，将同一微区进行衍衬成像及电子衍射研究，把相变与晶体缺陷联系起来,（,2,）进行动态观察，研究在变温情况下相变的行核和长大过程,3.4.1,薄膜样品的制备,金属薄膜制备的基本要求：,薄膜应对电子束“透明”,制得的薄膜应与大块样品保持相同的组织结构,薄膜样品应具备一定的强度和刚度,样品样品表面没有氧化和腐蚀,金属薄膜样品的制备过程：,线切割,-,机械研磨,-,化学抛光,-,电解抛光最终减薄,3.4.1,薄膜样品的制备,3.4.1,薄膜样品的制备,非金属薄膜样品的,制备：,复型：,将试样表面组织浮雕复制到一种很薄的膜上，然后把复制的薄膜（复型）放到电镜中去观察分析。,复型的分类：,一级塑料复型,一级碳复型,二级碳复型,萃取复型,一级复型：,样品表面清洗，然后贴AC纸，此过程反复进行几次清洁试样表面，最后一片AC纸即为塑料一级复型,塑料一级复型的制备,碳一级复型的制备,一级复型,碳复型,复型像示意图,复型像强度分布,二级复型,塑料-碳二级复型技术：,一级复型面朝上贴于胶带纸上,对一级复型限先镀重金属，再镀碳,将复合复型与铜网修型后投入丙酮溶液后，将碳膜连同铜网吸干水分、干燥。,萃取复型和粉末样品,萃取复型的意义:如实的复制样品表面的形貌，又可把细小的第二相颗粒（如金属间化合物、碳化物、非金属夹杂物）从腐蚀的金属表面萃取出来，嵌在复型中，被萃取出的细小颗粒的分布与它们在样品中的分布完全相同。萃取出来的颗粒具有相当好的衬度，可在电镜下做电子衍射分析,萃取复型和粉末样品,萃取复型最常见的两种是：,碳萃取复型,火棉胶-碳二次萃取复型,3.4.2,质厚衬度原理,质厚衬度的前提：,非晶体试样中原子对入射电子的散射和电镜小孔径角成像（依靠衬度光阑）,试样各部分对电子束散射本领的不同，经衬度光阑的作用后，在荧光屏上产生了放大的强度不一的像。,3.4.2,质厚衬度原理,1,.复型试样,2.铜网孔平面,3.物镜,4.衬度光阑,5.荧光屏,质厚衬度成像示意图,3.4.2,质厚衬度原理,若试样厚度处处相等，则不同部位的原子质量差异越大，衬度越高,若试样厚度处处相等，而其本身又是同种原子组成，则衬度G=0,衍衬成像原理,衍衬成像,:,入射电子束与样品内各晶面相对取向不同所导致的衍射强度的差异,当电子束穿过晶体薄膜时，严格满足布拉格条件的晶面产生强衍射束，,不严格满足布拉格条件的晶面产生弱衍射束，,不满足布拉格条件的晶面不产生衍射束。,3.4.3,衍衬成像原理,假设薄膜只有两颗位向不同的晶粒A和B,在入射电子束的照射下，B晶粒的某（hkl）,晶面组恰好与入射方向成精确的布拉格角,，而其余的晶面组均与衍射条件存在较大的偏差。,此时，在,B,晶粒的选区衍射花样中，,hkl,斑点特别亮，也即,hkl,晶面的衍射束特别强,I,A,I,0,I,B,=I,0,-I,hkl,物镜,后焦面,光阑,样品,入射束I,0,B,A,明场像,2,当在物镜的后焦面上加入衬度光阑（物镜光阑），把,B,晶粒的,hkl,衍射束挡掉，而只让透射束通过光阑并到达像平面，构成样品的第一幅放大像，此时，两颗晶粒的像亮度由所不同,I,A,I,0,因为与,B,晶粒不同位向的,A,晶粒内所有晶面组均与布拉格条件存在较大的偏差，即在选区衍射花样中将不出现任何强斑点，或者说其所有的衍射束的强度均可视为零,I,B,=I,0,-I,hkl,此时，,B,晶粒较暗，而,A,晶粒较亮,3.4.3 衍衬成像原理,I,A,I,0,物镜,后焦面,光阑,样品,入射束I,0,B,A,明场像,2,I,B,=I,0,-I,hkl,3.4.3,衍衬成像原理,若以未发生强烈衍射的,A,晶粒亮度,I,A,作为图像的背景强度,I,，则,B,晶粒的像衬度为：,（,I/I,）,=,（,I,A,-I,B,）,/I,0,I,hkl,/I,0,让透射束通过物镜光阑而把衍射束挡掉得到图像衬度的方法,-,明场像（,BF,）,3.4.3,衍衬成像原理,若将光阑孔套住,hkl,而把透射束挡掉，就可以得到,-,暗场像（,DF,）,把入射电子束倾斜,2,角，使,B,晶粒的,hkl,晶面出在强烈衍射的方向，而光阑仍在光轴位置，此时只有,B,晶粒的,hkl,衍射束正好通过光阑孔，而透射束被挡掉，此方法称,-,中心暗场像（,CDF,）,中心暗场像,暗场像,3.4.3,衍衬成像原理,此时，,B,晶粒的亮度,I,B,I,hkl,A,晶粒在该方向的散射强度极小，,A,晶粒的亮度,I,A,0,图像的衬度特征正好与明场像相反，,B,晶粒较亮而,A,晶粒较暗，显然，暗场像的衬度明显高于明场像,必须指出：,只有晶体试样形成的衍衬像才存在明、暗场像之分，其亮度是明暗反转的。,它不是表面形貌的直观反映，是入射电子束与晶体试样之间相互作用后的反映,衍衬成像原理,衍衬成像原理,课堂练习,明场像和暗场像如何区分？两者依赖哪种成像理论？,