Tanner L-Edit讲座

Tanner L-Edit讲座ASIC Training Center L-Edit is a layout tool that uses elements drawn on layers to represent the masks that are used to fabricate an integrated circuit.Layers are represented by different colors and patterns.Cells and Instances:The Basic Building BlocksL-Edit Modules!L-Edit:a layout editor!L-Edit.SPR:an automatic standard cell placement and routing package!L-Edit.BPR:an automatic block place and route package!L-Edit.Extract:a layout extractor!L-Edit.DRC:a design rule checker!LVS:a layout versus schematic netlist comparison toolL-Edit:An Integrated Circuit Layout Tool Menu bar(adjoined to the title bar)Standard toolbar Editing toolbar Drawing toolbar Verification toolbar Layer palette Status Bar Mouse button barLayout area Command line interface界面基本布局界面基本布局编辑绘图菜单的使用lDraw Nibble 淘空lDraw Merge 融合lDraw Slice Horizontal水平切割lDraw Slice Vertical垂直切割lEditObject(s)编辑对象lEditDuplicate复制lDrawNudge 轻推设计参数的设置SetupDesignl该对话框共有六页，分别是：Technology(工艺参数)、Grid(网格参数)、Selection(选择参数)、Drawing(绘图参数)、Curves(曲线参数)、Xref files(外部交叉引用参数)l网格分为显示网格、鼠标网格（跳跃、平滑）、定位器网格设计规则的作用l设计规则规定了生产中可以接受的几何尺寸的要求和达到的电学性能。l对设计和制造双方来说，设计规则既是工艺加工应该达到的规范，也是设计必循遵循的原则l设计规则表示了成品率和性能的最佳折衷设计规则的设置(一)、设计的类型l Minimum Widthl Exact Width l Not Exist l Spacing l Surround l Overlap l Extension l Density（1）Minimum Width该层上所有object在任意方向上的宽度(2)Exact width该层上所有object在特定方向上的准确宽度（3）Not Exist在指定的层上，所有object都不能存在.这是唯一不含距离的规则（4）Spacing在指定的层上或者在指定的两层之间的object的最小间距（5）Surround一个层上的物体，在每个方向上，被另一层上的物体至少要环绕x各单位（6）Overlap一个层上的物体必须与另一个层上的物体交叠的最小尺寸。Objects which overlap more than the specified distance orwhose edges coincide are not considered in violation of overlap rules.重叠大于规定距离或边缘重合都不算违规（7）Extension一个层上的物体必须超过另一个层上的物体的边界的最小尺寸。当：距离超过指定数字、只有一边刚好重合，其他都在物体之外、被完全surround 的时候，不算是违背规则（8）DensityThe density rule finds and flags objects on the derived density layer specified in Layer1.The layer specified must be a Density type derived layer.Violations to the rule include any polygons output to a density layer.按照规则，查找按照规则，查找layer1下拉选框中制定的密度推导层中下拉选框中制定的密度推导层中的对象，并对其加以标志。的对象，并对其加以标志。Layer1下拉选框中制定的下拉选框中制定的图层必须是密度类型的推导层。如有多变性输出到密图层必须是密度类型的推导层。如有多变性输出到密度层，就构成违规。度层，就构成违规。（二）例外情况的忽略（ignore）采用此来设置一些可以忽略的情况，对于特定的规则设置才有用。Coincidences 边界一致的可以被忽略边界一致的可以被忽略.SurroundIntersections 物体之间交叉的物体之间交叉的 .Surround、If layer 2 completely encloses layer 1 Spacing45 degree acute angles 物体部分包括 45(或更小）Minimum width Spacing Surround(三)本课程所用规则的设计-1lp阱之间间距20um.Pwell to pwell spacing=20umlP阱对有源区的最小覆盖10um p-well surround active=10uml有源区最小宽度10um Active minium width=10uml有源区最小间距10umActive to Active Spacing=10um(三)本课程所用规则的设计-2l多晶硅条最小宽度5 umPoly minum width=5 uml多晶硅条最小间距5 umpoly to poly spacing=5 uml离子注入区对有源区最小覆盖10 ump-select surround active=10 um n-select surround active=10uml铝引线孔7.5*7.5 um*umMetal1 Contact Exact Size=7.5um(三)本课程所用规则的设计-3l铝条最小宽度10um Metal1 Minimum Width=10uml铝条间距最小10umMetal1 to Metal1 Spacing=10uml铝条对铝引线孔最小覆盖2.5umMetal1 surround Contact=2.5uml引线孔距扩散区最小距离5umMetal1 Contact to P-Select spacing=5umMetal1 Contact to N-Select spacing=5um(三)本课程所用规则的设计-4l铝引线孔距多晶硅最小距离5umMetal1 Contact to Poly spacing=5uml多晶硅对引线孔的最小覆盖2.5umPoly surround Metal Contact=2.5uml压焊点100*100um*um,压焊点距电路30um