光学薄膜工艺基础知识培训

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资源描述

宏观反映在膜层折射率、散射、应力、附着力和硬度都会因基片温度的不同而有较大差异。十. 镀后烘烤处理有助于应力释放和环境气体分子及膜层分子的热迁移，可使膜层结构重组。因此，可使膜层折射率、应力、硬度有较大改变。以上所述的10个工艺因素对膜层性能的影响，是依据实际工艺项目和膜层宏观性能统计汇总得出的。工艺因素对膜层性能的影响，主要集中在四类工艺因素对膜层四种性能的作用上：显然，成膜原子/分子迁移能和凝聚力的大小，几乎对膜层的所有性能都有影响。因此，PVD技术的发展，几乎都是针对提高成膜粒子迁移能，凝聚力而进行的。

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